CN109989079A - 一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺 - Google Patents

一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN109989079A
CN109989079A CN201910430489.9A CN201910430489A CN109989079A CN 109989079 A CN109989079 A CN 109989079A CN 201910430489 A CN201910430489 A CN 201910430489A CN 109989079 A CN109989079 A CN 109989079A
Authority
CN
China
Prior art keywords
blind hole
plate
hid
electroplate liquid
deionized water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910430489.9A
Other languages
English (en)
Inventor
张蓉芳
田振华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SICHUAN HAIYING ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Original Assignee
SICHUAN HAIYING ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SICHUAN HAIYING ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical SICHUAN HAIYING ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201910430489.9A priority Critical patent/CN109989079A/zh
Publication of CN109989079A publication Critical patent/CN109989079A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

本发明公开了一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺,包括如下步骤:S1、称取330g的CuSO4·5H2O均匀溶解于1200mL的去离子水中,然后在不断搅拌的条件下缓慢加入44mL的浓硫酸,待溶液温度降至室温后,开始顺序加入氯离子、抑制剂、加速剂、整平剂,搅拌均匀后,加适量的去离子水定容,从而制备出电镀液;S2、在HID板的表面上钻多个呈阵列分布的盲孔,采用喷砂装置向盲孔的底表面和内壁上喷砂,确保在盲孔的底表面和内壁上形成微小孔,喷砂后将HID板倒置,以确保砂从盲孔中倾倒出。本发明的有益效果是:电镀工艺简单、镀层附着强度高、延长使用寿命。

Description

一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺
技术领域
本发明涉及一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺。
背景技术
电子产品日益轻薄短小的发展趋势对印制电路板的制作提出了更高的要求,目前印制板中级别较高,制作相对复杂的高密度互联板已经被广泛应用于各类电子产品中,其市场需求量不断上升,发展前景良好。盲孔的金属化,作为HDI板制作过程中的关键技术之一,目前较为普遍的处理方式是先化学沉铜,然后电镀铜填孔。电镀铜填盲孔的效果对印制板中电信号传输的稳定性与可靠性有着重大影响,因此如何在电镀铜溶液中实现对盲孔的完美填充就成了问题的关键所在。在盲孔内镀上铜层后,由于盲孔的内壁光滑,电镀成型后的铜层与盲孔内壁结合力小,使用后镀层容易脱落,存在使用寿命低的缺陷。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种电镀工艺简单、镀层附着强度高、延长使用寿命的高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺,包括如下步骤:
S1、称取330g的CuSO4·5H2O均匀溶解于1200mL的去离子水中,然后在不断搅拌的条件下缓慢加入44mL的浓硫酸,待溶液温度降至室温后,开始顺序加入氯离子、抑制剂、加速剂、整平剂,搅拌均匀后,加适量的去离子水定容,从而制备出电镀液;
S2、在HID板的表面上钻多个呈阵列分布的盲孔,采用喷砂装置向盲孔的底表面和内壁上喷砂,确保在盲孔的底表面和内壁上形成微小孔,喷砂后将HID板倒置,以确保砂从盲孔中倾倒出;
S3、向各个盲孔中灌入步骤S1中的电镀液,向各个盲孔内的电镀液中插入阳极板和阴极板,从而进行电镀处理,经过一段时间电镀后即可在盲孔内电镀出铜层;
S4、倾倒出盲孔内的电镀液,随后采用清水对盲孔进行清洗,清洗后将HID板放入到烘箱中,通过烘箱对HID板烘干,从而实现了在盲孔中电镀铜层。
本发明具有以下优点:电镀工艺简单、镀层附着强度高、延长使用寿命。
具体实施方式
下面对本发明做进一步的描述,本发明的保护范围不局限于以下所述:
一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺,包括如下步骤:
S1、称取330g的CuSO4·5H2O均匀溶解于1200mL的去离子水中,然后在不断搅拌的条件下缓慢加入44mL的浓硫酸,待溶液温度降至室温后,开始顺序加入氯离子、抑制剂、加速剂、整平剂,搅拌均匀后,加适量的去离子水定容,从而制备出电镀液;
S2、在HID板的表面上钻多个呈阵列分布的盲孔,采用喷砂装置向盲孔的底表面和内壁上喷砂,确保在盲孔的底表面和内壁上形成微小孔,喷砂后将HID板倒置,以确保砂从盲孔中倾倒出;
S3、向各个盲孔中灌入步骤S1中的电镀液,向各个盲孔内的电镀液中插入阳极板和阴极板,从而进行电镀处理,经过一段时间电镀后即可在盲孔内电镀出铜层;由于微小孔的存在,微小孔增大了盲孔内表面和底表面的粗糙度,进一步确保了铜层紧紧的附着于盲孔的内表面和底表面上,增大了结合了,避免了铜层的脱落,延长了HID板的使用寿命。
S4、倾倒出盲孔内的电镀液,随后采用清水对盲孔进行清洗,清洗后将HID板放入到烘箱中,通过烘箱对HID板烘干,从而实现了在盲孔中电镀铜层。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。

Claims (1)

1.一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺,其特征在于:包括如下步骤:
S1、称取330g的CuSO4·5H2O均匀溶解于1200mL的去离子水中,然后在不断搅拌的条件下缓慢加入44mL的浓硫酸,待溶液温度降至室温后,开始顺序加入氯离子、抑制剂、加速剂、整平剂,搅拌均匀后,加适量的去离子水定容,从而制备出电镀液;
S2、在HID板的表面上钻多个呈阵列分布的盲孔,采用喷砂装置向盲孔的底表面和内壁上喷砂,确保在盲孔的底表面和内壁上形成微小孔,喷砂后将HID板倒置,以确保砂从盲孔中倾倒出;
S3、向各个盲孔中灌入步骤S1中的电镀液,向各个盲孔内的电镀液中插入阳极板和阴极板,从而进行电镀处理,经过一段时间电镀后即可在盲孔内电镀出铜层;
S4、倾倒出盲孔内的电镀液,随后采用清水对盲孔进行清洗,清洗后将HID板放入到烘箱中,通过烘箱对HID板烘干,从而实现了在盲孔中电镀铜层。
CN201910430489.9A 2019-05-22 2019-05-22 一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺 Pending CN109989079A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910430489.9A CN109989079A (zh) 2019-05-22 2019-05-22 一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910430489.9A CN109989079A (zh) 2019-05-22 2019-05-22 一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109989079A true CN109989079A (zh) 2019-07-09

Family

ID=67136951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910430489.9A Pending CN109989079A (zh) 2019-05-22 2019-05-22 一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109989079A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112899736A (zh) * 2021-01-15 2021-06-04 深圳中科利尔科技有限公司 一种pcb高纵横通孔电镀铜添加剂及其制备方法
CN113891578A (zh) * 2021-09-13 2022-01-04 惠州中京电子科技有限公司 一种局部电镀填孔的hdi板制造方法及hdi板
CN114351195A (zh) * 2022-03-19 2022-04-15 深圳市创智成功科技有限公司 一种脉冲通孔填孔的电镀铜配方及其电镀工艺

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102912395A (zh) * 2012-11-15 2013-02-06 苏州正信电子科技有限公司 一种盲埋孔电镀铜填孔方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102912395A (zh) * 2012-11-15 2013-02-06 苏州正信电子科技有限公司 一种盲埋孔电镀铜填孔方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112899736A (zh) * 2021-01-15 2021-06-04 深圳中科利尔科技有限公司 一种pcb高纵横通孔电镀铜添加剂及其制备方法
CN113891578A (zh) * 2021-09-13 2022-01-04 惠州中京电子科技有限公司 一种局部电镀填孔的hdi板制造方法及hdi板
CN114351195A (zh) * 2022-03-19 2022-04-15 深圳市创智成功科技有限公司 一种脉冲通孔填孔的电镀铜配方及其电镀工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109989079A (zh) 一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺
US7827680B2 (en) Electroplating process of electroplating an elecrically conductive sustrate
CN111945192B (zh) 用于hdi板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液
CN106757194A (zh) 一种利用电镀铜填pcb盲孔的方法
CN106011965A (zh) 一种电解铜箔表面的微细粗化处理工艺
JP2017147441A (ja) スルーホールを充填してボイド及び他の欠陥を低減する方法
CN111424296B (zh) 填充ic载板通孔的电镀铜溶液及电镀方法
CN103334147A (zh) 一种利用脉冲电镀制备镍包铝粉复合镀层的方法
CN110424030B (zh) 无氰碱性电镀铜液及其制备和在挠性印刷线路板中的应用
US4253875A (en) Catalytic lacquer for producing printing circuits
CN111593375A (zh) 一种用于电子电路电镀铜填孔的整平剂及电镀铜浴
CN112593262A (zh) 一种含有吡咯烷二硫代甲酸铵盐的电镀液添加剂及其应用
CN110117801B (zh) 一种印制电路板盲孔填铜用镀铜添加剂及其制备方法
Ogutu et al. Hybrid method for metallization of glass interposers
CN110172716B (zh) 整平剂、电镀液及其在电镀具有光致抗蚀剂限定特征器件中的应用
TWI655317B (zh) 塡充通孔以減少空隙及其他缺陷之方法
TWI683931B (zh) 電解鍍銅用陽極及使用其之電解鍍銅裝置
US6565731B1 (en) Electroplating process
CN107268043B (zh) 一种用于铜互连hdi电镀填孔的抑制剂及电镀铜浴
CN108950614B (zh) 一种vcp高效镀铜光亮剂
CN102330130A (zh) 微细铝丝表面镀铜前预镀镍的工艺方法
CN110582167A (zh) 一种可剥网状铜箔的制作方法
CN110993506A (zh) Ic载板通孔填埋工艺
CN113373482B (zh) 一种脉冲电镀铜添加剂、电镀液与电镀液的应用
CN105603472A (zh) 酸性镀铜系列添加剂

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190709