CN110211995A - 显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示面板，包括：基板，包括显示区以及围绕显示区的非显示区；无机膜层，设置在非显示区，该无机膜层设有槽；以及有机膜层，该有机膜层覆盖无机膜层并暴露出槽。本发明通过在非显示区的无机膜层上设置槽，使有机膜层覆盖无机膜层并暴露出槽，阻止了显示面板边界切割所产生的余热和微裂纹向显示区传递，减少了显示异常。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示面板是一种自发光显示面板，OLED显示面板由于具有轻薄、高亮度、低功耗、宽视角、高响应速度以及宽使用温度范围等优点而越来越多地被应用于各种高性能显示领域中。
发明内容
本发明实施例提供了一种显示面板，包括：基板，包括显示区以及围绕所述显示区的非显示区；无机膜层，设置在所述非显示区，所述无机层膜设有槽；有机膜层，所述有机膜层覆盖所述无机膜层并暴露出所述槽。
在一实施例中，所述有机膜层间隔暴露出所述槽。
在一实施例中，所述槽没有贯穿所述无机膜层。
在一实施例中，所述无机膜层包括第一无机层和第二无机层，其中所述第一无机层为缓冲层，所述第二无机层为层间介电层，所述有机膜层为平坦化层。
在一实施例中，所述无机膜层还包括第三无机层，所述第三无机层设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间；其中所述第三无机层与所述显示区的绝缘层在相同工序中形成。
在一实施例中，所述槽贯穿所述第二无机层和所述第三无机层。
在一实施例中，所述有机膜层的厚度为1.3微米至2.1微米，所述有机膜层的厚度与所述槽的深度之和为1.5微米至3.2微米。
在一实施例中，所述无机膜层设置在裂纹堤坝区。
在一实施例中，所述裂纹堤坝区与所述显示区距离为800微米至1200微米。
在一实施例中，还包括封装层，所述封装层覆盖所述显示区以及所述裂纹堤坝处的至少一部分所述有机膜层。
本发明通过设计非显示区有机膜层和无机膜层的结构，解决了显示面板边界切割所产生的余热和微裂纹向显示区传递以及气相沉积设备蒸镀薄膜封装层所产生的残影在有机膜层上延伸等问题，阻止了封装失效，提高了显示效果。
附图说明
通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征。
图1为本发明一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图；
图2是本发明另一实施例提供的显示面板的裂纹堤坝区B的剖面结构示意图；
图3是本发明又一实施例提供的显示面板的裂纹堤坝区B的剖面结构示意图；
图4是本发明又一实施例提供的显示面板的裂纹堤坝区B的剖面结构示意图；
图5是本发明又一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
现有技术中，在对显示面板的母板(例如1500mm×1850mm)进行切割以形成分离的各块显示面板时，显示面板边界切割所产生的余热和微裂纹向显示面板内的显示区传递，并且气相沉积设备蒸镀薄膜封装层所产生的残影在平坦化层上延伸，引起显示异常和封装失效。
为了解决上述问题，本发明实施例提供一种显示面板，通过设计非显示区有机膜层和无机膜层的结构，使得在不改变支撑掩模版的情况下，可以更加有效地阻止切割所产生的余热和微裂纹向显示区传递以及残影对封装的影响。
图1为本发明一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图，该显示面板包括基板110、无机膜层120以及有机膜层130。
基板110包括显示区111以及围绕显示区111的非显示区112；无机膜层120设置在非显示区112，且无机膜层120设有槽11；有机膜层130覆盖无机膜层120并暴露出槽11。
参照图1所示，基板110可以是硬性基板，例如玻璃基板，也可以是柔性基板，例如聚酰亚胺(PI)等。无机膜层120可以包括第一无机层121和第二无机层122，其中第一无机层121可以是缓冲层，第二无机层122可以是层间介电层。在本实施例中，槽11贯穿第一无机层121和第二无机层122，有机膜层130一一对应地覆盖第二无机层122并且暴露出所有的槽11。无机膜层120可以采用溅射、蒸镀以及气相沉积等方法制备。第一无机层121和第二无机层122的材料可以是氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)或者氮氧化硅(SiOxNy)以及非晶硅(a-Si)中的一种或几种组合。第一无机层121和第二无机层122的材料可以相同，也可以不同，本发明实施例对此不做限定。
有机膜层130可以是平坦化层，其材料可以是由聚丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂和聚苯醚树脂中的至少一种材料制备。有机膜层130也可以由其他相同或类似功能的材料制备，本发明实施例对有机膜层130的材料不做具体限定。
在一实施例中，有机膜层130的厚度d1为1.3微米至2.1微米，优选为1.4微米至1.6微米。具体来说，有机膜层130的厚度例如可以是1.45微米、1.5微米或2.0微米。如果有机膜层130的厚度太厚，会导致材料的浪费、成本的增加、膜层生长时间的变长，不利于生产；也会导致显示面板的整体的厚度增加，不满足消费者对于轻、薄手机的需求。如果有机膜层130的厚度太薄，可能达不到产品性能的要求。
