CN110221375B - 层叠膜 - Google Patents

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CN110221375B CN201910154803.5A CN201910154803A CN110221375B CN 110221375 B CN110221375 B CN 110221375B CN 201910154803 A CN201910154803 A CN 201910154803A CN 110221375 B CN110221375 B CN 110221375B
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    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements

Abstract

本发明提供在剥离保护膜后的相位差膜中不易产生相位差不均的层叠膜。本发明的层叠膜(1)的特征在于,其具备:在基材膜(5)上具有液晶相位差层(3)的相位差膜(20)、以及按照能够剥离的方式贴合在该液晶相位差层(5)上的保护膜(7),该液晶相位差层(3)的与保护膜(7)接触的面的算术平均波度值Wa为70nm以下。

Description

层叠膜
技术领域
本发明涉及层叠膜,详细而言,涉及具备在基材膜上具有相位差层的相位差膜以及按照能够剥离的方式贴合在该相位差层上的保护膜的层叠膜。
背景技术
作为具有1/4相位差层等相位差层的相位差膜,例如专利文献1〔日本特开2016-40603的尤其是段落0163等〕中公开了在基材上具有使聚合性液晶化合物聚合固化而得的液晶相位差层的相位差膜,还公开了为了抑制该相位差膜的运送时的皱褶或卷曲而按照能够剥离的方式贴合保护膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-40603(尤其是段落0163等)
发明内容
发明要解决的课题
但是,已知将保护膜贴合于在基材膜上具有液晶相位差层的相位差膜的液晶相位差层上而成的层叠膜在剥离保护膜后的相位差膜中容易产生相位差不均。
为此,本发明人为了开发在剥离保护膜后不易产生相位差不均的层叠膜而进行了深入研究,结果完成了本发明。
用于解决课题的手段
即,本发明提供一种层叠膜,其是具备在基材膜上具有液晶相位差层的相位差膜以及按照能够剥离的方式贴合在上述液晶相位差层上的保护膜的层叠膜,其特征在于,
上述液晶相位差层的与上述保护膜接触的面的算术平均波度值Wa为70nm以下。
发明的效果
根据本发明的层叠膜,在剥离保护膜后的相位差膜中不易产生相位差不均。
附图说明
图1为示意性表示本发明的层叠膜的一例的剖面构成的剖视图。
图2为示意性表示从本发明的层叠膜剥离保护膜而得的相位差膜的一例的剖面构成的剖视图。
图3为示意性表示由本发明的层叠膜得到的偏振板的一例的剖面构成的剖视图。
附图标记说明
1:层叠膜
3:液晶相位差层
4:偏振片
6:粘合剂层
5:基材膜
7:保护膜
10:粘接剂层
20:相位差膜
具体实施方式
如图1的剖视图所示,本发明的层叠膜(1)具备相位差膜(20)。该相位差膜(20)在基材膜(5)上具有液晶相位差层(3)。
〔基材膜〕
作为基材膜(5),通常使用由树脂形成的树脂膜。作为形成基材膜的树脂,可列举例如甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚烯烃系树脂、环状烯烃系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系树脂、苯乙烯系树脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯系树脂、丙烯腈-苯乙烯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚缩醛系树脂、聚碳酸酯系树脂、改性聚苯醚系树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚芳酯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂及聚酰亚胺系树脂等。
这些树脂可以单独使用或组合使用2种以上。另外,这些树脂也可以进行任意且适合的聚合物改性后再使用,作为该聚合物改性,可列举例如共聚、交联、分子末端改性、立构规整性控制及包括伴有异种聚合物之间的反应这一情况的混合等改性。
其中,作为树脂,优选使用甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚烯烃系树脂或纤维素系树脂。在此所说的聚烯烃系树脂包含链状聚烯烃系树脂及环状聚烯烃系树脂。
另外,树脂也可以根据需要而含有添加剂。作为添加剂,可列举例如润滑剂、防粘连剂、热稳定剂、抗氧化剂、抗静电剂、耐光剂、耐冲击性改良剂等。
由这些树脂形成的树脂膜可以为:将作为原料的树脂制膜而得的无拉伸膜;在制膜后实施横向拉伸、纵向拉伸等单轴拉伸处理而得的单轴拉伸膜;实施逐次双轴拉伸处理、同时双轴拉伸处理等双轴拉伸处理而得的双轴拉伸膜等,所述逐次双轴拉伸处理在制膜后进行纵向拉伸、接着进行横向拉伸或者进行横向拉伸、接着进行纵向拉伸;所述同时双轴拉伸处理同时进行纵向拉伸及横向拉伸。
作为基材膜使用的膜能够容易地获得市售品,如果是甲基丙烯酸甲酯系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的SUMIPEX(住友化学株式会社制)、Acrylite(注册商标)、Acryprene(注册商标)(以上为三菱丽阳株式会社制)、Delaglas(注册商标)(旭化成株式会社制)、Paraglas(注册商标)、Comoglas(注册商标)(以上均为株式会社可乐丽制)、以及ACRYVIEWA(注册商标)(株式会社日本触媒制)等。如果是聚烯烃系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的ZEONOR(注册商标)(日本ZEON株式会社)、ARTON(注册商标)(JSR株式会社)等。如果是聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的Novaclear(注册商标)(三菱化学株式会社制)及帝人A-PET SHEET(帝人化成株式会社制)等。