CN110168131A

CN110168131A - 基板保持器

Info

Publication number: CN110168131A
Application number: CN201780082726.6A
Authority: CN
Inventors: 西蒙·刘; 拉尔夫·林登贝格; 奥利弗·乌尔曼; 克劳斯·曾杰尔; 哈拉尔德·伍斯特
Original assignee: Applied Materials Inc
Current assignee: Applied Materials Inc
Priority date: 2017-01-23
Filing date: 2017-01-23
Publication date: 2019-08-23
Anticipated expiration: 2037-01-23
Also published as: KR20190110593A; TWI657532B; KR102353238B1; WO2018133952A1; CN110168131B; JP2020505513A; TW201828406A

Abstract

描述一种配置成附接到用于保持基板的载具主体的保持器。保持器包括：布置成面对材料源或掩模的前部；布置成背离材料源的后部，其中后部包括具有倾斜表面的斜面部分；和用于接收设置在前部和后部之间的基板的凹槽。

Description

基板保持器

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于在处理(例如，用于层沉积)期间保持基板的保持器。本公开内容的实施方式特别涉及一种配置成附接到载具的载具主体的保持器，用于在真空层沉积期间保持基板。具体而言，本公开内容的实施方式涉及一种配置成附接到用于保持基板的载具的载具主体的保持器、一种用于保持一个或多个基板的载具以及一种用于将基板固定在具有载具主体的载具中的方法。

背景技术

已知用于在基板上沉积材料的数种方法。例如，可以通过物理气相沉积(PVD)处理、化学气相沉积(CVD)处理、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)处理等来涂覆基板。通常，该处理在处理设备或处理腔室中执行，待涂覆的基板位于该处。在设备中提供沉积材料。多种材料以及其氧化物、氮化物或碳化物可用于沉积在基板上。此外，可以在处理腔室中进行其他处理动作，例如蚀刻、构造、退火或类似者。

涂层材料可用于数种应用和数个技术领域。例如，应用在微电子领域，例如生成半导体装置。此外，用于显示器的基板通常通过物理气相沉积(PVD)处理被涂覆。其他应用包括绝缘面板、有机发光二极管(OLED)面板、具有薄膜晶体管(TFT)的基板、滤色片或类似者。

通常，玻璃基板可在其处理期间被支撑在载具上。载具支撑玻璃或基板并通过处理机器驱动。也就是说，载具驱动玻璃或基板。载具通常形成框架或板子，其沿着基板周边支撑基板，或者在后者的情况下支撑基板表面。

为了将基板固定在载具中，可以使用不同的保持布置，例如玻璃保持器。由于增加的颗粒要求，例如对于薄膜晶体管(TFT)应用来说，避免产生粒子变得更重要。侧面沉积在载具和保持器上，例如夹具，以及保持器内的玻璃运动，例如玻璃夹，是靠近玻璃表面的主要颗粒发生器。

鉴于上述，提供一种保持器，特别是配置成附接到用于保持基板的载具主体的保持器是有益的，其克服了本领域中的至少一些问题。

发明内容

鉴于上述，提供一种配置成附接到用于保持基板的载具的载具主体的保持器、一种载具以及一种用于将基板固定在载具中的方法。本公开内容的其它方面、优点和特征从从属权利要求、说明书和所附附图中显而易见。

根据一个实施方式，提供一种配置成附接到载具主体以用于保持基板的保持器。保持器包括：布置成面对材料源或掩模的前部；布置成背离材料源的后部，其中后部包括具有倾斜表面的斜面部分；和用于接收设置在前部和后部之间的基板的凹槽。

根据另一方面，提供一种包括至少一个保持器的载具。至少一个保持器包括。保持器包括：布置成面对材料源或掩模的前部；布置成背离材料源的后部，其中后部包括具有倾斜表面的斜面部分；和用于接收设置在前部和后部之间的基板的凹槽。

