CN110100499A - 发热体以及真空热处理装置 - Google Patents
发热体以及真空热处理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110100499A CN110100499A CN201780080387.8A CN201780080387A CN110100499A CN 110100499 A CN110100499 A CN 110100499A CN 201780080387 A CN201780080387 A CN 201780080387A CN 110100499 A CN110100499 A CN 110100499A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- heater
- unit
- treated object
- hot plate
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
- C21D1/773—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material under reduced pressure or vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D11/00—Arrangement of elements for electric heating in or on furnaces
- F27D11/02—Ohmic resistance heating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/02—Details
- H05B3/06—Heater elements structurally combined with coupling elements or holders
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/62—Heating elements specially adapted for furnaces
- H05B3/64—Heating elements specially adapted for furnaces using ribbon, rod, or wire heater
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
该发热体(10)为配置于收容在真空热处理装置(S1)的被处理物(W)的周围且在真空气氛下对被处理物进行加热的发热体,具备:多个电气加热器(18);与将该多个电气加热器相互地连接的导电性连接器(c4),电气加热器与导电性连接器相互紧贴地接合。
Description
技术领域
本公开内容涉及发热体以及真空热处理装置。
本申请基于2017年1月18日在日本申请的特愿2017-006901号主张优先权,并在此引用其内容。
背景技术
例如,在专利文献1中,公开有能够在真空状态下对被处理物尽可能均匀地进行加热的真空炉。在这样的真空炉中,对炉内进行加热的加热器(发热体)分割为上部加热器与下部加热器,进而通过将上部加热器分割为前部空间(zone)、后部空间、前部空间与后部空间之间的中间部空间从而进行控制,划分为热量容易逃逸的区域与热量难以逃逸的区域从而进行控制,降低炉内温度的不均。
在专利文献2中,公开有渗碳处理装置以及方法。
在专利文献3中,公开有真空渗碳处理方法以及真空渗碳处理装置。
在专利文献4中,公开有电气加热炉用加热装置。
在专利文献5中,公开有真空炉。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平5-271751号公报
专利文献2:日本特开2007-84870号公报
专利文献3:日本特开2008-81781号公报
专利文献4:日本实开昭61-76693号公报
专利文献5:日本特开2001-255073号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
如专利文献1所公开的那样,真空炉的发热体通过将多个加热器在结构上连接并且电气地连接,形成包围被处理物的大致筒状的加热区域(加热部)。由于将加热器彼此电气地连接,所以存在使用导电性连接器的情况。在该情况下,若在加热器与导电性连接器的接触面产生电阻,则有可能会因该电阻而损失能量,从而加热器未按照设计发热,不能均匀地加热被处理物。然而,在这样的专利文献1中的真空炉中,对于加热器与导电性连接器的接合方法,未进行任何公开或者教导。
本公开内容鉴于上述问题点而完成,目的在于使发热体按照设计发热,从而均匀地加热被处理物。
用于解决技术问题的方案
