CN109976578B - 触控基板及其制作方法、触控显示装置 - Google Patents

触控基板及其制作方法、触控显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种触控基板及其制作方法、触控显示装置，属于触控技术领域。其中，触控基板，包括：衬底基板；位于所述衬底基板的触控区域、采用纳米银制作的触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；位于所述触控电极远离所述衬底基板一侧的第一绝缘层；位于所述第一绝缘层上的触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同。本发明的技术方案能够利用纳米银和光刻工艺实现柔性触控基板。

Description

触控基板及其制作方法、触控显示装置
技术领域
本发明涉及触控技术领域，特别是指一种触控基板及其制作方法、触控显示装置。
背景技术
现有的互容式触控基板大多采用ITO来制作触控电极，但随着柔性触摸基板对弯折越来越高的要求，由于ITO的质地较脆，ITO已经不能满足柔性触控的需求，纳米Ag由于具有较佳的弯折性能，可以用于制作柔性触控基板的触控电极，但纳米Ag材料的刻蚀选择比不佳，因此现有技术仅能利用激光镭雕工艺对纳米Ag进行构图来制备单层的触控电极结构，无法实现互容式的触控基板，且制作精度较差。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种触控基板及其制作方法、触控显示装置，能够利用纳米银和光刻工艺实现柔性触控基板。
为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：
一方面，提供一种触控基板，包括：
衬底基板；
位于所述衬底基板的触控区域、采用纳米银制作的触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
位于所述触控电极远离所述衬底基板一侧的第一绝缘层；
位于所述第一绝缘层上的触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同。
可选地，还包括：
位于所述衬底基板的走线区域的导电走线；
位于所述导电走线背向所述衬底基板一侧的绝缘图形，所述绝缘图形位于所述第一绝缘层和所述衬底基板之间，所述走线区域位于所述触控区域的周边。
可选地，所述导电走线与所述触控电极同层同材料设置。
可选地，还包括：
位于所述第一绝缘层上、与所述触控电极架桥连接的触控信号线；
位于所述触控信号线远离所述衬底基板一侧的第二绝缘层。
可选地，所述绝缘图形与所述第二绝缘层的图形一致。
可选地，所述衬底基板为柔性衬底基板。
本发明实施例还提供了一种触控显示装置，包括如上所述的触控基板。
本发明实施例还提供了一种触控基板的制作方法，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成纳米银层，利用光刻工艺对所述纳米银层进行构图，在所述衬底基板的触控区域形成触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
形成第一绝缘层；
利用光刻工艺在所述第一绝缘层上形成触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同。
可选地，所述在所述衬底基板上形成纳米银层之后，对所述纳米银层进行构图之前，所述方法还包括：
形成位于所述衬底基板的走线区域的绝缘图形，所述走线区域位于所述触控区域的周边，所述绝缘图形位于所述走线区域的纳米银层上；
所述利用光刻工艺对所述纳米银层进行构图包括：
对未被所述绝缘图形覆盖的纳米银层进行构图。
可选地，所述方法还包括：
在形成所述绝缘图形的同一次构图工艺中，形成位于所述衬底基板的周边区域的对位标记，所述周边区域位于所述走线区域的周边。
可选地，所述利用光刻工艺在所述第一绝缘层上形成触控电极架桥之后，所述方法还包括：
形成与所述触控电极架桥连接的触控信号线；
形成第二绝缘层。
可选地，采用相同的掩膜板形成所述绝缘图形和所述第二绝缘层。
本发明的实施例具有以下有益效果：