根据又一方面，提供一种用于将基板固定在具有载具主体的载具中的方法。该方法包括：将基板装载在载具上；使至少一个保持器相对于载具主体朝向基板移动，所述至少一保持器包括斜面部分；和利用斜面部分在槽的第一部分中引导基板。

附图说明

为了能够详细理解本公开内容的上述特征的方式，可以通过参考实施方式来提供上面简要概述的更具体的描述。所附附图涉及本公开内容的实施方式，并且描述如下：

图1绘示根据本文描述的实施方式的载具并具有至少一个保持器；

图2绘示用于说明本公开内容的实施方式的改进的保持器；

图3绘示根据本文描述的实施方式的保持器；

图4A和图4B绘示根据本文描述的实施方式的另一保持器的不同视图；

图5A和图5B绘示根据本文描述的实施方式的另一保持器的不同视图；

图6绘示根据本文描述的实施方式的具有保持器的载具并且绘示以机器人手臂装载；

图7绘示根据本文描述的实施方式的用于将基板固定在具有载具主体的载具中的方法的流程图；和

图8绘示根据本文描述的实施方式的沉积腔室的示意图。

具体实施方式

现在将详细参考本公开内容的各种实施方式，其中的一个或多个示例在图式中描述。在附图的以下描述中，相同的附图标记指示相同的部件。通常，仅描述关于各个实施方式的差异。每个示例是通过对本公开内容的解释来提供的，并不意味着对本公开内容的限制。此外，作为一个实施方式的一部分阐述或描述的特征可以用在其他实施方式上或与其他实施方式结合使用，以产生又一个实施方式。这意味着描述包括这样的修改和变化。

根据本文描述的实施方式，提供一种包括至少一个保持器的载具。所述至少一个保持器配置成保持或夹持基板。保持器包括斜面部分，以在具有小间隙(例如0.5mm或更小的间隙，例如大约0.1mm)的另一个凹槽部分中形成引导基板的凹槽的一部分。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的一些实施方式，基板厚度可为0.1至1.8mm，并且保持器可适用于这种基板厚度。当基板厚度约为0.9mm或更小时，例如0.7mm或0.5mm或0.3mm，并且保持器特别适用于这种基板厚度时，这可能是特别有利的。保持器也可以适用于更小或更大的基板厚度。根据可以与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，包括至少一个保持器的保持器或载具可以适用于特定的玻璃厚度。与特定玻璃厚度相比具有较小厚度的玻璃基板也可以由保持器或包括保持器的载具支撑。

根据可与本文所述的其它实施方式结合的一些实施方式，大面积基板可具有至少0.174m²的尺寸。尺寸可以是约1.375m²至约10m²，更通常是约2m²至约11m²或甚至高达12m²。通常，提供根据本文所述的实施方式的掩模结构、设备和方法的矩形基板是如本文所述的大面积基板。例如，大面积基板可以是第5代其对应于约1.4m²基板(1.1m×1.3m)、第7代其对应于约4.39m²基板(1.95m×2.25m)、第8.5代其对应于约5.5m²的基板(2.2m×2.5m)，甚至是第10代其对应于约8.7m²的基板(2.85m×3.05m)。甚至更大的世代例如第11代和第12代以及相对应的基板面积可类似地实现。然而，本领域技术人员可以理解，保持器可以用于任何基板尺寸，即甚至比以上概述的更小或更大的基板尺寸。

通常，基板可以由适合于材料沉积的任何材料制成。例如，基板可以由选自玻璃(例如钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等)、金属、聚合物、陶瓷、复合材料、碳纤维材料或任何其他材料或可以由沉积处理而被涂覆的材料的组合。

图1绘示根据本文描述的实施方式的载具100，并且具有至少一个保持器200。载具100配置成用于支撑基板101。如图1所示，基板101是设置在载具100内的一位置处，特别是在处理腔室中进行处理时。载具100包括框架或载具主体160。例如，载具主体可以定义窗口或开孔。根据典型的实施方式，载具主体160提供基板接收表面。