为了解决上述技术问题,本公开内容的一方案为配置于收容在真空热处理装置的被处理物的周围且在真空气氛下对上述被处理物进行加热的发热体,其具备多个电气加热器与将该多个电气加热器相互连接的导电性连接器,上述电气加热器与上述导电性连接器互相紧贴地接合。
发明效果
根据本公开内容的一方案,发热体所具备的多个电气加热器与导电性连接器以紧贴的状态连接。由此,能够增大电气加热器与导电性连接器的接触面积,能够减少电气加热器与导电性连接器的连接部的电阻。因此,能够按照设计使发热体发热,从而均匀地加热被处理物。
附图说明
图1是示出本公开内容一实施方式的具备发热体的真空热处理装置的概略构成的剖视图。
图2是本公开内容一实施方式的具备发热体的加热器的立体图。
图3是示意性示出本公开内容一实施方式的具备发热体的真空热处理装置的隔热室的放大剖视图。
图4是示出本公开内容一实施方式中的温度调整系统的功能构成的方框图。
具体实施方式
以下参照附图对本公开的具备发热体的真空热处理装置的一实施方式进行说明。另外,在以下的附图中,为了使各部件为可识别的大小,对各部件的比例尺进行适当变更。
图1是示出本实施方式的具备发热体的真空热处理装置S1的概略构成的剖视图。图1是沿着真空热处理装置S1的铅直方向的纵剖视图。如该图所示,本实施方式的真空热处理装置S1是具备对被处理物W进行冷却的冷却室20以及在真空气氛下对被处理物W进行加热的加热室30的热处理装置,除这些之外,在冷却室20与加热室30之间具有中间室40。另外,在真空热处理装置S1中,将中间室40的设置有后述的真空屏蔽门用升降部41以及隔热门用升降部42的一侧称为上侧,将其相反侧称为下侧。冷却室20与加热室30在水平方向上排列。
冷却室20构成为具备使冷却气体X在内部循环的热处理炉1与配置于热处理炉1的内部的风炉室2。此外,在热处理炉1的内部,除了风炉室2之外,还配置有用于将冷却气体X冷却的热交换器3与用于使冷却气体X在热处理炉1的内部循环的风扇4。
热处理炉1被形状设定为大致圆筒形状,以使即便在热处理炉1的内部的压力状态发生变化的情况下也能够耐受该压力,热处理炉1被姿势设定为该圆筒形的中心轴与水平面平行。此外,热处理炉1的一侧端部作为真空屏蔽门80而构成。另外,在热处理炉1的内部,风炉室2的外部空间由分隔板(未图示)分为上下两部分。此外,通过该分隔板对风炉室2进行支承。
在风炉室2的内部对被处理物W进行加热处理以及冷却处理。在该风炉室2的内部,配置有用于载置被处理物W的载置台21,在该载置台21设置有多个自由辊22,用于将被处理物W容易地搬出搬入。另外,该载置台21呈在上下方向上能够供气体通过的结构(例如格子状)。此外,风炉室2的上壁部以及下壁部构成为用于使冷却气体X的流动均匀化且进行整流的均匀化整流部7(7a、7b)。具体而言,作为该均匀化整流部7,使用将对划分成格子状的格子箱与冲孔网组合而成的结构等。
此外,冷却室20的后端部(配置有热交换器3以及风扇4的端部)构成为能够开闭的门50。另外,门50由支承脚51支承,该支承脚51固定(连结)于设置在地面(真空热处理装置S1的设置面)的滑动装置52。通过驱动该滑动装置52,如图所示,门50在水平方向上相对于冷却室20(冷却室20的门50以外的部分)接近或远离。通过采用这样的滑动装置52,能够容易地进行门50的开闭。另外,作为容易地开闭门50的机构,不限于滑动装置52,例如也可以是铰链装置等。
加热室30与冷却室20同样地被形状设定为大致圆筒形,如图所示,与冷却室20夹着中间室40而对置地配置。此外,在与加热室30连结的输送棒收纳室62的内部,在真空热处理装置S1的内部设置有用于输送被处理物W的输送棒61。在加热室30的内部,设置有使用隔热材料等形成的、能够在内部收容被处理物W的隔热室31。
此外,隔热室31收容有用于对被处理物W进行加热的加热装置10(发热体)。即,在隔热室31内配置有加热装置10。图2是加热装置10的立体图,图3是示意性示出隔热室31的放大剖视图。如这些图所示,本实施方式的加热装置10具备合计6个的加热器单元11~16。加热器单元11、12配置于隔热室31的出入口侧(图1所示的隔热室31的隔热门32侧)的区域即前方区域R1(被处理物W的搬入方向上的前方区域)。加热器单元13、14配置于隔热室31的中间区域R2(被处理物W的搬入方向上的前方区域与后述的后方区域之间的区域)。加热器单元15、16配置于隔热室31的里侧区域(与上述出入口相反侧的区域)即后方区域R3(被处理物W的搬入方向的后方区域)。并且,如图2所示,各加热器单元11~16以包围被处理物W的方式配置。即,各加热器单元11~16绕沿被处理物W的输送方向(图1以及图3的纸面左右方向)延伸的直线以大致矩形环状的方式配置。加热器单元11~16从隔热室31的上述出入口朝向其相反侧沿被处理物W的输送方向配置。
