CN110156495A - 一种3d釉面的施釉工艺方法 - Google Patents

Abstract

本发明研制一种3D釉面的施釉工艺方法，一种眼睛和身体能感知到的三维立体的，并且具有丰富的色彩、光泽、表面、材质等外观质感的3D釉面，本发明所采用的技术方案为：采用全数码喷墨工艺，将喷底釉、喷设计图案、喷剥开釉以及喷干粒相结合，用喷头把剥开釉施在底釉上，剥开釉料在底釉干燥过程中产生张力作用，使底釉层上喷有剥开釉的图案纹理形成下凹槽，并在该凹槽内表面喷珠光干粒，高温烧成后，凹槽里光泽晶莹剔透，与砖面其他部位形成立体及光影的对比，得到具有3D效果的釉面；本发明最大的特点就是釉面效果细腻和逼真，其线条细腻柔顺，凹凸和明暗变化自然，能最大限度的将仿木纹和石材的质感、触感和视觉效果全方位多角度的呈现出来。

Description

一种3D釉面的施釉工艺方法

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷领域，特别是一种3D釉面的施釉工艺方法。

背景技术

人们日常生活中，眼睛和身体感知到的事物都是三维立体的，并且具有丰富的色彩、光泽、表面、材质等等外观质感，以及巧妙而错综复杂的内部结构；我们对这世界的任何发现和创造的原始冲动都是三维的。在建筑瓷砖领域，人们追求产品的三维立体效果，但目前瓷砖产品大多是局限于平面图案的表现手法，而具有凹凸纹理及其手感的瓷砖的生产工艺方法，主要以模具压制的方式，事先把凹凸纹理压制在砖坯上然后再施釉印花，其效果凌角模糊，不能产生凹凸纹理自然变化。另外的一些方法多通过淋喷、平板印刷为表现手段，把色釉印在砖坯表面，形成事先设计好的有规律性的凸起纹理。

譬如，过去木纹砖的印花，如若要在砖体上呈现出木纹凹凸的质感和触感，则首先要借助模具来完成砖体表面的凹凸，然后再通过喷墨将木纹的木质纹理打印上去，在这两个工序中，很难令图案和凹凸完美匹配，无法实现在凹下去的地方精准打印出深色木纹，在凸起来的地方精准呈现浅色木纹，成为行业遗憾。而平面纹理以平面图案的方式表现，更是缺少天然质感，无自然纹理的深度和宽度，效果不真实；印刷釉获得的凹凸效果，凹凸肌理与釉面图案无法精准对位，效果生硬，与天然素材存在较大差异，且工艺复杂、成本高。

发明内容

本发明的目的即在于克服现有仿三维立体效果瓷砖生产工艺方法的一些不足，本发明提出一种3D釉面的施釉工艺方法，特别是一种用于墙地面装饰的瓷砖，该工艺方法不同于以往的方法。

本发明所采用的技术手段如下所述。

本发明所述的一种3D釉面的施釉工艺方法，包含以下步骤：

1）在坯体表面喷一层平整白釉；

2）喷设计花色图案；

3）喷剥开釉浆，在底釉及图案层上形成具有憎水性烃链的线条；

4）自然风干过程中釉面剥开，形成线条，边缘微微凸起；

5）喷珠光干粒于对应凹槽中；

6）烧成产品，得到凹凸线条和明暗变化的3D釉面。

进一步的，所述剥开釉浆的化学组成以重量百分比计包含有聚氧乙烯化合物8%~15%，烷基聚氧乙烯醚5~10%，氯化铵为10~15%，超细颗粒物化工釉粉为5~8%，水为65~70%。

进一步的，所述超细颗粒物化工釉粉为常规格透明釉粉，细度为325目筛余＜0.1%。

进一步的，所述超细颗粒物化工釉粉的主要成分为蒙脱石。

进一步的，所述凹槽深度介于0.1~1mm之间，且所述凹槽外缘与所述底釉层相接处形成高于坯体表面的凸起边缘。

进一步的，在步骤1）至步骤6）中所述施釉工艺均采用全数码喷釉工艺。

进一步的，在步骤6）中，所述坯体烧结温度为1200℃。

本工艺方法最大的特点就是釉面效果细腻和逼真，其线条细腻柔顺，凹凸和明暗变化自然，能最大限度的将仿木纹和石材的质感、触感和视觉效果全方位多角度的呈现出来。

本发明所产生的有益效果为：通过全数码喷墨机打印实现3D釉面的施釉工艺，从生产的角度来说，可以节省人工、避免技术缺陷和繁复生产工序，并且无需借助模具就可以做出不同的3D效果的产品。可以很简单地表达石材及木纹表面亮哑结合的质感，更加逼真细腻，细节表现力强。

附图说明

图1是一种几何图案的釉面瓷砖示意图。

图2是图1中几何图案的凹槽结构示意图。

图3是一种仿石材的釉面瓷砖示意图。

图4是图3中仿石材凹槽结构示意图。

具体实施方式

本发明所述一种3D釉面的施釉工艺方法，其采用为全数码喷釉工艺，将喷底釉、喷设计图案、喷剥开釉以及喷干粒等步骤相结合，制作过程中运用全新的具有排釉能力的剥开釉基料，并调配成即具有剥釉功能又能适应喷头喷釉要求的剥开釉料，剥开釉料在底釉干燥过程中产生张力作用，使底釉层上喷有剥开釉的位置形成下凹槽，凹槽边缘微微凸起，然后在对应凹槽喷一道珠光干粒，最后在1200℃下进行烧制，形成事先设计文件中设定好的凹槽图案，凹槽里珠光干粒闪光晶莹剔透，与砖面其他部位形成立体及光影的对比，最终得到具有3D效果的釉面。

下面结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种3D釉面的施釉工艺方法，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下：

【实施例1】

图1是一种几何图案的釉面瓷砖示意图，现结合图1对本发明的具体实施步骤加以说明。具体来讲，在坯体1上，运用喷墨机施一道底釉层2，然后在坯体1表面的至少一部分上喷几何正方形设计图案（图中未标出），并在设计图案位置处再喷剥开釉层（图中未标出），本发明中所述剥开釉的成分组成包括油性溶剂、分散剂、悬浮剂、颗粒物质，其中所述油性溶剂为活性防水剂。具体来讲，所述剥开釉浆的化学组成以重量百分比计包含有聚氧乙烯化合物（RO(C₂H₄O)_nH）8%~15%，烷基聚氧乙烯醚（APE）5~10%，氯化铵（NH₄Cl）为10~15%，超细颗粒物化工釉粉为5~8%，水为65~70%。其中，所述超细颗粒物化工釉粉为常规格透明釉粉，细度为325目筛余＜0.1%；所述超细颗粒物化工釉粉的主要成分为蒙脱石，聚氧乙烯化合物（RO(C₂H₄O)_nH）即为优选的活性防水剂。

此时剥开釉在底釉层2及图案层上形成具有憎水性烃链的方框，在自然风干过程中釉面在应力作用下移动剥开，形成向下的凹槽3，所述凹槽深度介于0.1~1mm之间，且所述凹槽3外缘与所述底釉层2相接处形成凸起，构成略高于所述底釉层2的凸起边缘4。

为达到更逼真的3D效果，该凹槽3由深凹槽31和浅凹槽32构成，所述方形浅凹槽32位于该凹槽3的中心对称位置，所述凸起边缘4与所述浅凹槽32外缘之间区域为深凹槽31，所述深凹槽31区域覆盖有至少一层珠光干粒，形成干粒区域5，同时所述浅凹槽32内不设置干粒区域5，将上述坯体1在1200℃高温下进行烧制，所述干粒区域5内珠光干粒闪光晶莹剔透，与砖面其他部位形成立体及光影的对比，最终得到下凹有深浅变化的方框和光泽明暗变化的3D釉面瓷砖。

【实施例2】

请参阅图2，图2是一种仿石材的釉面瓷砖示意图，与【实施例1】相同或相似，两者仅仅存在凹槽3形状上的差别，具体说明如下：同样在坯体1上，运用喷墨机施一道底釉层2，然后在坯体1表面的至少一部分上喷印仿石材设计图案层，然后再该图案层相应位置处覆盖一层喷剥开釉层（图中未标出），剥开釉层在自然风干过程中将坯体1上表面的釉面剥开，形成向下的凹槽3以及凸起边缘4，然后于对应凹槽3中覆盖一层珠光干粒层5，最后经过1200℃高温烧制，得到凹凸线条和明暗变化的3D釉面瓷砖。

以上所述之实施例只为本发明之较佳实施例，并非以此限制本发明的实施范围，故凡依本发明之形状、原理所作的变化，均应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (7)

1.一种3D釉面的施釉工艺方法，其特征在于，包含以下步骤：

1）在坯体表面喷一层平整白釉；

2）喷设计花色图案；

3） 喷剥开釉浆，在底釉及图案层上形成具有憎水性烃链的线条；

4）自然风干过程中釉面剥开，形成线条，边缘微微凸起；

5）喷珠光干粒于对应凹槽中；

6）烧成产品，得到凹凸线条和明暗变化的3D釉面。

2.如权利要求1所述的一种3D釉面的施釉工艺方法，其特征在于，所述剥开釉浆的化学组成以重量百分比计包含有聚氧乙烯化合物8%~15%，烷基聚氧乙烯醚5~10%，氯化铵为10~15%，超细颗粒物化工釉粉为5~8%，水为65~70%。

3.如权利要求2所述的一种3D釉面的施釉工艺方法，其特征在于，所述超细颗粒物化工釉粉为常规格透明釉粉，细度为325目筛余＜0.1%。

4.如权利要求2所述的一种3D釉面的施釉工艺方法，其特征在于，所述超细颗粒物化工釉粉的主要成分为蒙脱石。

5.如权利要求1所述的一种3D釉面的施釉工艺方法，其特征在于，所述凹槽深度介于0.1~1mm之间，且所述凹槽外缘与所述底釉层相接处形成高于坯体表面的凸起边缘。

6.如权利要求1所述的一种3D釉面的施釉工艺方法，其特征在于，在步骤1）至步骤6）中所述施釉工艺均采用全数码喷釉工艺。

7.如权利要求1所述的一种3D釉面的施釉工艺方法，其特征在于，在步骤6）中，所述坯体烧结温度为1200℃。