图1进一步绘示可以布置在载具100的下部的导杆162，例如是杆件。在操作期间，导杆162可以设置在载具主体160的下方。导杆可配置成与传输系统(例如滚轮布置)接触。载具100还可以包括上部导向布置164。上部导向布置164可以配置成用于支撑载具100与传输系统的上部的位置。

根据另外的实施方式，载具可配置用于非接触式传输，例如利用磁悬浮系统。用于非接触式传输的载具的布置可以在载具的上部具有磁性元件，该磁性元件是配置为与磁悬浮系统相互作用。载具的下部可配置成用于载具的横向稳定，或者载具主体160可以悬挂在非接触式传输布置中。

根据可以与本文所述的其他实施方式组合的一些实施方式，多个保持器200可以是可移动的，特别是可以在垂直于或基本上垂直于载具主体的边缘的方向上移动。例如，载具主体的边缘可以是由载具主体形成的开孔的边缘。保持器可以在垂直于或基本上垂直于由保持器支撑的基板的各别边缘的方向上移动。在图1中，保持器的移动由箭头201表示。根据一些实施方式，在载具主体的一侧(左侧或右侧)的保持器200和在载具主体的顶侧或底侧的保持器200，特别是如图1所示在载具主体的顶侧，可以移动。载具主体160包括第一侧、第二侧、第三侧和第四侧。在此，在第一侧、第二侧、第三侧和第四侧的每一侧上可以设置至少八个保持器，特别是至少24个保持器，至少八个保持器中的至少两个相对应的保持器被安装。保持器的至少两个相对应的保持器可移动地安装在第一侧、第二侧、第三侧和第四侧的两个相邻位置上。

保持器可以在载具主体的两个相邻的侧面上移动，例如图1中的右侧和顶侧。移动保持器允许缩回保持器200。保持器200可以缩回以将玻璃基板装载或卸除到载具主体中。通过如图1中的箭头201所示的那样缩回保持器，分别由载具主体或保持器200形成的开孔增大。增加的开孔尺寸为玻璃基板的装载或卸除提供了足够的空间。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的一些实施方式，载具主体160可由铝、铝合金、钛、钛铝合金、不锈钢或类似者制成。对于比较小的大面积基板，例如第5代或以下，载具主体160可以由单件制成，即框架是一体成形的。然而，根据可与本文所述的其他实施方式组合的一些实施方式，载具主体160可包括两个或更多个元件，例如顶杆、侧杆和底杆。特别是对于非常大面积的基板，载具或载具主体可以制造成具有多个部分。载具主体的这些部分被组装以提供用于支撑基板101的载具主体160。载具主体160是特别配置用于接收基板区域中的基板101，基板区域例如是载具主体的开孔。

图2绘示保持器20，其可以与普通的夹具相比较。保持器或夹具具有矩形截面的基板接收部分或凹槽30，即矩形凹槽。保持器20具有后部216、前部和中间部分212。中间部分212连接前部214和后部216。前部214面向沉积材料或材料源。材料沉积的方向由箭头25表示。后部216远离沉积材料，使得在沉积材料和后部216之间提供基板101。

对于具有矩形基板接收部分30的保持器或夹具，在保持器或夹具与玻璃之间可存在相对较大的间隙，以便使玻璃容易进入保持器或夹具。例如，图2绘示后部216与基板101的玻璃之间的后部间隙21以及前部214与基板101的玻璃之间的前部间隙23。该间隙允许玻璃在保持器的凹槽内移动，即权利要求。