加热器单元11~16的一端分别具备供电端子17且与后述的控制部121连接。加热器单元11、12的另一端与单元连接器c1(单元用导电性连接器)连接,加热器单元13、14的另一端与单元连接器c2(单元用导电性连接器)连接,加热器单元15、16的另一端与单元连接器c3(单元用导电性连接器)连接。此外,各加热器单元11~16构成为,4根大致圆柱状的棒状加热器18(电气加热器)经由多个加热器连接器c4(导电性加热器)连接以使4根大致圆柱状的棒状加热器18呈大致四边形(环状)。本实施方式的棒状加热器18为电阻加热器,构成为经由通电而发热(产生焦耳热)。例如可以使用由石墨形成的石墨加热器、由陶瓷形成的陶瓷加热器等作为棒状加热器18。单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4由导电性部件构成,并且分别形成能够供棒状加热器18的端部插入的孔。在本实施方式中,从该孔的中心轴线方向观察到的形状为圆形。棒状加热器18的两端部插入至单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的任一个的孔中。
棒状加热器18的两端部的直径与形成于单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的任一个孔(开口)的直径大致相同,通过滑动磨合而使棒状加热器18与单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的任一个接合。另外,棒状加热器18的两端部也可以通过在组装时用砂纸等磨削而调整直径,从而插入单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的孔中。由此,棒状加热器18的两端部在接合时呈外周面与单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的孔的内壁(内周面)紧贴的状态。此外,配置于隔热室31的下表面侧的棒状加热器18,设定为与其它3根棒状加热器18即配置于隔热室31的侧面侧以及上表面侧的棒状加热器18相比直径较粗。即,配置于被处理物W的下方的棒状加热器18的直径比配置于被处理物W的侧方以及上方的棒状加热器18的直径大。由此,配置于隔热室31的下表面侧的棒状加热器18的发热量比配置于隔热室31的侧面侧以及上表面侧的棒状加热器18的发热量大。
此外,也可以是,通过制造或加工等形成棒状加热器18的端部,以使其具有能够与单元连接器c1~c3或加热器连接器c4的孔的内周面紧贴的直径,并且在将棒状加热器18与连接器c1~c4接合时,使棒状加热器18的端部绕其中心轴线与孔相对地旋转,一边与孔的内周面滑动磨合一边插入到孔中,从而使端部的外周面与孔的内周面互相匹配地紧贴接合。如果采用这样的接合方法,例如即使在棒状加热器18由比较脆的石墨等形成的情况下,也能够使棒状加热器18的端部不会缺损或破损地与连接器c1~c4接合,并且,通过使棒状加热器18的端部绕中心轴线旋转并使其一边滑动磨合一边插入到孔中,端部的外周面与孔的内周面相互匹配,能够将接合后的两者之间的电阻抑制得较低。另外,也可以是在接合时棒状加热器18的端部的端面与连接器c1~c4的孔的底面磨合并接触的构成。通过使端面与底面相互接触,能够将棒状加热器18与连接器c1~c4之间的接触电阻抑制得更低。
这样的加热器单元11~16在隔热室31内以相互平行的方式排列。进而,加热器单元11~16中每2个相邻的加热器单元分别经由单元连接器c1~c3连接。具体而言,加热器单元11与加热器单元12由单元连接器c1连接,加热器单元13与加热器单元14由单元连接器c2连接,加热器单元15与加热器单元16由单元连接器c3连接。由各单元连接器c1~c3连接的2个加热器单元分别在隔热室31内以相邻的方式配置,从而构成组g1~g3。具体而言,组g1由加热器单元11与加热器单元12构成,组g2由加热器单元13与加热器单元14构成,组g3由加热器单元15与加热器单元16构成。即,单元连接器c1~c3分别设置在组g1~g3中,以使加热器单元11~13形成组g1~g3。换言之,单元连接器c1~c3被分散地配置,以使加热器单元11~13形成组g1~g3。组g1~g3分别被控制部121分别地调整温度。为了使热量不会从隔热室31的出入口附近逃逸,设定为配置于前方区域R1的组g1的发热量比组g2以及组g3的发热量大。
此外,如图3所示,在隔热室31的内部,配置有对前方区域R1的温度进行测量的热电偶71、对中间区域R2的温度进行测量的热电偶72、与对后方区域R3的温度进行测量的热电偶73。另外,作为测量温度的装置,并不限定于热电偶,例如也可以是非接触温度计(辐射温度计)。