非显示区112可以包括堤坝区A和裂纹堤坝区B，堤坝区A可以位于显示面板封装层的边缘，用于提升封装层的密封性能，裂纹堤坝区B可以位于堤坝区A外围，用于防止显示面板边界切割所产生的裂纹的内延。在图1的实施例中，无机膜层120设置在非显示区112的裂纹堤坝区B，无机膜层120中设置槽11，可以起到防止显示面板边界切割裂纹内延的作用。具体而言，无机膜层120的材料(如上所述，氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等)的挠性较差，容易传递裂纹，而通过设置槽11，将无机膜层120的中间部分进行至少部分地断开，可以防止裂纹延伸。裂纹堤坝区B具有一定的长度，这样可以在无机膜层130中设置多个槽11，可以更好地延缓甚至阻断显示面板边界切割所产生的余热和微裂纹内延。
在一实施例中，裂纹堤坝区B与显示区111的距离(即，裂纹堤坝区B靠近显示区111一侧的边缘与显示区111靠近堤坝区A一侧的边缘的距离)为800微米至1200微米。具体来说，裂纹堤坝区B靠近显示区111一侧的边缘与显示区111靠近堤坝区A一侧的边缘的距离例如可以是875微米、935微米以及1080微米。当需要制备窄边框的显示面板时，可以选择裂纹堤坝区B与显示区边缘的距离为875微米，因此可以根据不同的需要选择不同的距离，本发明对此不做具体限定。通过将裂纹堤坝区B与显示区111的距离设置成以上数值，既可以很好防止裂纹的内延，也可以保证显示面板的窄边框。
仍参照图1所示，显示面板还可以包括有机发光器件140和堤坝150。有机发光器件140设置在显示区111，例如包括发光二极管等。堤坝150设置在非显示区112的堤坝区A，包括内堤坝151与外堤坝152，外堤坝152的高度不低于内堤坝151的高度。其中，内堤坝151的高度范围可为2μm～4μm，外堤坝152的高度范围可为4μm～6μm，外堤坝152远离内堤坝151一侧的边缘与裂纹堤坝区靠近堤坝151一侧的边缘的距离为80微米至100微米。该堤坝150可以呈环状，具体可以是矩形环状，堤坝150的形状可根据显示区的形状而定，本发明实施例对此不做限定。围绕显示区一周的两道堤坝150可以是连续的一段堤坝，也可以是断续的多段堤坝，本发明实施例对此不做限定。
堤坝150可以是氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化铝、氧化钛等中至少一种可以阻挡水氧的材料。其中，内堤坝151与外堤坝152的横截面可以为上小下大的梯形、侧面也可以呈台阶状、波浪状等，相对于矩形横截面，能进一步增加外界水汽、氧气的进入路径长度，更好地阻挡水氧。多个堤坝的设置，既可以进一步阻挡外界水汽、氧气的进入，提高封装效果，又可以阻止切割时封装边缘裂纹的内延导致的显示异常，提高显示效果。
本实施例的技术方案，通过在非显示区112的无机膜层120中设有槽11，使有机膜层130覆盖无机膜层120并暴露出槽11，阻止了显示面板边界切割所产生的余热和微裂纹向显示区111传递，减少了显示异常。
图2为本发明另一实施例提供的显示面板的裂纹堤坝区B的剖面结构示意图，该显示面板包括基板110、无机膜层120以及有机膜层130，有机膜层130间隔暴露出槽11。图2只示出了显示面板的裂纹堤坝区B这一部分，显示区111和堤坝区A可以采用与图1相同或类似的结构，在下面省略对未示出部分的说明。
如图2所示，槽11贯穿第一无机层121和第二无机层122，有机膜层130间隔暴露出槽11，即在显示区111到非显示区112的方向上，可以间隔性地填充一个槽露出一个槽，这样重复设置。有机膜层130也可以间隔性地填充2个槽露出一个槽，这样重复设置。有机膜层还可以填充2个槽暴露出一个槽，填充1槽暴露一个槽，如此重复设置(如图3所示)。有机膜层130对槽11的暴露也可以采用其他方式，本发明对此不做限定。第一无机层121和第二无机层122的槽11可以分步制备，也可以同时制备。槽11可以通过刻蚀的工艺方法来制备，其中刻蚀方法包括干刻、湿刻等方法。
本实施例的技术方案，通过槽11贯穿第一无机层121和第二无机层122，有机膜层130间隔暴露出槽11，减轻了工艺难度，提高了整体结构的稳定性，同时阻止了显示面板边界切割所产生的余热和微裂纹向显示区传递，提高了显示效果。
在一实施例中，有机膜层130的厚度与槽11的深度之和d2为1.5微米至3.2微米，优选为2.0微米至3.0微米。具体来说，有机膜层130的厚度与槽11的深度之和d2可以是2.1微米、2.5微米或2.8微米。本发明对于槽11的宽度没有限制，只要满足工艺和生产需求即可。有机膜层130的厚度与槽11的深度之和d2太小会导致残影在此处无法全部断开，引起显示异常。有机膜层130的厚度与槽11的深度之和d2太大会浪费材料，增加成本。本实施例的技术方案，通过有机膜层130间隔暴露出槽11使得槽11的数量减少，进一步缩减了工艺制备的时间，减轻了工艺难度，提高了整体结构的稳定性。
图3为本发明又一实施例提供的显示面板的裂纹堤坝区B的剖面结构示意图，该显示面板包括基板110、无机膜层120以及有机膜层130。在本实施例中，槽11没有贯穿无机膜层120。
如图3所示，第一无机层121不设槽11，只在第二无机层122上设槽11且槽11贯穿第二无机层122。在其他实施例中，槽11可以贯穿一部分第二无机层122，可以贯穿整个第二无机层122及一部分第一无机层121，也可以采用其他方式，本发明对此不做具体限定。
本实施例的技术方案，通过只有第二无机层122设槽，有机膜层130覆盖第二无机层122且间隔暴露出槽11，进一步缩减了工艺制备的时间，减轻了工艺难度。
图4为本发明又一实施例提供的显示面板的裂纹堤坝区B的剖面结构示意图，该显示面板包括基板110、无机膜层120以及有机膜层130。在本实施例中，无机膜层120还包括第三无机层123，第三无机层123设置于第一无机层121和第二无机层122之间，槽11贯穿第二无机层122和第三无机层123。
本实施例的技术方案，通过槽11贯穿第二无机层122和第三无机层123，有机膜层130覆盖第二无机层122和第三无机层123且暴露出槽11，减少了材料的浪费，节约了成本。
在一实施例中，第三无机层123与显示区111的绝缘层在相同工序中形成。换言之，非显示区112的第三无机层123与显示区111的绝缘层采用同一掩模板制备，不增加额外工序，从而减少了制备时长，降低了显示面板的制作成本并提高了产能。
第三无机层123可以是栅介质层(GI层)，也可以是电容介质层(CI层)。第三无机层123的材料可以为氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)或者氮氧化硅(SiOxNy)以及非晶硅(a-Si)中的一种或几种组合。对于第三无机层123本发明不做具体限定，只要能与显示区的绝缘层采用同一掩模板即可。
图5为本发明又一实施例提供的显示面板的剖面结构示意图。在上述实施例的基础上，该显示面板还包括封装层170，封装层170覆盖显示区111以及裂纹堤坝区B的至少一部分有机膜层120。
封装层170可以是薄膜封装(TFE)层。封装层170可以包括依次设置的第四无机层171、第一有机层172以及第五无机层173。第四无机层171与第五无机层173可以是SiO2、SiNx、SiON、Al2O3、TiO2、Ta2O5、HfO2、ZrO2、BST(钛酸锶钡)或PZT(锆钛酸铅)等材料构成。
第一有机层172可以为通用的聚合物(PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)，PS(聚苯乙烯))、具有酚类基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物或者它们的混合物。
其它可选方案中，封装层170也可以包括三层以上的无机、有机交叠结构。封装层170可以覆盖整个显示区111以及裂纹堤坝区B的一部分有机膜层130，也可以覆盖整个显示区111以及裂纹堤坝区B的全部有机膜层130，本发明实施例对此不做限定。由于封装层170填充了槽11，延长了外界水汽、氧气从显示面板边缘入侵到有机发光器件的路径，增强了外界水汽、氧气接触有机发光层的难度，保证了有机发光器件的工作稳定性。
本实施例的技术方案通过在非显示区的无机膜层上设置槽，有机膜层覆盖无机膜层并暴露出槽，使得由于化学气相沉积设备本身的原因导致在蒸镀封装层时产生的残影，在无机膜层上的槽处断开，阻止了显示面板边界切割所产生的余热和微裂纹向显示区传递，提高了显示效果，防止了封装失效。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板，包括显示区以及围绕所述显示区的非显示区；
无机膜层，设置在所述非显示区，所述无机膜层设有槽；以及
有机膜层，所述有机膜层覆盖所述无机膜层并暴露出所述槽。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机膜层间隔暴露出所述槽。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述槽没有贯穿所述无机膜层。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机膜层包括第一无机层和第二无机层，其中所述第一无机层为缓冲层，所述第二无机层为层间介电层，所述有机膜层为平坦化层。
5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述无机膜层还包括第三无机层，所述第三无机层设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间；其中所述第三无机层与所述显示区的绝缘层在相同工序中形成。
6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述槽贯穿所述第二无机层和所述第三无机层。
7.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机膜层的厚度为1.3微米至2.1微米，所述有机膜层的厚度与所述槽的深度之和为1.5微米至3.2微米。
8.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机膜层设置在裂纹堤坝区。
9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述裂纹堤坝区与所述显示区的距离为800微米至1200微米。
10.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，还包括封装层，所述封装层覆盖所述显示区以及所述裂纹堤坝区的至少一部分所述有机膜层。
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