如图2进一步所示，沿着由箭头25所示的方向沉积到基板101上的材料可能导致侧面沉积50，即，在保持器20上不希望材料的沉积。侧面沉积50可以特别蔓延到前部间隙23中。基板101和保持器之间的摩擦可能导致颗粒产生。玻璃掩模间的间隙26例如由前部间隙23、在前部214处的保持器的宽度以及掩模保持器间的间隙27提供。由于夹具内部的不确定的玻璃位置，玻璃掩模间的间隙26可能相对较大，例如导致较大的前部间隙23。前部间隙23相对于保持器设置在保持器和玻璃之间。保持器或夹具可以彼此分离地设置，进而产生例如在保持器和掩模70之间的掩模保持器间的间隙27。由于保持器或夹持器不能以与掩模70(例如去边缘掩模)相距不确定的距离被适当地覆盖，所以积累了相当大量的侧面沉积在保持器或夹具上。如图2所示，可能的是，侧面沉积进入夹具的凹槽，即前部214和基板101之间的间隙。保持器内的玻璃运动使侧面沉积松散，这进一步增加了颗粒的产生。

图3绘示根据本文描述的实施方式的保持器200。保持器200包括前部214和后部216。可配置成用于将基板101插入保持器200中的凹槽300包括具有倾斜表面的斜面部分220。斜面部分220提供半V形保持器或夹具，即用于基板的凹槽的一侧是V形的。用于基板的凹槽的另一侧可以不是V形，即可以是直的。半V型夹具设计解决了上面已经描述的一些或全部缺点。中间部分212可连接前部和后部。

在一方面，基板的装载或进给由大的保持器开口放到后部玻璃的后侧。另一方面，保持器内部的玻璃移动受限于例如0.1mm的小的间隙。具有小间隙的凹槽部分形成凹槽的第一部分。具有大的保持器开口的凹槽部分，即倾斜部分或半V形部分形成凹槽的第二部分。根据本公开内容的实施方式，可以提供具有形状不同的第一凹槽部分和第二凹槽部分的保持器。

根据一些实施方式，保持器或夹具可以根据使用的玻璃厚度定制，以具有小间隙的全部或大部分好处。或者，可以在处理系统中使用数个玻璃厚度，而无需更换载具的保持器，其中可以使用用于在处理系统中被处理的最厚的玻璃的保持器或夹具，甚至用于更薄的玻璃。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的本公开内容的实施方式，凹槽300可具有第一部分，例如图3中的下部。凹槽的第一部分可以具有基本上平行的表面，例如前部214的内表面和后部216的内表面。第一部分可以是平行部分。例如，第一部分可以在前部和后部的相对表面之间具有5°或更小，尤其是0°的第一角度。由于斜面部分220，凹槽300具有在相对表面之间具有大于第一角度的第二角度的第二部分。第二角度可以设置在斜面部分220的倾斜表面与前部214的内表面之间。第二角度可以是10°或更大，例如大约15°。形成第一角度的前部214的内表面和形成第二角度的前部214的内表面可以是相同的内表面，即一个平坦表面。

根据本公开内容的实施方式，特别是在第一部分，例如凹槽300的底部(即在与中间部分212相邻的凹槽部分处)，小间隙可以进一步导致基板101的更好或更平直的玻璃边缘。这也使得基板101的玻璃表面和掩模70(例如去边缘掩模)具有较小间隙。玻璃和掩模之间的较小间隙增加了均匀性并减少了在保持器或夹具上的侧面沉积。此外，由夹具内被限定的玻璃位置，夹具的内部更好地防止侧面沉积。玻璃掩模间的间隙326由例如小的前间隙、在前部214处的保持器的宽度以及掩模保持器间的间隙27提供。由于夹具内的玻璃位置，玻璃掩模间的间隙326可以减小，例如导致一个小的前间隙。在图3中，与图2中的侧面沉积50相比，来自沿着箭头25沉积的材料的侧面沉积250减少了。图3进一步绘示在材料沉积期间溅射靶材材料期间可以如箭头335所示旋转的可旋转或旋转阴极330。根据其他实施方式，可以使用用于材料沉积的平面阴极或其他来源。