图4是示出本实施方式的真空热处理装置S1的温度调整系统100的功能构成的方框图。如该图所示,上述的加热器单元11~16以及热电偶71~73作为温度调整系统100的构成要素而包含。具体而言,温度调整系统100具备温度测量系统110与调整系统120,温度测量系统110对隔热室31内部的多个区域即区域R1~R3(前方区域R1、中间区域R2以及后方区域R3)的温度进行测量,调整系统120基于温度测量系统110的测量结果对区域R1~R3的温度个别地进行调整,以使被处理物W被均匀地热处理。并且,温度测量系统110构成为具备热电偶71~73与将该热电偶71~73的测量结果作为测量值而计算出的计算部111。此外,调整系统120构成为具备加热器单元11~16与控制部121,该控制部121基于规定的PID值以及从温度测量系统110输入的测量值来调整该加热器单元11~16的输出(发热量)。即,控制部121能够基于从温度测量系统110输入的测量结果对加热器单元11~16的发热量进行PID控制。
并且,在本实施方式的真空热处理装置S1中,控制部121基于热电偶71的测量结果来调整配置于前方区域R1的加热器单元11、12的输出,基于热电偶72的测量结果来调整配置于中间区域R2的加热器单元13、14的输出,并基于热电偶73的测量结果来调整配置于后方区域R3的加热器单元15、16的输出。即,在本实施方式的真空热处理装置S1中,对各区域R1~R3的温度分别地进行测量,根据该分别地测量的测量结果,分别地调整各区域R1~R3的温度。
具体而言,作为一例,本实施方式的控制部121在进行隔热室31内的预热时,以使组g1的发热量大于组g2、g3的发热量的方式进行设定。
此外,在被处理物W搬入隔热室31的状态下,控制部121以使组g1、g2的发热量大于组g3的发热量的方式进行设定。进而,在本实施方式的真空热处理装置S1中,控制部121能够设定与被填充在该区域中的被处理物W的质量相对应的PID值。因此,能够基于与被填充在各区域R1~R3中的被处理物W的质量相对应的PID值来调整各区域R1~R3的加热器单元11~16的输出。
回到图1,中间室40被形状设定为中空的大致长方体形状,配置于冷却室20与加热室30之间。在中间室40的上部,设置有用于使真空屏蔽门80在悬吊的状态下升降的真空屏蔽门用升降部41、与用于使隔热门32在悬吊的状态下升降的隔热门用升降部42。
接着,对如上所述地构成的本公开内容的真空热处理装置的动作进行说明。
首先,在通过滑动装置52使门50相对于冷却室20分离的状态下,被处理物W载置于风炉室2内部的载置台21。并且,门50通过滑动装置52与冷却室20抵接,冷却室20密闭。并且,通过驱动减压装置(未图示)将冷却室20、加热室30以及中间室40抽真空。并且,通过驱动真空屏蔽门用升降部41以及隔热门用升降部42,开放真空屏蔽门80以及隔热门32。此外,隔热室31的、设置在与隔热门32相反一侧的输送棒用门33也开放。
在此,通过输送棒61,被处理物W从风炉室2内部的载置台21移送至隔热室31内部的载置台34上。然后,再次驱动真空屏蔽门用升降部41以及隔热门用升降部42从而关闭输送棒用门33以及隔热门32,在该状态下,被处理物W被加热装置10加热。并且,在本实施方式的真空热处理装置S1中,通过温度调整系统100,对隔热室31内的各区域R1~R3的温度分别地进行测量,基于测量结果分别地控制各区域R1~R3的温度,以使被处理物W均匀地被热处理。
具体而言,通过构成温度调整系统的一部分的温度测量系统110的热电偶71对前方区域R1的温度进行测量,温度测量系统110的计算部111基于该测量结果计算出测量值并输出。此外,通过温度测量系统110的热电偶72对中间区域R2的温度进行测量,温度测量系统110的计算单元111基于该测量结果计算出测量值并输出。此外,通过温度测量系统110的热电偶73对后方区域R3的温度进行测量,温度测量系统110的计算单元111基于该测量结果计算出测量值并输出。
即,温度测量系统110对隔热室31的内部的多个区域的温度进行测量。
然后,通过温度测量系统110测量的测量值被输入到构成温度调整系统100的一部分的调整系统120。在此,作为一例,调整系统120的控制部121进行将组g1、g2的输出设为100%、将组g3的输出设为80%的控制。由此,加热装置10能够重点地对热量易于逃逸的前方区域R1与被处理物W占有的体积相对较大的中间区域R2进行加热。
此外,控制部121根据输入的测量值对加热器单元11~16的输出进行调整。更详细而言,在输入了基于前方区域R1的温度的测量值的情况下,控制部121对组g1的输出进行调整,在输入了基于中间区域R2的温度的测量值的情况下,控制部121对组g2的输出进行调整,在输入了基于后方区域R3的温度的测量值的情况下,控制部121对组g3的输出进行调整。
如上所述,本实施方式的真空热处理装置S1通过温度调整系统100进行控制,以使区域R1~R3成为相同的温度。在此,在本实施方式的真空热处理装置S1中,由于通过温度调整系统100进行控制以使区域R1~R3成为相同的温度,因此使被处理物W均匀地升温。