上述方案中，在形成触控电极后，形成覆盖触控电极的第一绝缘层，第一绝缘层能够在后续工艺中对触控电极进行保护，并且后续在形成触控电极架桥时，触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同，这样对触控电极架桥进行刻蚀时所使用的刻蚀液不会对触控电极造成损伤，能够保证触控电极的导电性能，进而保证触控基板的性能；本实施例中，触控电极采用纳米银制成，纳米银具有良好的弯折性能，通过本实施例的技术方案，能够实现采用纳米银制作多层结构的柔性触控基板。
附图说明
图1为本发明实施例形成纳米银层、对位标记和绝缘图形后的示意图；
图2为图1所示结构的AA截面示意图；
图3为本发明实施例形成第一触控电极和第二触控电极后的示意图；
图4为图3所示结构的AA截面示意图；
图5为本发明实施例形成第一绝缘层后的示意图；
图6为图5所示结构的AA截面示意图；
图7为本发明实施例形成触控电极架桥后的示意图；
图8为图7所示结构的AA截面示意图；
图9为本发明实施例形成触控信号线后的示意图；
图10为图9所示结构的AA截面示意图；
图11为本发明实施例形成第二绝缘层后的示意图；
图12为图11所示结构的AA截面示意图。
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
现有技术中，使用光刻工艺将纳米银薄膜制备成触控基板的触控电极存在以下问题：
在利用纳米银薄膜制备触控电极后，由于纳米银图形的可视性差，后续工艺无法利用纳米银图形进行对位，导致对位偏差；
另外，在利用纳米银薄膜制备触控电极后，由于纳米银的刻蚀选择比差，后续制程中的酸性或碱性刻蚀液容易破坏纳米银的导电性能，影响触控基板的触控功能。
本发明的实施例针对上述问题，提供一种触控基板及其制作方法、触控显示装置，能够利用纳米银和光刻工艺实现柔性触控基板。
本发明的实施例提供一种触控基板，包括：
衬底基板；
位于所述衬底基板的触控区域、采用纳米银制作的触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
位于所述触控电极远离所述衬底基板一侧的第一绝缘层；
位于所述第一绝缘层上的触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同。
本实施例中，在形成触控电极后，形成覆盖触控电极的第一绝缘层，第一绝缘层能够在后续工艺中对触控电极进行保护，并且后续在形成触控电极架桥时，触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同，这样对触控电极架桥进行刻蚀时所使用的刻蚀液不会对触控电极造成损伤，能够保证触控电极的导电性能，进而保证触控基板的性能；本实施例中，触控电极采用纳米银制成，纳米银具有良好的弯折性能，通过本实施例的技术方案，能够实现采用纳米银制作多层结构的柔性触控基板。
其中，触控电极可以包括相互独立、彼此绝缘的多个第一触控电极以及相互独立、彼此绝缘的多个第二触控电极，触控电极架桥可以包括第一触控电极架桥和第二触控电极架桥，第一触控电极架桥通过贯穿第一绝缘层的第一过孔连接相邻的第一触控电极，第二触控电极架桥通过贯穿第一绝缘层的第二过孔连接相邻的第二触控电极，由于第一触控电极以及第二触控电极之间均是相互独立的，在触控基板为柔性触控基板时，可以很好地提高触控基板的可弯折性以及柔韧性。
另一实施例中，还可以是沿第一方向排布的相邻第一触控电极之间连接，沿第二方向排布的相邻第二触控电极之间相互独立、彼此绝缘，触控电极架桥通过贯穿第一绝缘层的过孔连接相邻的第二触控电极，这样在触控基板为柔性触控基板时，触控基板在第一方向上也具有较好的可弯折性以及柔韧性。
可选地，本实施例的触控基板还包括：
位于所述衬底基板的走线区域的导电走线；
位于所述导电走线背向所述衬底基板一侧的绝缘图形，所述绝缘图形位于所述第一绝缘层和所述衬底基板之间，所述走线区域位于所述触控区域的周边。
导电走线位于衬底基板的走线区域，可以导走衬底基板积累的静电，提高触控基板的抗ESD(静电释放)能力。另外，在导电走线上覆盖有绝缘图形，绝缘图形可以保护导电走线在后续的制程中不受影响。
可选地，所述导电走线与所述触控电极同层同材料设置。这样可以利用同一次构图工艺同时形成导电走线和触控电极，无需通过额外的构图工艺来制作导电走线，能够减少制作触控基板的构图工艺的次数，降低触控基板的制作成本。
可选地，本实施例的触控基板还包括：
位于所述第一绝缘层上、与所述触控电极架桥连接的触控信号线；
位于所述触控信号线远离所述衬底基板一侧的第二绝缘层。
优选地，本实施例的触控基板中，所述绝缘图形与所述第二绝缘层的图形一致，这样可以利用相同的掩膜板来制作绝缘图形和第二绝缘层，无需制作专门的掩膜板来形成绝缘图形。
本实施例的触控基板中，所述衬底基板可以为柔性衬底基板，本实施例中，触控电极采用纳米银制成，纳米银具有良好的弯折性能，通过本实施例的技术方案，能够实现采用纳米银制作多层结构的柔性触控基板。
本发明实施例还提供了一种触控显示装置，包括如上所述的触控基板。所述触控显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。
本发明实施例还提供了一种触控基板的制作方法，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成纳米银层，利用光刻工艺对所述纳米银层进行构图，在所述衬底基板的触控区域形成触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
形成第一绝缘层；
利用光刻工艺在所述第一绝缘层上形成触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同。
本实施例中，在形成触控电极后，形成覆盖触控电极的第一绝缘层，第一绝缘层能够在后续工艺中对触控电极进行保护，并且后续在形成触控电极架桥时，触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同，这样对触控电极架桥进行刻蚀时所使用的刻蚀液不会对触控电极造成损伤，能够保证触控电极的导电性能，进而保证触控基板的性能；本实施例中，触控电极采用纳米银制成，纳米银具有良好的弯折性能，通过本实施例的技术方案，能够实现采用纳米银制作多层结构的柔性触控基板。
其中，触控电极可以包括相互独立、彼此绝缘的多个第一触控电极以及相互独立、彼此绝缘的多个第二触控电极，触控电极架桥可以包括第一触控电极架桥和第二触控电极架桥，第一触控电极架桥通过贯穿第一绝缘层的第一过孔连接相邻的第一触控电极，第二触控电极架桥通过贯穿第一绝缘层的第二过孔连接相邻的第二触控电极，由于第一触控电极以及第二触控电极之间均是相互独立的，在触控基板为柔性触控基板时，可以很好地提高触控基板的可弯折性以及柔韧性。
另一实施例中，还可以是沿第一方向排布的相邻第一触控电极之间连接，沿第二方向排布的相邻第二触控电极之间相互独立、彼此绝缘，触控电极架桥通过贯穿第一绝缘层的过孔连接相邻的第二触控电极，这样在触控基板为柔性触控基板时，触控基板在第一方向上也具有较好的可弯折性以及柔韧性。
可选地，所述在所述衬底基板上形成纳米银层之后，对所述纳米银层进行构图之前，所述方法还包括：
形成位于所述衬底基板的走线区域的绝缘图形，所述走线区域位于所述触控区域的周边，所述绝缘图形位于所述走线区域的纳米银层上；
所述利用光刻工艺对所述纳米银层进行构图包括：
对未被所述绝缘图形覆盖的纳米银层进行构图。
这样在对纳米银层进行构图形成触控电极后，绝缘图形覆盖下的纳米银层能够得以保留，形成导电走线，能够导走衬底基板积累的静电，提高触控基板的抗ESD能力。
可选地，所述方法还包括：
在形成所述绝缘图形的同一次构图工艺中，形成位于所述衬底基板的周边区域的对位标记，所述周边区域位于所述走线区域的周边。
由于纳米银的可视性较差，因此，无法利用已形成的纳米银图形进行对位，也就无法进行光刻工艺，本实施例在衬底基板的周边区域额外制作对位标记，这样后续的光刻工艺均可以利用该对位标记进行对位，从而能够利用光刻工艺对纳米银进行构图形成触控电极。可以通过同一次构图工艺在周边区域形成对位标记和在走线区域形成绝缘图形，这样能够节省制作触控基板的构图工艺的次数。当然，绝缘图形和对位标记也可以通过两次构图工艺分开制作。
可选地，所述利用光刻工艺在所述第一绝缘层上形成触控电极架桥之后，所述方法还包括：
形成与所述触控电极架桥连接的触控信号线；
形成第二绝缘层。
优选地，本实施例采用相同的掩膜板形成所述绝缘图形和所述第二绝缘层，这样无需制作专门的掩膜板来形成绝缘图形，能够减少使用的掩膜板的数量。
下面结合附图以及具体的实施例对本发明的触控基板及其制作方法进行详细介绍，本实施例的触控基板的制作方法包括以下步骤：
步骤1、如图1和图2所示，提供一衬底基板，在衬底基板上形成纳米银层1和绝缘图形2、对位标记8；
其中，衬底基板可以为柔性衬底基板，比如聚酰亚胺薄膜。
在衬底基板上涂覆一层纳米银，纳米银溶液中包括有机溶液和掺杂在有机溶液中的纳米银，对纳米银溶液固化后形成纳米银层2，纳米银层2包括形成在有机绝缘层中的多个银纳米线。其中，固化方式包括但不限于热固化、紫外固化等。
纳米银层1的可视性差，在形成纳米银层1后，很难观察到纳米银层1的边界，利用已形成的纳米银层无法进行对位，也就无法进行光刻工艺，需要专门制作对位标记8。对位标记8位于衬底基板的周边区域，边界可识别，进而后续的光刻工艺可以利用对位标记8进行曝光对位，对位标记8的形状不作限制，可以为长条形、十字形等，本实施例中，如图1所示，对位标记8可以为十字形。值得注意的是，对位标记8仅在触控基板制作过程中使用，在制作完触控基板母板后，对触控基板母板进行切割得到的触控基板上不再保留对位标记8。
另外，还在纳米银层1上形成绝缘图形，具体地，在纳米银层1上涂覆一层透明绝缘材料，对透明绝缘材料进行构图，形成绝缘图形2，如图1所示，绝缘图形2可以为环形，覆盖衬底基板的走线区域。
为了减少制作触控基板的构图工艺的次数，可以通过一次构图工艺利用相同的材料同时形成绝缘图形2和对位标记8，当然，绝缘图形2和对位标记8也可以通过两次构图工艺分别形成，绝缘图形2和对位标记8也可以采用不同的材料，由于在制作好的触控基板上需要保留绝缘图形2，因此，绝缘图形2需要是透明的；但制作好的触控基板上不再保留对位标记8，所以对位标记8可以是不透明的。
步骤2、如图3和图4所示，对触控区域的纳米银层1进行构图，形成触控电极的图形；
具体地，可以在纳米银层2上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中，光刻胶保留区域对应触控电极所在区域，刻蚀掉光刻胶去除区域的纳米银层2，剥离剩余的光刻胶，形成触控电极的图形。触控电极包括沿X向排布的第一触控电极11和沿Y向排布的第二触控电极12，相邻触控电极之间彼此绝缘层。值得注意的是，光刻胶去除区域的纳米银被去除，但是有机绝缘层得以保留。
另外，在衬底基板的走线区域，被绝缘图形2覆盖的纳米银层得以保留，能够在走线区域形成环状的导电走线，围绕触控区域设置，能够导走触控基板积累的静电，提高触控基板的抗ESD能力。
步骤3、如图5和图6所示，形成第一绝缘层3；
在经过步骤2的衬底基板上制备整层的第一绝缘层3，第一绝缘层3覆盖触控区域和走线区域，能够在后续工艺中对触控电极进行保护。
对第一绝缘层3进行构图，形成多个过孔4，过孔4位于触控电极架桥和触控电极的连接处。
步骤4、如图7和图8所示，形成触控电极架桥5；
为了保证在形成触控电极架桥5的构图工艺中不会对纳米银层形成的触控电极造成损伤，保证触控电极的性能，触控电极架桥5所适用的刻蚀液与纳米银层所使用的刻蚀液不同，触控电极架桥5的材料不是纳米银层。具体地，触控电极架桥5可以采用金属或ITO。
本示例中，可以采用ITO来制作触控电极架桥5。具体地，形成一层ITO层，在ITO层上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中，光刻胶保留区域对应触控电极架桥所在区域，刻蚀掉光刻胶去除区域的ITO，剥离剩余的光刻胶，形成触控电极架桥5，触控电极架桥5包括第一触控电极架桥和第二触控电极架桥，其中，第一触控电极架桥用以连接相邻的第一触控电极11，第二触控电极架桥用于连接相邻的第二触控电极12。
在利用ITO形成触控电极架桥的同时，还可以利用ITO在触控区域形成用以输入或输出触控信号的信号块。
步骤5、如图9和图10所示，形成触控信号线6；
具体地，在经过步骤4的衬底基板上形成一层金属层，在金属层上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中，光刻胶保留区域对应触控信号线6所在区域，刻蚀掉光刻胶去除区域的金属层，剥离剩余的光刻胶，得到位于走线区域的触控信号线6，触控信号线6用以连接触控电路的接口和信号块，触控电路可以通过信号块向第一触控电极输入触控驱动信号，并通过信号块接收第二触控电极的感应信号。
步骤6、如图11和图12所示，形成第二绝缘层7的图形。
在形成触控信号线6之后，还需要形成覆盖触控信号线6的第二绝缘层7，第二绝缘层7能够对触控信号线6进行保护。
本实施例中，第二绝缘层7的图形可以与绝缘图形2的图形一致，这样可以利用相同的掩膜板制作第二绝缘层7的图形以及绝缘图形2，能够节省掩膜板的数量，降低触控基板的生产成本。
本实施例在形成触控电极后，形成覆盖触控电极的第一绝缘层，第一绝缘层能够在后续工艺中对触控电极进行保护，并且后续在形成触控电极架桥时，触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同，这样对触控电极架桥进行刻蚀时所使用的刻蚀液不会对触控电极造成损伤，能够保证触控电极的导电性能，进而保证触控基板的性能；本实施例中，触控电极采用纳米银制成，纳米银具有良好的弯折性能，通过本实施例的技术方案，能够实现采用纳米银制作多层结构的柔性触控基板。
在本发明各方法实施例中，所述各步骤的序号并不能用于限定各步骤的先后顺序，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，对各步骤的先后变化也在本发明的保护范围之内。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种触控基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
位于所述衬底基板的触控区域、采用纳米银制作的触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
位于所述触控电极远离所述衬底基板一侧的第一绝缘层；
位于所述第一绝缘层上的触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同；
位于所述衬底基板的走线区域的导电走线；
位于所述导电走线背向所述衬底基板一侧的绝缘图形，所述绝缘图形位于所述第一绝缘层和所述衬底基板之间，所述走线区域位于所述触控区域的周边；
所述触控基板还包括：
位于所述第一绝缘层上、与所述触控电极架桥连接的触控信号线；
位于所述触控信号线远离所述衬底基板一侧的第二绝缘层，所述绝缘图形与所述第二绝缘层的图形一致。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述导电走线与所述触控电极同层同材料设置。
3.根据权利要求1或2所述的触控基板，其特征在于，所述衬底基板为柔性衬底基板。
4.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-3中任一项所述的触控基板。
5.一种触控基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成纳米银层，利用光刻工艺对所述纳米银层进行构图，在所述衬底基板的触控区域形成触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
形成第一绝缘层；
利用光刻工艺在所述第一绝缘层上形成触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同；
所述在所述衬底基板上形成纳米银层之后，对所述纳米银层进行构图之前，所述方法还包括：
形成位于所述衬底基板的走线区域的绝缘图形，所述走线区域位于所述触控区域的周边，所述绝缘图形位于所述走线区域的纳米银层上；
所述利用光刻工艺对所述纳米银层进行构图包括：
对未被所述绝缘图形覆盖的纳米银层进行构图；
所述利用光刻工艺在所述第一绝缘层上形成触控电极架桥之后，所述方法还包括：
形成与所述触控电极架桥连接的触控信号线；
形成第二绝缘层，其中，采用相同的掩膜板形成所述绝缘图形和所述第二绝缘层。
6.根据权利要求5所述的触控基板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：
在形成所述绝缘图形的同一次构图工艺中，形成位于所述衬底基板的周边区域的对位标记，所述周边区域位于所述走线区域的周边。
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