图4A至图5B绘示保持器200的另外的实施方式。图4A和图5A绘示从前部214侧面的侧视图。图4B和图5B绘示与图2和图3类似的侧视图。图4A和图4B绘示根据一个示例的保持器200，其可用来阐述可以与本公开内容的实施方式结合的修改。保持器具有后部216。例如，后部可以具有20至40mm的高度，例如约30mm。前部214沿着保持器200的长度延伸。根据一些实施方式，长度(图4A中所示的从左到右的尺寸)可以是30到60mm，例如大约40mm。中间部分212可以具有5mm至15mm的宽度(图4B中所示的从左至右的尺寸)，例如约7mm。凹槽300在第一部分412处具有宽度，例如，在凹槽300的图4A至图5B中的底部，即在面对中间部分212的凹槽部分处。在保持器安装在载具的顶侧的情况下，图4A至图5B中的底部可以是凹槽的顶部。第一部分412的宽度对应于基板的厚度。通常，第一部分412的宽度可以比基板的厚度大0.05至0.2mm。例如，第一部分的宽度可以是0.6mm、0.7mm、0.8mm或1mm。根据可与本文所述的其它实施方式组合的实施方式，斜面部分220可具有10°至25°的倾斜表面的倾斜角度，例如约13°或约15°。根据可与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，斜面部分220或倾斜表面的高度可分别使得斜面部分的宽度为1.5mm至5mm，例如大约3mm。斜面部分的宽度对应于凹槽的第二部分处的凹槽的宽度增加。

此外，图4A所示的保持器200包括开口416。开口416配置成将保持器200安装到载具。例如，开口416可以包括用于接收螺丝或类似者的螺纹。开口416配置成将保持器200安装到载具上。保持器可以如箭头417所示的那样可枢转地安装到保持器上。保持器的枢转安装具有的优点是保持器可以旋转例如25°或更小，以使玻璃与凹槽的第一部分412完全接触。可以在凹槽的地面上提供玻璃沿玻璃边缘的完全接触。这可以减少玻璃边缘的应力。根据一些实施方式，凹槽300的第一部分412可以在其侧部弯曲。这对于轻轻地将基板装载到保持器200中可能是有益的。弯曲曲线可以具有2mm或更大的半径。

图5A和图5B绘示根据一个示例的保持器200，其可以用于阐述可以与本公开内容的实施方式结合的修改。与图4A和图4B所示的保持器200相比，图5A和图5B中绘示的一个示例的保持器200可以具有例如7mm至15mm的高度减小的后部216。根据另外的或可替换的修改，前部214可以是具有两个前部分段的前部分组件。在两个前部分段之间可以存在间隙，使得当从前部的一侧(即材料沉积侧)看时，斜面部分220被暴露。考虑到后部216的高度减小而不是开口，提供盲孔516以将保持器200安装到载具或载具主体上。

图6绘示在装载臂602(例如机器人手臂)的装载操作期间的载具100。如图6所示，载具主体160的四个侧面中的第一侧和第二侧上的保持器200移动到缩回位置。示例性地，图6中的顶侧和右侧的保持器200显示处于缩回位置。由于保持器的移动而提供缩回位置，如图1中的箭头201所示。例如，进入缩回位置和缩回位置之外的运动可以垂直于由保持器支撑的矩形基板101的边缘。

随着保持器200在顶侧和右侧的缩回位置，装载臂602可以使基板101在保持器之间的区域中移动，这是因为保持器之间的基板接收区域被扩大。基板可以如箭头603所示地移动，进而被支撑在例如图6中的下侧和左侧的保持器200中。根据可与本文所述的其他实施方式组合的一些实施方式，载具主体的两个相邻侧上的保持器200可以是固定的，并且载具主体的四个侧的其余两侧上的保持器可以是可移动的。其余两侧也可以是载具主体的相邻侧。

如上所述，保持器中的凹槽可以具有用于基板的第一部分，第一部分具有可比较小的间隙。第一部分邻近保持器的中间部分。例如，第一部分可以是在载具主体160的底侧上的保持器的凹槽的底部部分，并且可以是在载具主体的顶侧上的保持器的凹槽的顶部部分。此外，保持器中的凹槽可以具有包括斜面部分的第二部分。斜面部分将保持器开口的尺寸增加到保持器的后侧，即例如在基板上材料的沉积期间远离材料源的一侧。

为了将基板101装载到载具100中，如箭头603所示移动基板。包括斜面部分的沟槽的第二部分将基板引导到凹槽中。第二部分处的凹槽的增加的厚度允许基板顺利地插入到保持器中。在沿着箭头603移动之后，基板101被支撑在沟槽的第一部分中，其中第一部分为基板提供了与第二部分中的间隙相比更小的间隙。用于将基板保持在最终位置的减小的间隙减少了保持器处的侧面沉积，为支撑位置中的玻璃基板提供了稳定性，和/或允许例如利用去边缘掩模进行掩蔽而具有减小的基板与掩模距离。减小的基板与掩模距离进一步减少了侧面沉积。减少的侧面沉积和增加的能力减少了在处理基板期间的颗粒产生。

在基板沿着箭头603移动之后，图6中的顶侧和右侧的保持器200可从缩回位置移动到未缩回位置。而且在保持器的移动期间，保持器的凹槽的第二部分将基板引导到正确的位置，并且保持器的凹槽的第一部分提供增加的稳定性并减少保持器的最终位置中的侧面沉积。

根据不同的实施方式，载具100可以用于物理气相沉积处理、化学气相沉积处理、基板结构化磨边、加热(例如退火)或任何类型的基板处理。如本文所述的载具的实施方式和利用这种载具的方法，对于静止的，即非连续的基板处理特别有用。通常，载具是设置用于处理垂直方向的大面积玻璃基板。

图7绘示根据本文描述的实施方式的用于将基板101固定在具有载具主体160的载具100中的方法80的流程图。在方框81中，基板101是装载在载具100上。在方框82中，至少一个保持器200相对于载具主体160朝向装载的基板101移动。至少一个保持器200包括斜面部分220，例如是保持器的凹槽300的第二部分的斜面部分。在方框83中，基板101在具有斜面部分的凹槽(即凹槽的第二部分的倾斜表面)的一部分中被引导。

具有直的内表面的保持器的前部部分允许减少保持器的侧面沉积。凹槽的斜面部分的倾斜表面(即凹槽的第二部分)允许将基板顺利地插入保持器中。与凹槽的第二部分相比，凹槽的第一部分中的基板的较小间隙允许减少颗粒产生。特别地，半V形，即单侧V形允许这样的优点的组合。

图8绘示根据本文描述的实施方式的沉积腔室600的示意图。沉积腔室600适用于沉积处理，例如物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)处理。基板101是绘示位于基板传送装置620上的载具100内或其上。用于沉积材料的材料源630设置在腔室612中，面向待涂覆的基板101的侧面。材料源630提供待沉积在基板101上的沉积材料。

在图8中，材料源630可以是其上具有沉积材料的靶材或允许材料被释放以沉积在基板101上的任何其他布置。通常，材料源630可以是可旋转的靶材，即旋转靶材。根据一些实施方式，材料源630可以是可移动的以便定位和/或替换源。根据其他实施方式，材料源可以是平面靶材。

根据一些实施方式，沉积材料可以根据沉积处理和涂覆基板的稍后应用来选择。例如，源的沉积材料可以是选自由诸如铝、钼、钛、铜或类似物的金属、硅、氧化铟锡以及其他透明导电氧化物组成的群组中的材料。通常，可以包括这样的材料的氧化物层、氮化物层或碳化物层可以通过从源提供材料或通过反应性沉积来沉积，即来自源的材料与来自处理气体的如氧、氮化物或碳的元素反应。

通常，基板101设置在载具100内或载具100上。载具或载具组件还可以用作或包括去边缘掩模，特别是用于非静止的沉积处理。线条665示例性地绘示在沉积腔室600的操作期间沉积材料的路径。根据可与本文所述的其它实施方式组合的其它实施方式，掩模可由单独的去边缘掩模提供，其设置在腔室612中。根据本文描述的实施方式的载具对于静止处理和非静止处理可以是有利的。