此外,在本实施方式的真空热处理装置S1中,控制部121能够设定与配置于各区域R1~R3的被处理物W的质量相对应的PID值。在预先获知配置于各区域R1~R3的被处理物W的质量的情况下,能够基于与配置于各区域R1~R3的被处理物W的质量相对应的PID值、即基于与存在于各区域R1~R3的被处理物W的吸热容量相对应的PID值,对各区域R1~R3的加热器单元11~16的输出进行调整。
若加热处理结束,则输送棒用门33以及隔热门32开放,被处理物W通过输送棒61再次被移送至风炉室2内部的载置台21。并且,被处理物W被移送至风炉室2的载置台21时,真空屏蔽门80密闭。
然后,被热交换器3冷却后的冷却气体X通过风扇4循环,该循环的冷却气体X的流动通过均匀化整流部7被均匀化,通过将该均匀化后的冷却气体X吹至被处理物W,被处理物W被均匀地冷却。
然后,若被处理物W被冷却至规定的温度,则门50从冷却室20脱离,被处理物W被搬出至外部。
在这样的本实施方式的加热装置10中,加热器单元11~16与单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4通过滑动磨合连接。由此,能够使加热器单元11~16所具备的棒状加热器18的端部与单元连接器c1~c3紧贴,能够减少加热器单元11~16与单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的连接部的电阻。因此,棒状加热器18分别按照设计发热,能够作为加热装置10整体均匀地对被处理物W进行加热。
进而,根据本实施方式的加热装置10,加热器单元11~16从隔热室的出入口朝向里侧(出入口的相反侧)配置。由此,能够分别地掌握加热器单元11~16的温度并进行控制。因此,棒状加热器18分别按照设计发热,作为加热装置10整体,能够均匀地对处理物W进行加热。
此外,在通过手动作业进行棒状加热器18与单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的滑动磨合的接合作业的情况下,在棒状加热器18与单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的接合中,有可能各自包含误差。与此相对,本实施方式的加热装置10被分割为组g1~g3分别进行控制。由此,在考虑到单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的滑动磨合引起的连接时的接触面积的误差的基础上,能够进行精细的控制。
此外,本实施方式的加热装置10设定为配置于前方区域R1的组g1的发热量大于其它的组g2、g3的发热量。由此,能够对热量容易逃逸的隔热室31的出入口附近进行以更高的温度加热,结果为能够对被处理物W整体均匀地进行加热。
进而,根据本实施方式的加热装置10,配置于隔热室31的下表面侧的棒状加热器18的直径设定为比其它的棒状加热器18即比配置于隔热室31的侧面侧以及上表面侧的棒状加热器18粗的直径。由此,能够使热量容易逃逸的下表面侧的棒状加热器18的发热量大于侧面侧以及上表面侧的棒状加热器18的发热量。因此,能够无需将配置于下表面侧的棒状加热器18与上表面侧以及侧面侧的棒状加热器18分割进行控制,而是作为加热装置10整体均匀地对被处理物W进行加热。
以上,参照附图对本公开内容的优选实施方式进行了说明,但本公开内容并不限定于上述实施方式。在上述的实施方式中所示的各构成部件的各种形状或组合等仅为一例,在不脱离本公开内容的主旨的范围内能够基于设计要求等进行各种变更。
虽然在上述实施方式中,加热装置10采用了具备6个加热器单元11~16的构成,但本公开内容并不限定于此。加热装置10所具备的加热器单元以及棒状加热器18的数量能够根据真空热处理装置的形状、大小进行变更。进而,虽然加热装置10采用了将每2个加热器单元作为1组进行控制的构成,但构成1组的加热器单元的数量并不限定于2个,可以是1个,也可以是3个以上。
此外,也可以将多个加热器单元分割为4个组以上,并对各组的温度分别地进行控制。在该情况下,由于控制部121能够更精细地进行温度控制,因此能够更加均匀地对被处理物W进行加热。也可以将多个加热器单元分割为2个组,并对各组的温度分别地进行控制。在隔热室31内,在热量逃逸的容易程度没有较大的差异的情况下,也可以不将多个加热器单元分割为多个组,而是全部同样地进行控制。
此外,还能够采用在单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4上形成插入突起、在棒状加热器18的端部形成供该插入突起插入的孔的构成。在该情况下,也通过滑动磨合将单元连接器c1~c3以及加热器连接器c4的插入突起插入到棒状加热器18的孔中。
此外,在上述实施方式中,组g1被设定为通过控制部121使发热量增大,但本公开内容并不限定于此。例如,还能够采用以下构成:构成组g1的棒状加热器18的直径被设定为比构成组g2、g3的棒状加热器18的直径相对较粗的直径,由此设定为预先使发热量变大。