如果是聚丙烯系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的FILMAX CPPFILM(FILMAX公司制)、Suntox(注册商标)(SUNTOX公司制)、Tohcello(注册商标)(TOHCELLO公司制)、东洋纺Pylen Film(注册商标)(东洋纺织株式会社制)、Trefin(注册商标)(TORAY ADVANCED FILM公司制)、NIPPONPOLYACE(NIPPON POLYACE公司制)、以及太阁(注册商标)FC(FUTAMURA化学株式会社制)等。另外,如果是纤维素系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的FUJITAC(注册商标)TD(富士胶片株式会社制)、以及KC2UA和Konica Minolta TAC Film KC(Konica Minolta公司制)等。
基材膜(5)可以显示相位差。基材膜(5)可以具有为了作为λ/4板、λ/2板而发挥功能的相位差值。在本发明中,如果波长550nm处的面内相位差值为100nm以上且150nm以下,则可以显示λ/4的相位差值,如果波长550nm处的面内相位差值为200nm以上且300nm以下,则可以显示λ/2的相位差值。
〔液晶相位差层〕
构成本发明的层叠膜(1)的相位差膜(20)在该基材膜(5)上具有液晶相位差层(3)。
液晶相位差层(3)是包含使液晶化合物聚合并固化而成的层的层。液晶化合物的种类并无特别限定。液晶化合物的种类可以根据其形状而分类为棒状型(棒状液晶化合物)和圆盘状型(圆盘状液晶化合物、盘状(discotic)液晶化合物)。还分别包括低分子型和高分子型。予以说明,高分子通常是指聚合度为100以上的化合物(高分子物理·相变动力学、土井正男著、第2页、岩波书店、1992)。在本实施方式中,也可以使用任一种液晶化合物。进而,还可以使用2种以上的棒状液晶化合物、2种以上的圆盘状液晶化合物、或者棒状液晶化合物与圆盘状液晶化合物的混合物。
予以说明,作为棒状液晶化合物,可以适合使用例如日本特表平11-513019号公报的权利要求1、日本特开2005-289980号公报的段落[0026]~[0098]中记载的棒状液晶化合物等。作为圆盘状液晶化合物,可以适合使用例如日本特开2007-108732号公报的段落[0020]~[0067]、日本特开2010-244038号公报的段落[0013]~[0108]中记载的圆盘状液晶化合物等。
液晶相位差层更优选使用具有聚合性基团的液晶化合物(棒状液晶化合物或圆盘状液晶化合物)来形成。由此,液晶相位差层的光学特性不易因温度变化或湿度变化而发生变化。
液晶化合物可以并用2种以上。在该情况下,优选使至少1种具有2以上的聚合性基团。即,液晶相位差层优选为具有聚合性基团的棒状液晶化合物或具有聚合性基团的圆盘状液晶化合物通过聚合而固化从而形成的层。在该情况下,形成层后已经无需显示液晶性。
棒状液晶化合物或圆盘状液晶化合物中所含的聚合性基团的种类并无特别限制,例如优选聚合性烯属不饱和基团或环聚合性基团等能够进行加成聚合反应的官能团。更具体而言,可列举例如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。其中,优选(甲基)丙烯酰基。予以说明,(甲基)丙烯酰基是指包含甲基丙烯酰基及丙烯酰基这两者的概念。
液晶相位差层的形成方法并无特别限制,可列举公知的方法。例如,在基材膜上涂布包含具有聚合性基团的液晶化合物的光学各向异性层形成用组合物(以下简称为“组合物”)而形成涂膜,对所得的涂膜实施固化处理(紫外线照射(光照射处理)或加热处理),由此形成液晶相位差层,从而可以制造相位差膜。
组合物的涂布可以利用公知的方法、例如线棒涂布法、挤出涂布法、直接凹版涂布法、逆凹版涂布法及模涂法来实施。
组合物可以包含除了上述液晶化合物以外的成分。例如,组合物可以包含聚合引发剂。所使用的聚合引发剂可以根据聚合反应的形式而选择例如热聚合引发剂或光聚合引发剂。例如,作为光聚合引发剂,可列举α-羰基化合物、偶姻醚、α-烃取代芳香族偶姻化合物、多核醌化合物、三芳基咪唑二聚物与对氨基苯基酮的组合等。聚合引发剂的使用量相对于组合物的全部固体成分优选为0.01~20质量%,更优选为0.5~5质量%。
另外,从涂敷膜的均匀性及膜强度的方面出发,组合物可以包含聚合性单体。作为聚合性单体,可列举自由基聚合性或阳离子聚合性的化合物。其中,优选多官能性自由基聚合性单体。
予以说明,作为聚合性单体,优选与上述含有聚合性基团的液晶化合物具有共聚性的聚合性单体。作为具体的聚合性单体,可列举例如日本特开2002-296423号公报中的段落[0018]~[0020]中记载的聚合性单体。聚合性单体的使用量相对于液晶化合物的总质量优选为1~50质量%,更优选为2~30质量%。
另外,从涂敷膜的均匀性及膜强度的方面出发,组合物可以包含表面活性剂。作为表面活性剂,可列举以往公知的化合物。其中,特别优选氟系化合物。
另外,组合物可以包含溶剂。作为溶剂,优选使用有机溶剂。作为有机溶剂,可列举例如酰胺(例如N,N-二甲基甲酰胺)、亚砜(例如二甲基亚砜)、杂环化合物(例如吡啶)、烃(例如苯、己烷)、卤代烷(例如氯仿、二氯甲烷)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如丙酮、甲乙酮)、醚(例如四氢呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。其中,优选卤代烷、酮。另外,也可以并用2种以上的有机溶剂。
另外,组合物可以包含偏振片界面侧垂直取向剂、空气界面侧垂直取向剂等垂直取向促进剂、以及偏振片界面侧水平取向剂、空气界面侧水平取向剂等水平取向促进剂之类的各种取向剂。进而,除了上述成分以外,组合物可以还包含密合改良剂、增塑剂、聚合物等。
液晶相位差层可以包含具有规定液晶化合物的取向方向这一功能的取向膜。取向膜一般以聚合物为主成分。作为取向膜用聚合物材料,在大量文献中有记载,可以获得大量的市售品。
予以说明,对取向膜实施通常公知的取向处理。可列举例如刷磨处理、照射偏振光的光取向处理等。从取向膜的表面粗糙度的观点出发,优选光取向处理。