根据可与本文所述的其他实施方式结合的实施方式，为了更容易地绘制图式，保持器200是设置为没有斜面部分，即半V形形状，进而牢固地保持基板101的边缘特别是在沉积处理中。实施方式可以提供增加的基板稳定性并且因此减少基板破裂，特别是鉴于基板的长度和高度变大的事实。此外，特别是在基板附近的颗粒产生可以减少。

根据本文所述的可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，可以在沉积过程中以垂直的方向(即基本上垂直的方向)提供基板和载具。当提及基板方向时，基本上垂直地被理解为允许从垂直的方向偏离20°或更低，例如10°或更低。可以提供例如这种偏差，因为与垂直方向有一些偏差的基板支撑可能导致更稳定的基板位置。或者，在相反方向上的偏离(基板朝下)可能导致基板上的颗粒数量减少。

虽然前述内容涉及本公开内容的实施方式，但是可以在不脱离本公开内容的基本范围的情况下设计本公开内容的其他和进一步的实施方式，并且其范围由随附的权利要求书确定。

Claims

1.一种保持器(200)，配置成附接到用于保持基板(101)的载具的载具主体(160)，所述保持器(200)包括：

前部(214)，布置成面对材料源或掩模；

后部(216)，布置成背向材料源，其中所述后部包括具有倾斜表面的斜面部分；和

凹槽，用于接收设置在所述前部和所述后部之间的基板。

2.如权利要求1所述的保持器，其中所述凹槽具有在第一相对表面之间具有5°或更小的第一角度的第一部分，并且其中所述凹槽具有在第二相对表面之间具有10°或更大的第二角度的第二部分。

3.如权利要求2所述的保持器，其中所述第二角度设置在所述斜面部分的所述倾斜表面与所述前部之间。

4.如权利要求2至3中任一项所述的保持器，其中所述第一角度是0°。

5.如权利要求2至4中任一项所述的保持器，其中所述第一相对表面是所述前部的内表面和所述后部的内表面，并且其中所述第二相对表面是所述前部的所述内表面和所述斜面部分的所述倾斜表面。

6.如权利要求5所述的保持器，其中所述凹槽包括半V形部分和平行部分。

7.如权利要求1至6中任一项所述的保持器，其中所述前部是具有至少两个前部分段的前部分组件，所述两个前部分段之间具有间隙。

8.如权利要求1至7中任一项所述的保持器，进一步包括：

用于将所述保持器安装到载具主体上的开口或盲孔。

9.一种载具(100)，包括如权利要求1至8项中任一项所述的至少一个保持器(200)。

10.如权利要求9所述的载具，进一步包括载具主体(160)，所述载具主体(160)包括第一侧、第二侧、第三侧和第四侧，其中所述至少一个保持器(200)为至少八个保持器，特别地为至少24个保持器，并且其中在所述第一侧、所述第二侧、所述第三侧和所述第四侧的每一侧上安装所述至少八个保持器中的至少两个对应的保持器。

11.如权利要求10中任一项所述的载具，其中所述至少八个保持器中的所述至少两个对应的保持器可移动地安装在所述第一侧、所述第二侧、所述第三侧和所述第四侧的两个相邻位置上。

12.一种用于将基板(101)固定在具有载具主体(160)的载具(100)中的方法(80)，包括：

将基板(101)装载到所述载具(100)上；

相对于所述载具主体(160)朝向所述基板(101)移动(82)至少一个保持器(200)，所述至少一个保持器(200)包括斜面部分(210)；和

利用所述斜面部分引导凹槽的第一部分中的所述基板。

13.如权利要求12所述的方法，进一步包括：

将所述基板支撑在所述凹槽的第二部分中，其中所述第二部分对所述基板具有0.5mm或更小的间隙，特别地具有0.2mm或更小的间隙。