本公开内容的第1方案为配置于收容在真空热处理装置的被处理物的周围且在真空气氛下对上述被处理物进行加热的发热体,其具备多个电气加热器与将该多个电气加热器相互地连接的导电性连接器,上述电气加热器与上述导电性连接器相互紧贴地接合。
本公开内容的第2方案,是在上述第1方案的发热体中,上述电气加热器与上述导电性连接器通过滑动磨合而相互紧贴地接合。
本公开内容的第3方案,是在上述第1或第2方案的发热体中,上述导电性连接器具有供上述电气加热器的端部插入的孔。此外,构成为,上述电气加热器的上述端部的直径与上述孔的直径大致相同、并且上述端部的外周面与上述孔的内周面紧贴(密合)。
本公开内容的第4方案,是上述第1方案的发热体具备多个加热器单元,该多个加热器单元以包围上述被处理物的方式,使上述多个电气加热器利用上述导电性连接器连接为环状,并且配置为从上述真空热处理装置中上述被处理物的出入口朝向该出入口的相反侧。
本公开内容的第5方案,是上述第4方案的发热体具备将相互相邻的上述多个加热器单元连接的单元用导电性连接器。
本公开内容的第6方案,是在上述第5方案的发热体中,上述单元用导电性连接器,以使上述多个加热器单元形成多个组的方式设置于上述多个组中的各组。
本公开内容的第7方案,是在上述第6方案的发热体中,最接近上述出入口的组的上述加热器单元中的上述电气加热器的发热量,比其它组的上述加热器单元中的上述电气加热器的发热量大。
本公开内容的第8方案,是在上述第1~第7的任一方案的发热体中,配置于上述被处理物的下方的电气加热器的直径,比配置于侧方以及上方的电气加热器的直径大。
本公开内容的第9方案为一种真空热处理装置,上述第1~第8的任一方案的发热体配置于被处理物的周围且在真空气氛下对上述被处理物进行加热处理。
本公开内容的第10方案,是在上述第9方案的真空热处理装置中,构成为对真空热处理装置内的多个区域的温度分别地进行测量,根据该测量结果对上述多个区域的温度分别地进行调整。
工业实用性
本公开内容能够用于配置于收容在真空热处理装置的被处理物的周围的发热体以及真空热处理装置。
附图标记说明
1 热处理炉
2 风炉室
3 热交换器
4 风扇
7、7a、7b 均匀化整流部
10 加热装置(发热体)
11~16 加热器单元
17 供电端子
18 棒状加热器(电气加热器)
20 冷却室
21 载置台
22自由辊
30 加热室
31 隔热室
32 隔热门
33 输送棒用门
34 载置台
40中间室
41 真空屏蔽门用升降部
42 隔热门用升降部
50 门
51 支承脚
52 滑动装置
61 输送棒
62 输送棒收纳室
71~73 热电偶
80 真空屏蔽门
100 温度调整系统
110 温度测量系统
111 计算部
120 调整系统
121 控制部
g1~g3 组
c1~c3 单元连接器(单元用导电性连接器)
c4 加热器连接器(导电性连接器)
S1 真空热处理装置
W 被处理物。
Claims (10)
1.一种发热体,配置于收容在真空热处理装置的被处理物的周围且在真空气氛下对所述被处理物进行加热,其特征在于,
所述发热体具备:
多个电气加热器;以及
将该多个电气加热器相互地连接的导电性连接器,
所述电气加热器与所述导电性连接器相互紧贴地接合。
2.如权利要求1所述的发热体,其特征在于,所述电气加热器与所述导电性连接器通过滑动磨合而相互紧贴地接合。
3.如权利要求1或者2所述的发热体,其特征在于,所述导电性连接器具有供所述电气加热器的端部插入的孔,
所述电气加热器的所述端部的直径与所述孔的直径大致相同、并且所述端部的外周面与所述孔的内周面紧贴地构成。
4.如权利要求1所述的发热体,其特征在于,具备多个加热器单元,该多个加热器单元以包围所述被处理物的方式,使所述多个电气加热器利用所述导电性连接器连接为环状,并且配置为从所述真空热处理装置中所述被处理物的出入口朝向该出入口的相反侧。
5.如权利要求4所述的发热体,其特征在于,具备将相互相邻的所述多个加热器单元连接的单元用导电性连接器。
6.如权利要求5所述的发热体,其特征在于,所述单元用导电性连接器以使所述多个加热器单元形成多个组的方式设置于所述多个组中的各组。
7.如权利要求6所述的发热体,其特征在于,最接近所述出入口的组的所述加热器单元中的所述电气加热器的发热量,比其它组的所述加热器单元中的所述电气加热器的发热量大。
8.如权利要求1~7的任一项所述的发热体,其特征在于,配置于所述被处理物的下方的电气加热器的直径,比配置于侧方以及上方的电气加热器的直径大。
9.一种真空热处理装置,其特征在于,权利要求1~8的任一项所述的发热体配置于被处理物的周围且在真空气氛下对所述被处理物进行加热处理。
10.如权利要求9所述的真空热处理装置,其特征在于,构成为对真空热处理装置内的多个区域的温度分别地进行测量,根据该测量结果对所述多个区域的温度分别地进行调整。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017006901 | 2017-01-18 | ||