液晶相位差层(3)可以为具有nx≈ny<nz的关系的正C板。另外,液晶相位差层(3)可以为具有nx>ny≈nz的关系的正A板。在液晶相位差层(3)为正A板的情况下,液晶相位差层(3)可以为上述的λ/4板或λ/2板。予以说明,nx表示膜面内的慢轴方向的折射率,ny表示在膜面内与慢轴正交的方向的折射率,nz表示膜的厚度方向的折射率。
〔保护膜〕
关于本发明的层叠膜(1),在构成该相位差膜(20)的液晶相位差层(3)上贴合有保护膜(7)。
保护膜(7)可以由单层形成,也可以由多层形成。可以包含粘合剂层,也可以不具有粘合剂层。从能够降低将保护膜剥离后的液晶相位差层中的残胶等不良的方面出发,优选具有自粘合性层的保护膜。作为形成保护膜的材料,可列举与形成上述基材膜的材料同样的树脂,其中,优选聚烯烃系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂。
作为保护膜,可以使用可作为市售品获得的保护膜。作为具有聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂的膜的市售品的例子,可列举东洋纺株式会社制“Cosmoshine(注册商标)A4100”。作为具有聚乙烯系树脂的膜的市售品的例子,可列举Tredegar Film ProductsCorporation制“Force Field(注册商标)1035”、TORAY ADVANCED FILM公司制“Toretec(注册商标)”。
保护膜(7)以能够剥离的方式贴合在液晶相位差层(3)上。
为了以能够剥离的方式进行贴合,在保护膜包含粘合剂层的情况下,只要适当选择其粘合力即可,在保护膜具有自粘合性层的情况下,只要适当选择其粘合力即可。
通过选择并使用粘合力较低的保护膜,从而可按照能够剥离的方式贴合保护膜。
〔液晶相位差层的算术平均波度值Wa〕
在本发明的层叠膜(1)中,液晶相位差层(3)与保护膜(7)接触。液晶相位差层(3)的与保护膜(7)接触的面为与基材膜侧相反一侧的面。液晶相位差层(3)的与保护膜(7)接触的面的算术平均波度值Wa为70nm以下,优选为50nm以下,通常为0nm以上。
液晶相位差层(3)的算术平均波度值Wa可以利用以下的方法来测定:使用HitachiHigh-Tech Science公司制的扫描型白色干涉显微镜(VS1000),将测定范围设为X=4000μm以上、Y=2000μm以上的范围,在截止值为100μm的条件下进行测定。
为了使液晶相位差层(3)的与保护膜接触的面的算术平均波度值Wa为上述范围,例如,在相对于表面凹凸的周期f(μm)的一维功率谱设为H2(f)时,保护膜(7)的层叠相位差膜(20)的一侧的面优选满足下述式(1)。功率谱可以用后述实施例中记载的方法来测定。H2(425)/H2(212)的下限值并无特别限定,可以为2以上。
H2(425)/H2(212)<10 (1)
为了使液晶相位差层(3)的与保护膜接触的面的算术平均波度值Wa为上述范围,例如,作为保护膜(7),也优选选择与液晶相位差层贴合的一侧的表面的算术平均波度值Wa7为200nm以下的保护膜,并将其贴合在液晶相位差层(3)上。保护膜(7)的与液晶相位差层贴合的一侧的表面的算术平均波度值Wa7优选为150nm以下,可以为100nm以下,理想的是0(零)nm,通常为50nm以上。保护膜的算术平均波度值Wa7可以与上述液晶相位差层同样地测定。
在使用上述市售的保护膜作为保护膜(7)的情况下,有时表面形状按照等级或批次而有所不同,因此,选择并使用满足上述算术平均波度值Wa7的保护膜。另外,在保护膜(7)的一个表面与另一个表面的表面形状不同的情况下,只要将满足上述算术平均波度值Wa7的一侧的表面作为相位差膜(20)侧进行贴合即可。
通过将这种表面形状的保护膜(7)与相位差膜(20)重合,接下来优选进行按压,从而可以将满足上述算术平均波度值Wa的期望表面形状转印至相位差膜上。按压时的按压压力通常为0.01MPa~0.02MPa,按压温度通常为50℃~70℃,按压时间通常为1小时以上且4小时以下。
另外,在保护膜(7)及相位差膜(20)为长条状的情况下,可以将两膜(7、20)以长条状重叠并卷取成卷,再在上述按压温度下保持。通过增强卷取成卷时的张力,可以使卷取成卷的保护膜(7)及相位差膜(20)相互按压的按压压力为上述压力,可以使期望的表面形状转印于相位差膜。
〔层叠膜的制造方法〕
本发明的层叠膜(1)例如可以利用包括以下的工序(1)〔液晶相位差层形成工序〕及工序(2)〔保护膜贴合工序〕的方法来制造。
工序(1):在基材膜上涂布包含液晶化合物的组合物,使其聚合,由此形成液晶相位差层,得到相位差膜的工序
工序(2):在相位差膜上贴合保护膜,得到层叠膜的工序
以下对各工序进行说明。
工序(1)〔液晶相位差层形成工序〕
工序(1)为在基材膜(5)上形成液晶相位差层(3)而制造相位差膜(20)的液晶相位差层形成工序。
通常,首先在基材膜(5)上形成用于使液晶化合物取向的取向膜(未图示)。作为取向膜,可列举包含取向性聚合物的取向膜、光取向膜、以及在表面形成凹凸图案或多个槽并使其取向的沟槽取向膜等,可以利用以往公知的方法来形成。
接着,在取向膜上涂布包含液晶化合物的组合物,根据需要使溶剂干燥后,使液晶化合物聚合。液晶化合物的聚合可以利用使具有聚合性官能团的化合物聚合的公知方法来进行。具体而言,可列举热聚合及光聚合,从聚合容易度的观点出发,优选光聚合。光聚合可以通过对液晶化合物照射紫外线等活性能量射线来进行。活性能量射线可以从基材膜侧进行照射,也可以从液晶化合物侧进行照射,还可以从基材膜侧和液晶化合物侧这两侧进行照射。
工序(2)〔保护膜贴合工序〕
工序(2)为在工序(1)中所得的相位差膜(20)上贴合保护膜(7)而得到层叠膜(1)的保护膜贴合工序。通过将保护膜(7)贴合在相位差膜(20)上,能够使相位差膜(20)的保存或搬运时的操作变得容易,或者在将相位差膜(20)重叠或卷绕成卷状进行保存时能够防止相位差膜(20)彼此的粘连,或者能够防止在相位差膜(20)上附着灰尘等而形成缺陷。保护膜(7)贴合在相位差膜中的液晶相位差层(3)上。在使用长条状的膜作为保护膜(7)及相位差膜(20)的情况下,通过将两膜(7、20)夹入一对贴合辊之间,从而可以以长条状的状态进行贴合。贴合后的层叠膜(1)也可以卷取成卷状。
从所得的层叠膜剥离保护膜(7),从而可以得到相位差膜(20)。剥离方法并无特别限制,例如,在将保护膜(7)和相位差膜(20)以长条状的状态进行贴合的情况下,可以从卷中退卷,并且一边使保护膜(7)或相位差膜(20)抱成卷一边进行剥离。另外,剥离后的保护膜(7)也可以卷取成卷。如图3所示,这样得到的相位差膜(20)为在基材膜(5)上具有液晶相位差层(3)的相位差膜,该液晶相位差层(3)的与基材膜(5)侧相反一侧的表面的算术平均波度值Wa为70nm以下,优选为50nm以下,通常为0nm以上。
剥离保护膜(7)后的相位差膜(20)可以在基材膜(3)侧按照能够剥离的方式贴合保护膜。通过在基材膜(3)侧贴合保护膜,从而可以保护基材膜(3)而防止损伤等。
在剥离保护膜(7)后的液晶相位差层(3)的表面可以残留用于贴合保护膜(7)的粘合剂、保护膜(7)中所含有的抗氧化剂等。
〔偏振板〕
如图3所示,本发明的层叠膜(1)例如可以在相位差膜(20)的基材膜(5)侧层叠偏振片(4)而制成偏振板(100)。在图3中示意性示出这样得到的偏振板(100)的剖面。该偏振板(100)为借助粘接剂层(10)将相位差膜(20)与偏振片(4)层叠而成的构成。相位差膜(20)为在基材膜(5)上具有液晶相位差层(3)的构成。偏振片(4)被层叠在该相位差膜(20)的基材膜(5)侧。在偏振板(100)的液晶相位差层(3)上可以按照能够剥离的方式贴合保护膜(7)。
〔偏振片〕
偏振片(4)是例如经过以下工序来制造的偏振片:将聚乙烯醇系树脂膜进行单轴拉伸的工序;通过将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色而吸附二色性色素的工序;将吸附有二色性色素的聚乙烯醇系树脂膜用硼酸水溶液进行处理的工序;以及在基于硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。
作为聚乙烯醇系树脂,可以使用将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得的聚乙烯醇系树脂。作为聚乙酸乙烯酯系树脂,除了乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯以外,还可列举乙酸乙烯酯与能够与其共聚的其他单体的共聚物等。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体,可列举例如不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类及具有铵基的丙烯酰胺类等。
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85~100mol%左右,优选为98mol%以上。该聚乙烯醇系树脂可以被改性,例如也可以使用被醛类改性后的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。另外,聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1,000~10,000左右,优选为1,500~5,000左右。
将聚乙烯醇系树脂制成的膜可用作偏振片的原材膜。聚乙烯醇系树脂的制膜方法可以用公知的方法进行制膜。
若考虑使所得偏振片的厚度为15μm以下,则聚乙烯醇系原材膜的膜厚优选为5~35μm左右,更优选为5~20μm。若原材膜的膜厚为35μm以上,则需要提高制造偏振片时的拉伸倍率,并且存在所得偏振片的尺寸收缩变大的倾向。另一方面,若原材膜的膜厚为5μm以下,则实施拉伸时的操作性降低,存在制造中容易发生切割等不良情况的倾向。
聚乙烯醇系树脂膜的单轴拉伸可以在二色性色素的染色前、染色的同时或染色后进行。当在染色后进行单轴拉伸的情况下,该单轴拉伸可以在硼酸处理前或硼酸处理中进行。另外,也可以在这些之中的多个阶段中进行单轴拉伸。
在单轴拉伸时,可以在圆周速度不同的辊之间进行单轴拉伸,也可以使用热辊进行单轴拉伸。另外,单轴拉伸可以为在大气中进行拉伸的干式拉伸,也可以为在使用溶剂使聚乙烯醇系树脂膜溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。拉伸倍率通常为3~8倍左右。
作为将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的方法,采用例如将聚乙烯醇系树脂膜浸渍于含有二色性色素的水溶液中的方法。作为二色性色素,具体而言,使用碘或二色性染料。予以说明,聚乙烯醇系树脂膜优选在染色处理前预先实施在水中浸渍的浸渍处理。
在使用碘作为二色性色素的情况下,通常采用在含有碘及碘化钾的水溶液中浸渍聚乙烯醇系树脂膜而进行染色的方法。
该水溶液中的碘的含量通常相对于水100重量份为0.01~1重量份左右。另外,碘化钾的含量通常相对于水100重量份为0.5~20重量份左右。染色中使用的水溶液的温度通常为20~40℃左右。另外,在该水溶液中浸渍的浸渍时间(染色时间)通常为20~1,800秒左右。
另一方面,在使用二色性染料作为二色性色素的情况下,通常采用在包含水溶性二色性染料的水溶液中浸渍聚乙烯醇系树脂膜而进行染色的方法。该水溶液中的二色性染料的含量通常相对于水100重量份为1×10-4~10重量份左右,优选为1×10-3~1重量份左右。该水溶液可以含有硫酸钠等无机盐作为染色助剂。染色中使用的二色性染料水溶液的温度通常为20~80℃左右。另外,在该水溶液中浸渍的浸渍时间(染色时间)通常为10~1,800秒左右。
基于二色性色素的染色后的硼酸处理通常可以通过将染色后的聚乙烯醇系树脂膜浸渍于含有硼酸的水溶液中来进行。
含有硼酸的水溶液中的硼酸的量通常相对于水100重量份为2~15重量份左右,优选为5~12重量份。在使用碘作为二色性色素的情况下,该含有硼酸的水溶液优选含有碘化钾。含有硼酸的水溶液中的碘化钾的量通常相对于水100重量份为0.1~15重量份左右,优选为5~12重量份左右。在含有硼酸的水溶液中浸渍的浸渍时间通常为60~1,200秒左右,优选为150~600秒左右,更优选为200~400秒左右。含有硼酸的水溶液的温度通常为50℃以上,优选为50~85℃,更优选为60~80℃。
硼酸处理后的聚乙烯醇系树脂膜通常进行水洗处理。水洗处理例如可以通过将经硼酸处理后的聚乙烯醇系树脂膜浸渍于水中来进行。水洗处理中的水的温度通常为5~40℃左右。另外,浸渍时间通常为1~120秒左右。
水洗后实施干燥处理,得到偏振片。干燥处理可以使用热风干燥机或远红外加热器来进行。干燥处理的温度通常为30~100℃左右,优选为50~80℃。干燥处理的时间通常为60~600秒左右,优选为120~600秒。
利用干燥处理,将偏振片的水分率降低至实用程度。其水分率通常为5~20重量%,优选为8~15重量%。若水分率低于5重量%,则丧失偏振片的挠性,有时偏振片在其干燥后发生损伤或断裂。另外,若水分率高于20重量%,则有时偏振片的热稳定性低劣。
另外,偏振片的制造工序中的聚乙烯醇系树脂膜的拉伸、染色、硼酸处理、水洗工序、干燥工序例如可以依据日本特开2012-159778号中记载的方法来进行。在该文献记载的方法中,通过在基材膜上涂布聚乙烯醇系树脂,形成成为偏振片的聚乙烯醇系树脂层。
〔偏振片保护膜〕
偏振片(4)可以以单层的状态层叠于基材膜(5),但通常在与偏振片保护膜(未图示)层叠后再层叠于基材膜(5)。
偏振片保护膜由树脂膜形成,可以进一步由透明的树脂膜形成。特别优选由透明性、机械强度、热稳定性、水分遮蔽性等优异的材料形成。在本说明书中,透明的树脂膜是指在可见光区域中的单体透射率为80%以上的树脂膜。
作为形成偏振片保护膜的树脂,并无特别限定,可列举例如包含甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚烯烃系树脂、环状烯烃系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系树脂、苯乙烯系树脂、丙烯腈丁二烯苯乙烯系树脂、丙烯腈苯乙烯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚缩醛系树脂、聚碳酸酯系树脂、改性聚苯醚系树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚芳酯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂及聚酰亚胺系树脂等的膜。这些树脂膜可以为利用原料树脂制成的膜、在制膜后进行横向拉伸而得到的单轴拉伸膜、在制膜后进行纵向拉伸并接着进行横向拉伸而得到的双轴拉伸膜等。
这些树脂可以单独使用或组合使用2种以上。另外,这些树脂也可以在进行任意且适当的聚合物改性后再使用,作为该聚合物改性,可列举例如共聚、交联、分子末端改性、立构规整性控制、以及包含伴有异种聚合物彼此的反应这一情况的混合等改性。
其中,作为偏振片保护膜的材料,优选使用甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚烯烃系树脂或纤维素系树脂。在此所说的聚烯烃系树脂包含链状聚烯烃系树脂及环状聚烯烃系树脂。
作为偏振片保护膜使用的膜能够容易地获得市售品,如果是甲基丙烯酸甲酯系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的SUMIPEX(住友化学株式会社制)、Acrylite(注册商标)、Acryprene(注册商标)(以上为三菱丽阳株式会社制)、Delaglas(注册商标)(旭化成株式会社制)、Paraglas(注册商标)、Comoglas(注册商标)(以上为株式会社可乐丽制)、以及ACRYVIEWA(注册商标)(株式会社日本触媒制)等。如果是聚烯烃系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的ZEONOR(注册商标)(日本ZEON株式会社)、ARTON(注册商标)(JSR株式会社)等。如果是聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的Novaclear(注册商标)(三菱化学株式会社制)及帝人A-PET SHEET(帝人化成株式会社制)等。如果是聚丙烯系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的FILMAX CPPFILM(FILMAX公司制)、Suntox(注册商标)(SUNTOX公司制)、Tohcello(注册商标)(Tohcello公司制)、东洋纺Pylen Film(注册商标)(东洋纺织株式会社制)、Trefin(注册商标)(TORAYADVANCED FILM公司制)、NIPPONPOLYACE(NIPPON POLYACE公司制)、以及太阁(注册商标)FC(FUTAMURA化学株式会社制)等。另外,如果是纤维素系树脂膜,则可列举:分别以商品名计的FUJITAC(注册商标)TD(富士胶片株式会社制)、以及KC2UA及Konica Minolta TAC Film KC(Konica Minolta公司制)等。
另外,偏振片保护膜也可以根据需要含有添加剂。作为添加剂,可列举例如润滑剂、防粘连剂、热稳定剂、抗氧化剂、抗静电剂、耐光剂、耐冲击性改良剂等。
偏振片保护膜的厚度可以为1~50μm,也可以为10~40μm,还可以为10~35μm。
偏振片保护膜可以在与偏振片贴合之前预先实施皂化处理、电晕处理或等离子体处理等。偏振片保护膜可以进一步设置导电层、硬涂层、防眩层及低反射层等功能层。
偏振片保护膜通常借助偏振片粘接剂层(未图示)而与偏振片(4)层叠。偏振片粘接剂层为用于将偏振片保护膜与偏振片进行粘接的层,其是粘接剂固化而成的层。粘接剂可以为活性能量射线固化型粘接剂,也可以为水系粘接剂。偏振片保护膜可以分别层叠于偏振片(4)的双面,也可以仅层叠于单面。
〔粘接剂层〕
在图3所示的偏振板(100)中,基材膜(5)与偏振片(4)借助粘接剂层(10)进行了层叠。该粘接剂层(10)为粘接剂固化而成的层。粘接剂可以为活性能量射线固化型粘接剂,也可以为水系粘接剂。予以说明,粘接剂层(10)也可以进一步隔着上述偏振片保护膜、用于将其与偏振片层叠的偏振片粘接层而与偏振片(4)层叠。
活性能量射线固化型粘接剂是指通过照射如电子射线、紫外线那样的活性能量射线而固化的粘接剂,可列举例如包含聚合性化合物及光聚合引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂及光反应性交联剂的粘接剂等。作为聚合性化合物,可列举:光固化性环氧系化合物;光固化性丙烯酸系化合物等光固化性乙烯基化合物;光固化性氨基甲酸酯系化合物。作为光聚合引发剂,可列举光阳离子聚合引发剂(例如使用光固化性环氧系化合物的情况)或光自由基聚合引发剂(例如使用光固化性丙烯酸系化合物的情况)。
水系粘接剂是通过将其中所含的水分干燥而固化的粘接剂层,可列举例如包含聚乙烯醇系树脂水溶液的粘接剂、水系二液型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。其中,适合使用包含聚乙烯醇系树脂水溶液的水系粘接剂。
作为聚乙烯醇系树脂,除了将乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯进行皂化处理而得的乙烯醇均聚物之外,还可以使用将乙酸乙烯酯与能够与其共聚的其他单体的共聚物进行皂化处理而得的聚乙烯醇系共聚物、或者将它们的羟基部分改性而得的改性聚乙烯醇系聚合物等。水系粘接剂可以包含多元醛、水溶性环氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化锆化合物、锌化合物等添加剂。
上述粘接剂可以包含添加剂。作为添加剂,可列举离子捕获剂、抗氧化剂、链转移剂、敏化剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调节剂、增塑剂、消泡剂等。
从容易使粘接剂固化时或干燥时的收缩变小、容易降低偏振板的凹凸的观点出发,粘接剂层(10)的厚度例如为5μm以下,优选为2μm以下,可以为1μm以下。另外,从体现充分粘接力的观点出发,通常粘接剂层的厚度为0.01μm以上。
〔偏振板的制造方法〕
这样的偏振板例如可以利用包含以下的工序(3)〔保护膜剥离工序〕及工序(4)〔相位差膜层叠工序〕的方法来制造。
工序(3)〔保护膜剥离工序〕
工序(3)为从层叠膜剥离保护膜而得到相位差膜的工序。
剥离方法并无特别限制,例如在层叠膜为长条状的情况下,可以一边使保护膜或相位差膜抱成卷一边进行剥离。另外,剥离后的保护膜可以进行卷取。
工序(4)〔偏振片贴合工序〕
工序(4)为借助粘接剂在相位差膜上贴合偏振片而得到偏振板的工序。
粘接剂可以涂布在相位差膜上,也可以涂布在偏振片上,还可以涂布在相位差膜及偏振片两者上。另外,相位差膜的与偏振片贴合的贴合面可以为基材膜侧的面,也可以为液晶相位差层侧的面。在使用水系粘接剂作为粘接剂的情况下,通过进行干燥而可以将相位差膜与偏振片进行粘接。在使用活性能量射线固化型粘接剂作为粘接剂的情况下,通过照射紫外线等活性能量射线,从而可以将相位差膜与偏振片进行粘接。
在使用水系粘接剂的情况下,干燥例如可以通过将贴合后的膜引入干燥炉来进行。干燥温度(干燥炉的温度)优选为30~90℃。
若不足30℃,则存在相位差膜与偏振片容易剥离的倾向。另外,若干燥温度超过90℃,则存在偏振片的偏振性能因热而劣化的风险。干燥时间可以为10~1000秒左右。
在干燥工序后,可以设置在室温或比其略高的温度、例如20~45℃左右的温度下养护12~600小时左右的养护工序。养护温度一般设定得比干燥温度低。
活性能量射线可以从相位差膜侧进行照射,也可以从偏振片侧进行照射,还可以从相位差膜侧和偏振片侧这两者进行照射。
对活性能量射线固化型粘接剂照射的活性能量射线的照射强度根据活性能量射线固化型粘接剂的组成来适当决定。优选按照对于聚合引发剂的活化而言有效的波长区域的照射强度达到0.1~6000mW/cm2的方式来设定。在照射强度为0.1mW/cm2以上的情况下,反应时间不会过长,在6000mW/cm2以下的情况下,因从射线源辐射的热及活性能量射线固化型粘接剂的固化时的发热而产生活性能量射线固化型粘接剂的黄变或偏振片的劣化的风险小。
关于对活性能量射线固化型粘接剂的光照射时间,也根据活性能量射线固化型粘接剂的组成来适当决定。优选按照以上述照射强度与照射时间的乘积的形式表示的累积光量达到10~10000mJ/cm2的方式来设定。在累积光量为10mJ/cm2以上的情况下,可以产生充分量的来自聚合引发剂的活性种而使固化反应更可靠地进行,在为10000mJ/cm2以下的情况下,照射时间不会过长,可以维持良好的生产率。
在相位差膜上贴合偏振片时,为了提高与偏振片的粘接性,可以对相位差膜表面进行等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理等表面处理(易粘接处理)。例如,在相位差膜包含环状聚烯烃系树脂的情况下,优选进行等离子体处理或电晕处理。另外,在相位差膜包含纤维素酯系树脂的情况下,优选进行皂化处理。作为皂化处理,可列举在氢氧化钠或氢氧化钾那样的碱水溶液中浸渍的方法。
在工序(4)中,可以将偏振片以单层的形式贴合于相位差膜。另外,也可以预先将偏振片保护膜层叠于偏振片,并将其贴合于相位差膜而得到偏振板。作为将保护膜与偏振片贴合的方法,可列举与将上述相位差膜与偏振片贴合的方法同样的方法。另外,可以将保护膜、偏振片及相位差膜这3片同时贴合而得到偏振板。
关于工序(3)〔保护膜剥离工序〕和工序(4)〔偏振片贴合工序〕,可以通过按照该顺序进行而在剥离保护膜后〔工序(3)〕,将相位差膜和偏振片进行贴合〔工序(4)〕,也可以为相反的顺序、即利用工序(4)将相位差膜和偏振片贴合后,利用工序(3)剥离保护膜。即,工序(3)和工序(4)的顺序是任意的。
〔粘合剂层〕
偏振板(100)可以在相位差膜(20)侧还具备粘合剂层(6)。粘合剂层(6)为包含粘合剂的层,可以借助该粘合剂层(6)将偏振板(100)贴合于液晶单元等图像显示元件。粘合剂层的厚度通常为5μm~25μm,优选为10μm~25μm。
作为形成粘合剂层(6)的粘合剂,例如可以适当选择并使用以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯基醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃、环氧系、氟系、天然橡胶、合成橡胶等橡胶系等的聚合物作为基础聚合物的粘合剂。作为粘合剂,特别优选光学透明性优异、显示适度的润湿性、内聚性和粘接性的粘合特性、且耐候性、耐热性等优异的粘合剂。
在粘合剂中也可以配合除此以外的各种添加剂。作为添加剂,可列举硅烷偶联剂、抗静电剂。
实施例
以下,利用实施例对本发明进行更详细地说明,但是本发明并不受这些例子的规定。例中,只要没有特别记载,则表示含量或使用量的%及份均为重量基准。予以说明,实施例中使用的评价方法如下所示。
(1)厚度:
使用株式会社尼康制的数字测微器MH-15M来测定。
(2)面内延迟Re及厚度方向延迟Rth:
使用以平行尼科尔旋转法为原理的相位差计、王子测量设备株式会社制的KOBRA-WPR,用23℃下的波长590nm的光进行测定。
(3)相对于保护膜的表面的周期f(μm)的一维功率谱:H2(f)
使用作为共焦点干涉显微镜的PLμNEOX(SENSOFAR·JAPAN公司制),扫描表面的凹凸。对所得凹凸的数据进行解析,算出周期212μm及周期425μm时的H2(212)及H2(425)。
(4)算术平均波度值:Wa7及Wa
使用作为扫描型白色干涉显微镜的VS1000(Hitachi High-Tech Science公司制),针对各实施例中使用的保护膜,测定其与液晶相位差层贴合的一侧的面的算术平均波度值Wa7。同样操作,针对各实施例中所得的层叠膜,剥离保护膜,测定所露出的液晶相位差层的算术平均波度值Wa。予以说明,测定范围设为X=4000μm以上、Y=2000μm以上的范围,截止值设为100μm。
(5)相位差不均的评价
将2片偏振板在背光源上相互平行地配置或者以呈现相互的吸收轴正交的正交尼科尔棱镜的关系的方式进行配置。将实施例中所得的相位差膜以剥离保护膜后的状态按照与2片偏振板平行的方式放置于该2片偏振板之间。接着,在点亮背光源的状态下,一边用肉眼自正面观察从背光源透过偏振板、相位差膜及偏振板的光,一边使相位差膜在面内旋转,并固定在所透过的光达到最暗的位置。之后,对于距离背光源较远的偏振板,从自正面倾斜30~60度的方向进行目视检查,判断能否辨认到相位差的不均(浓淡不均)。
参考例1
准备以下的各构件。
〔偏振片〕
(1)底漆层形成工序
将聚乙烯醇粉末(日本合成化学工业株式会社制的“Z-200”、平均聚合度为1100、皂化度为99.5摩尔%)溶解于95℃的热水中,制备浓度为3重量%的聚乙烯醇水溶液。在所得的水溶液中以相对于聚乙烯醇粉末6重量份为5重量份的比例混合交联剂(田冈化学工业株式会社制的“Sumirez Resin 650”),得到底漆层形成用涂敷液。
准备厚度90μm的未拉伸的聚丙烯(PP)膜(熔点:163℃),对其单面实施电晕处理后,使用小径凹版涂布机在该电晕处理面上涂敷上述底漆层形成用涂敷液,使其在80℃干燥10分钟,由此形成厚度0.2μm的底漆层,得到带底漆层的PP膜。
(2)层叠膜的制作
将聚乙烯醇粉末(株式会社可乐丽制的“PVA124”、平均聚合度为2400、皂化度为98.0~99.0摩尔%)溶解于95℃的热水中,制备浓度为8重量%的聚乙烯醇水溶液,将其作为聚乙烯醇系树脂层形成用涂敷液。
使用模唇涂布机在上述(1)中制作的带底漆的PP膜的底漆层表面涂敷上述聚乙烯醇系树脂层形成用涂敷液,之后,使其在80℃干燥20分钟,由此在底漆层上形成聚乙烯醇系树脂层,得到包含PP膜/底漆层/聚乙烯醇系树脂层的层叠PP膜。
(3)拉伸膜的制作
对于上述(2)中制作的层叠PP膜,使用浮动的纵向单轴拉伸装置,在160℃实施5.8倍的自由端单轴拉伸,得到拉伸PP膜。拉伸后的聚乙烯醇系树脂层的厚度为6.1μm。
(4)偏振性层叠PP膜的制作
将上述(3)中制作的拉伸PP膜在包含碘和碘化钾的30℃的染色水溶液(相对于水100重量份,包含碘0.6重量份、碘化钾10重量份)中浸渍约180秒,进行聚乙烯醇系树脂层的染色处理。用10℃的纯水冲洗多余的染色水溶液。
在包含硼酸的78℃的第一交联水溶液(相对于水100重量份,包含硼酸9.5重量份)中浸渍120秒,接着,在包含硼酸及碘化钾的70℃的第二交联水溶液(相对于水100重量份,包含硼酸9.5重量份、碘化钾4重量份)中浸渍60秒,进行交联处理。之后,用10℃的纯水清洗10秒,最后,使其在40℃干燥300秒,由此得到包含PP膜/底漆层/偏振片(4)的偏振性层叠PP膜。
〔偏振片保护膜〕
准备在日本ZEON株式会社的环状烯烃系树脂膜的单面设有硬涂层的、带硬涂层的环状烯烃系树脂膜。厚度为50μm。
〔保护膜〕
准备以下3种保护膜(7)。均是包含聚乙烯树脂且在表层具有自粘合性层的保护膜。
保护膜A:TREDEGAR公司制“Force Field 1035”
保护膜B:TORAY ADVANCED FILM株式会社制“Toretec(注册商标)7332K”
保护膜C:TORAY ADVANCED FILM株式会社制“Toretec(注册商标)7832C”
[表1]
Figure BDA0001981905100000201
〔相位差膜〕
作为基材膜(5),准备日本ZEON株式会社制的环状烯烃系树脂膜。该基材膜(5)为长条状,其厚度为20μm。该基材膜(5)为λ/4板。对该基材膜(5)的单面进行电晕处理。在实施电晕处理后的面上按照膜厚达到1μm的方式涂敷垂直取向膜用的组合物。在温度100℃下对涂敷膜实施120秒的热处理,形成取向膜。垂直取向膜用的组合物使用日产化学株式会社制的Sunever SE610。
在上述形成的取向膜上涂布含有所制备的光聚合性向列型液晶化合物(MERCK公司制、RMM28B)的组合物。组合物中包含丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)作为溶剂,并且包含Irgacure(Irg-907)作为光聚合引发剂。该组合物的组成如下所示。
光聚合性向列型液晶化合物〔RMM28B〕:20重量份
光聚合引发剂〔kgacure(Irg-907)〕:1重量份
溶剂〔丙二醇单甲基醚乙酸酯〕:80重量份
在温度90℃下对涂布后的涂布层实施120秒干燥处理。之后,利用紫外线(UV)照射使液晶化合物聚合,形成厚度1μm的液晶化合物经固化而成的液晶相位差层(3)。液晶相位差层全体的厚度为2μm。液晶相位差层(3)为正C板。这样得到包含基材膜(5)和液晶相位差层(3)的相位差膜(20)。相位差膜的弹性模量在23℃下在MD方向、TD方向分别为1900MPa、2300MPa。该相位差膜(20)是可以在可见光的波长区域中作为λ/4波阻片而发挥功能的相位差膜,在厚度方向也显示相位差。
〔实施例1〕
(层叠膜的制造)
将上述准备的保护膜A(7)按照测定表1中示出的表面形状的面成为其与液晶相位差层(3)的贴合面的方式贴合在上述所得的相位差膜(20)的液晶相位差层(3)上,得到图1所示构成的层叠膜(1)〔保护膜A(7)/液晶相位差层(3)/基材膜(5)〕。
准备30片上述所得的层叠膜(1)〔保护膜A(7)/液晶相位差层(3)/基材膜(5)〕,将它们重叠,在按压压力0.017MPa、按压温度60℃、按压时间3小时的条件下进行按压,接着,剥离保护膜A(7),并对所呈现的液晶相位差层(3)的表面的算术平均波度值Wa进行了测定,结果为55nm。
对构成该偏振板(100)的相位差膜(20)的相位差不均进行了评价,结果以目视确认不到相位差不均。
(偏振板的制造)
对上述准备的偏振片保护膜〔带硬涂层的环状烯烃系树脂膜〕的与硬涂层相反一侧的面实施电晕处理。使用小径凹版涂布机在实施电晕处理后的面上涂敷紫外线固化性粘接剂。该紫外线固化型粘接剂的组成如下所示。
3’,4’-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷羧酸酯〔商品名“CEL2021P”、株式会社大赛璐制):70重量份、
新戊二醇二缩水甘油醚〔商品名“EX-211”、Nagase ChemteX株式会社制〕:20重量份、
2-乙基己基缩水甘油醚〔商品名“EX-121”、Nagase ChemteX株式会社制〕:10重量份、
光阳离子聚合引发剂〔商品名“CPI-100P”、San-Apro株式会社制〕:2.25重量份
涂敷后,使用贴合辊,借助紫外线固化性粘接剂在上述所得的偏振性层叠PP膜的偏振片(4)上贴合偏振片保护膜。接着,利用紫外线照射使紫外线固化性粘接剂固化,形成偏振片粘接剂层,得到包含偏振片保护膜/偏振片粘接剂层/偏振片(4)/底漆层/PP膜这一层构成的贴合膜。该贴合膜的偏振片粘接剂层的厚度为0.8μm。
从所得贴合膜上剥离除去PP膜。PP膜容易被剥离,得到包含偏振片保护膜/偏振片粘接剂层/偏振片(4)/底漆层这一层构成的单面附带偏振片保护膜的偏振板。
在上述所得的层叠膜(1)中的基材膜(5)〔环状烯烃系树脂膜〕上实施电晕处理。使用小径凹版涂布机在实施电晕处理后的面上涂敷与上述同样的紫外线固化性粘接剂。涂敷后,使用贴合辊,借助紫外线固化性粘接剂在上述单面附带偏振片保护膜的偏振板的底漆层上贴合层叠膜(1),利用紫外线照射使紫外线固化性粘接剂固化,从而形成粘接剂层(10)。
之后,若剥离保护膜A(7),则可以得到包含偏振片保护膜/偏振片粘接剂层/偏振片(4)/底漆层/粘接剂层(10)/基材膜(5)/液晶相位差层(3)的偏振板(100)(图2)。该偏振板(100)不存在由相位差膜的相位差不均引起的不均,整面显示均匀的偏振性能。
〔实施例2〕
除了代替保护膜A而使用保护膜C以外,与实施例1同样地制作层叠膜(1),将所得的层叠膜(1)重叠30片,与实施例1同样地进行按压,接着,剥离保护膜A(7),并对所呈现的液晶相位差层(3)的表面的算术平均波度值Wa进行了测定,结果为65nm。
对构成该偏振板(100)的相位差膜(20)的相位差不均进行了评价,结果以目视确认不到相位差不均。
〔比较例1〕
除了代替保护膜A而使用保护膜B以外,与实施例1同样地制作层叠膜(1),将所得的层叠膜(1)重叠30片,与实施例1同样地进行按压,接着,剥离保护膜A(7),并对所呈现的液晶相位差层(3)的表面的算术平均波度值Wa进行了测定,结果为84nm。
对该相位差膜(20)的相位差不均进行了评价,结果以目视确认到相位差不均。
除了代替实施例1中所得的层叠膜而使用上述所得的层叠膜以外,与实施例1同样操作而得到的偏振板(100)产生因相位差膜(20)的相位差不均引起的偏振性能的不均。

Claims (5)

1.一种层叠膜,其是具备在基材膜上具有液晶相位差层的相位差膜以及按照能够剥离的方式贴合在所述液晶相位差层上的保护膜的层叠膜,其特征在于,
所述液晶相位差层的与所述保护膜接触的面的算术平均波度值Wa为70nm以下。
2.一种层叠膜的制造方法,其是将保护膜按照能够剥离的方式贴合于在基材膜上具有液晶相位差层的相位差膜的所述液晶相位差层上来制造权利要求1所述的层叠膜的方法,其特征在于,
在将相对于表面凹凸的周期f的一维功率谱设为H2(f)时,所述保护膜的层叠所述相位差膜的一侧的面满足式(1),
H2(425)/H2(212)<10 (1),
其中,周期f的单位为μm。
3.一种偏振板的制造方法,其是制造借助粘接剂层将在基材膜上具有液晶相位差层的相位差膜与偏振片层叠而成的偏振板的方法,其特征在于,其包括:
保护膜剥离工序,从权利要求1所述的层叠膜上剥离保护膜;以及
偏振片贴合工序,借助粘接剂在所述相位差膜上贴合偏振片。
4.一种偏振板,其特征在于,在基材膜上具有液晶相位差层的相位差膜与偏振片借助粘接剂层进行层叠,
所述液晶相位差层的与基材膜侧相反一侧的面的算术平均波度值Wa为70nm以下。
5.一种相位差膜,其是在基材膜上具有液晶相位差层的相位差膜,其特征在于,
所述液晶相位差层的与所述基材膜侧相反一侧的表面的算术平均波度值Wa为70nm以下。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101365970A (zh) * 2006-01-30 2009-02-11 日东电工株式会社 相位差板的制造方法、相位差板、带相位差板偏光板、液晶面板及液晶显示装置
CN101836138A (zh) * 2007-10-23 2010-09-15 日东电工株式会社 层叠光学膜、液晶面板及液晶显示装置
CN104220904A (zh) * 2012-04-13 2014-12-17 日东电工株式会社 光学构件、偏振板组及液晶显示设备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013033175A (ja) * 2011-08-03 2013-02-14 Sony Corp 表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101365970A (zh) * 2006-01-30 2009-02-11 日东电工株式会社 相位差板的制造方法、相位差板、带相位差板偏光板、液晶面板及液晶显示装置
CN101836138A (zh) * 2007-10-23 2010-09-15 日东电工株式会社 层叠光学膜、液晶面板及液晶显示装置
CN104220904A (zh) * 2012-04-13 2014-12-17 日东电工株式会社 光学构件、偏振板组及液晶显示设备

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