JP2017-006901 | 2017-01-18 | ||
PCT/JP2017/033796 WO2018135038A1 (ja) | 2017-01-18 | 2017-09-20 | 発熱体及び真空熱処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110100499A true CN110100499A (zh) | 2019-08-06 |
Family
ID=62908928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201780080387.8A Pending CN110100499A (zh) | 2017-01-18 | 2017-09-20 | 发热体以及真空热处理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2018135038A1 (zh) |
CN (1) | CN110100499A (zh) |
WO (1) | WO2018135038A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113025798A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-06-25 | 宏圳精密模具(吴江)有限公司 | 一种模具热处理设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991002438A1 (en) * | 1989-07-31 | 1991-02-21 | Union Oil Company Of California | Modular heater |
JPH05271751A (ja) * | 1992-03-26 | 1993-10-19 | Daido Steel Co Ltd | 真空炉の温度制御方法 |
WO1999060294A1 (fr) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Smc Kabushiki Kaisha | Soupape a pression tres negative |
JP2007084870A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 浸炭処理装置及び方法 |
CN101366099A (zh) * | 2006-06-16 | 2009-02-11 | 东京毅力科创株式会社 | 载置台结构以及热处理装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4126757A (en) * | 1978-01-25 | 1978-11-21 | Autoclave Engineers, Inc. | Multizone graphite heating element furnace |
JPS5731996Y2 (zh) * | 1979-09-21 | 1982-07-14 | ||
JPS5952396U (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-06 | 株式会社フユ−テツクフア−ネス | 電気炉における炉芯管継手装置 |
FR2610095B3 (fr) * | 1987-01-22 | 1989-05-05 | Bmi Fours Ind | Corps de chauffe notamment four pour industriel |
JP3134560B2 (ja) * | 1992-11-02 | 2001-02-13 | 東レ株式会社 | 加熱炉 |
JP2001255073A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-21 | Daido Steel Co Ltd | 真空炉 |
JP2002299273A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-10-11 | Sharp Corp | 半導体基板用熱処理装置 |
-
2017
- 2017-09-20 JP JP2018562869A patent/JPWO2018135038A1/ja active Pending
- 2017-09-20 WO PCT/JP2017/033796 patent/WO2018135038A1/ja active Application Filing
- 2017-09-20 CN CN201780080387.8A patent/CN110100499A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991002438A1 (en) * | 1989-07-31 | 1991-02-21 | Union Oil Company Of California | Modular heater |
JPH05271751A (ja) * | 1992-03-26 | 1993-10-19 | Daido Steel Co Ltd | 真空炉の温度制御方法 |
WO1999060294A1 (fr) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Smc Kabushiki Kaisha | Soupape a pression tres negative |
JP2007084870A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 浸炭処理装置及び方法 |
CN101366099A (zh) * | 2006-06-16 | 2009-02-11 | 东京毅力科创株式会社 | 载置台结构以及热处理装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113025798A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-06-25 | 宏圳精密模具(吴江)有限公司 | 一种模具热处理设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2018135038A1 (ja) | 2019-11-07 |
WO2018135038A1 (ja) | 2018-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9206987B2 (en) | Wire mesh thermal radiative element and use in a radiative oven | |
CN106455584A (zh) | 烤炉 | |
CN110025228B (zh) | 电烤箱及其控温方法 | |
US20150334775A1 (en) | High speed oven including wire mesh heating elements | |
Santos et al. | Microwave processing of porcelain tableware using a multiple generator configuration | |
CN110100499A (zh) | 发热体以及真空热处理装置 | |
CN106458596A (zh) | 石墨化炉 | |
CN1936067A (zh) | 渗碳处理装置及渗碳处理方法 | |
CN103813497A (zh) | 高温电缆以及使用该高温电缆的热处理设备 | |
CN106857892A (zh) | 一种菊花烘干装置 | |
CN206369458U (zh) | 一种带移动工件装置的加热电炉 | |
CN207649245U (zh) | 一种双侧开门的热风烘烤设备 | |
CN108120275A (zh) | 一种带冷却装置的工件加热电炉 | |
CN104868080A (zh) | 一种隔膜半成品热处理烘箱及其用途 | |
EP2501659B1 (de) | Kammerofen zur herstellung von glasschaumplatten oder formkörpern aus glasschaum | |
KR102323066B1 (ko) | 덴탈 퍼니스 | |
CN101483943A (zh) | 电子产品退火或烧结炉用的辐射式加热板结构 | |
CN106197035A (zh) | 基于多区温度控制的温度均衡的电加热炉 | |
CN206583289U (zh) | 板式加热器分组布置结构 | |
CN208983849U (zh) | 小型真空熔炼炉 | |
KR102112856B1 (ko) | 품질 안정성이 확보된 의료기기용 바이오 세라믹스 소결장치 | |
CN210569578U (zh) | 一种可变容积实验室烘箱 | |
CN208154962U (zh) | 一种烤箱 | |
CN207123169U (zh) | 一种用于高温疲劳测试的专用加热炉 | |
CN207407682U (zh) | 一种管式炉 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20190806 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |