CN109957754A - 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN109957754A
CN109957754A CN201910281156.4A CN201910281156A CN109957754A CN 109957754 A CN109957754 A CN 109957754A CN 201910281156 A CN201910281156 A CN 201910281156A CN 109957754 A CN109957754 A CN 109957754A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask plate
opening
display area
vapor deposition
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910281156.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109957754B (zh
Inventor
刘月
白珊珊
李彦松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201910281156.4A priority Critical patent/CN109957754B/zh
Publication of CN109957754A publication Critical patent/CN109957754A/zh
Priority to PCT/CN2020/076413 priority patent/WO2020207131A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109957754B publication Critical patent/CN109957754B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • H10K50/82Cathodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/60Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明涉及一种掩膜板组件,用于形成至少一个OLED显示面板的阴极,OLED显示面板的显示区域包括第一显示区域和第二显示区域,第一显示区域的像素分辨率不同于第二显示区域的像素分辨率,掩膜板组件包括:第一掩膜板,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第一蒸镀区域,第一蒸镀区域包括对应第一显示区域的第一开口和对应第二显示区域的每一像素发光区的多个相互独立的第二开口;第二掩膜板,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第二蒸镀区域,第二蒸镀区域包括多个相互独立的第三开口,第一掩膜板和第二掩膜板层叠,第三开口在第一掩膜板上的正投影连通至少两个相邻的第二开口。本发明还涉及一种OLED显示面板及其制作方法、显示装置。

Description

掩膜板组件、OLED显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示产品制作技术领域,尤其涉及一种掩膜板组件、OLED显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着科技的快速发展,智能手机越来越普及,手机的功能也越来越多。Face ID技术被广泛应用在手机集成中,它通过搭载环境光传感器、距离感应器,红外镜头、泛光感应元件(flood camera)和点阵投影器等装置,共同搭建用户3D脸部模型,传统的红外镜头设置在显示屏幕打孔的下方,但由于打孔区域不显示画面,为了追求更好的视觉体验,人们开始研究手机的全面屏显示,将显示屏分为像素分辨率不同的两个显示区域,并放弃打孔,把红外镜头、传感器等装置放置在任一显示区域的下方,但是因为显示屏中发光器件的阴极层是用镁银掺杂材料蒸镀的,其光线透过率低且覆盖面积大。在这种情况下,为了提高屏幕对于红外光的透过率,如何解决同一屏幕上两种不同分辨率显示区的阴极材料蒸镀问题成了首要解决的问题。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供一种掩膜板组件、OLED显示面板及其制作方法、显示装置,在保证显示屏幕正常显示的前提下,通过减少阴极蒸镀面积的方式,提高屏幕的红外光的透过率。
为了达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种掩膜板组件,用于形成至少一个OLED显示面板的阴极,OLED显示面板的显示区域包括第一显示区域和第二显示区域,第一显示区域的像素分辨率不同于所述第二显示区域的像素分辨率,所述掩膜板组件包括:
第一掩膜板,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第一蒸镀区域,所述第一蒸镀区域包括对应所述第一显示区域的第一开口和对应所述第二显示区域的每一像素发光区的多个相互独立的第二开口;
第二掩膜板,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第二蒸镀区域,所述第二蒸镀区域对应所述第二显示区域,包括多个相互独立的第三开口,在所述第一掩膜板和所述第二掩膜板层叠时,所述第三开口在所述第一掩膜板上的正投影连通至少两个相邻的所述第二开口。
可选的,所述第三开口为条形结构,在所述第一掩膜板和所述第二掩膜板层叠时,所述第三开口在所述第一掩膜板上的正投影连通两个相邻的所述第二开口。
可选的,每个所述第二开口的面积大于所述第二显示区域的每个像素发光区的面积。
可选的,与所述第一开口相邻的所述第二开口与所述第一开口不连通,或者连通。
可选的,位于所述第一蒸镀区域边缘的所述第二开口的尺寸大于位于所述第一蒸镀区域内部的所述第二开口的尺寸。
可选的,位于所述第二蒸镀区域边缘的所述第三开口的尺寸大于位于所述第二蒸镀区域内部的所述第三开口的尺寸。
本发明还提供一种OLED显示面板的制作方法,采用上述的掩膜板组件蒸镀OLED显示面板上的阴极,包括以下步骤:
通过第一掩膜板,在第一显示区域蒸镀阴极材料,并在第二显示区域的像素发光区对应的位置蒸镀阴极材料;
通过第二掩膜板,在第二显示区域蒸镀阴极材料以形成连通至少两个相邻的像素发光区对应的阴极的搭接桥。
可选的,所述阴极材料为镁银掺杂材料。
本发明还提供一种OLED显示面板,采用上述的OLED显示面板的制作方法。
本发明还提供一种显示装置,包括上述的OLED显示面板。
本发明的有益效果是:通过第一掩膜板和第二掩膜板的配合使用,蒸镀阴极材料,不仅可以保证屏幕的正常显示,还可以降低设置红外传感器等装置的第二显示区域的阴极蒸镀面积,提高显示面板第二显示区域的红外光透过率。
附图说明
图1表示至少一个OLED显示面板的分布示意图;
图2表示本发明实施例中第一掩膜板结构示意图;
图3表示本发明实施例中第一蒸镀区域结构示意图;
图4表示图3中第一蒸镀区域的A区域放大示意图;
图5表示本发明实施例中第二掩膜板结构示意图;
图6表示本发明实施例中第二蒸镀区域结构示意图;
图7表示图6中第二蒸镀区域的B区域放大示意图;
图8表示第一掩膜板和第二掩膜板层叠时,对应于第二显示区域的所述第二开口和所述第三开口的交叠示意图;
图9表示本发明实施例中采用第一掩膜板蒸镀后,对应于第二显示区域的蒸镀效果示意图;
图10表示本发明实施中采用第一掩膜板组件蒸镀后、对应于第二显示区域的蒸镀效果示意图。
其中,1、第一掩膜板,2、第二掩膜板,11、第一蒸镀区域,111、第一开口,112、第二开口,1121、第一边缘开口,1122、第一中部开口,10、OLED显示面板,101、第一显示区域,102、第二显示区域,113、第一遮挡区域,20、阴极,21、第二蒸镀区域,212、第二遮挡区域,211、第三开口,2111、第二中部开口,2112、第二边缘开口。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例的附图,对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
对于同时存在两种不同分辨率显示区域的显示面板,传统的阴极蒸镀方式是用一张整面刻蚀的掩膜板将阴极材料(镁银掺杂材料)蒸镀到发光器件上,由于现有阴极材料(镁银掺杂材料)对红外光线的透过率很低,且阴极材料覆盖面积大,因此对红外镜头、传感器等装置设置于显示屏下的产品来说,阴极层成为限制屏幕透过率的重要膜层之一,在保证屏幕正常显示的前提下,如何提高屏幕透过率是首要解决的问题。
针对上述技术问题,本实施例提供一种掩膜板组件,通过第一掩膜板和第二掩膜板的配合使用以蒸镀阴极材料,降低第二显示区域的阴极的蒸镀面积,从而提高显示区域的光线透过率。
如图1-图10所示,本实施例提供一种掩膜板组件,用于形成至少一个OLED显示面板的阴极,OLED显示面板的显示区域包括第一显示区域101和第二显示区域102,所述第一显示区域101的像素分辨率不同于所述第二显示区域102的像素分辨率,(至少一个OLED显示面板的分布参考图1)所述掩膜板组件包括:
第一掩膜板1,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第一蒸镀区域11,所述第一蒸镀区域11包括对应所述第一显示区域101的第一开口111和对应所述第二显示区域102的每一像素发光区的多个相互独立的第二开口112;参考图2-图4,其中,图2表示所述第一掩膜板1上对应于至少一个OLED显示面板分布的至少一个所述第一蒸镀区域11的分布示意图,图3表示一个所述第一蒸镀区域11的结构示意图,图4为图3的局部放大示意图,表示所述第一掩膜板1上多个相互独立的第二开口112的结构示意图。
第二掩膜板2,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第二蒸镀区域21,所述第二蒸镀区域21包括多个相互独立的第三开口211,在所述第一掩膜板1和所述第二掩膜板2层叠时,所述第三开口211在所述第一掩膜板1上的正投影连通至少两个相邻的所述第二开口112,参考图5-图8,其中,图5表示所述第二掩膜板2上对应于至少一个OLED显示面板分布的至少一个所述第二蒸镀区域21的分布示意图,图6表示一个所述第二蒸镀区域21的结构示意图,图7是图6的局部放大示意图,表示多个相互独立的第三开口211的结构示意图,图8表示出了第一掩膜板1和第二掩膜板2层叠时、所述第二开口112和所述第三开口211的位置关系。
通过所述第一掩膜板1,在OLED显示面板的第一显示区域101整体蒸镀阴极材料,相应的,所述第一蒸镀区域11上设置了与所述第一显示区域101相对应的一个所述第一开口111,而对于对应于所述第二显示区域102的部分仅仅蒸镀像素发光区所对应的位置,相邻像素发光区之间的位置是不蒸镀的,采用所述第一掩膜板1蒸镀阴极后,对应于所述第二显示区域102的蒸镀效果参考图9,然后更换掩膜板,采用所述第二掩膜板2进行蒸镀,而所述第二掩膜板2的设置仅仅对所述第二显示区域102进行叠加蒸镀,所述第二蒸镀区域21上的第三开口211,相互独立设置,在所述第一掩膜板1和所述第二掩膜板2层叠时,所述第三开口211在所述第一掩膜板1上的正投影连通至少两个相邻的所述第二开口112(参考图8),从而可以在至少两个相邻的像素发光区之间进行蒸镀,以连通至少两个相邻的像素发光区对应的阴极,图10表示本实施例一实施方式中采用所述第一掩膜板1和所述第二掩膜板2进行蒸镀后的蒸镀效果示意图,可见对于第二显示区域102上的阴极的蒸镀,在保证正常显示的前提下,阴极并没有完全覆盖所述第二显示区域102,从而降低了所述第二显示区域102的阴极的覆盖面积,提高了红外光的透过率。
需要说明的是,本实施例中,用于面部识别的红外镜头、传感器等装置对应设置于所述第二显示区域102的下方,所述第一掩膜板1和第二掩膜板2相配合进行蒸镀阴极,降低了所述第二显示区域102的阴极的覆盖面积,提高了红外光的透过率。
本实施例中,所述第二显示区域102的像素分辨率小于所述第一显示区域101的像素分辨率,所述第二显示区域102的像素发光区排布稀疏,进一步的提高了红外光的透过率。
需要说明的是,图2中所示的至少一个OLED显示面板10的分布仅是本实施例的一个实施方式中的分布示意图,但是并不限于此。
用于面部识别的红外镜头、传感器等装置设置于所述第二显示区域102的下方,本实施例中通过所述第一掩膜板1和第二掩膜板2相配合蒸镀阴极,从而降低了所述第二显示区域102的阴极的覆盖面积,提高了所述第二显示区域102的红外光的透过率。而用于拍照成像的摄像头同样设置于所述第二显示区域102,相应的,所述第一蒸镀区域11上对应于用于拍照成像的摄像头所在的位置的区域没有设置开口,为第一遮挡区域113,所述第二蒸镀区域21上对应于红外镜头、传感器等装置所在的区域也没有设置开口,为第二遮挡区域212,所述第二遮挡区域212位于所述第二显示区域102。
所述第三开口211的具体结构形式可有多种,只要使得通过所述第一掩膜板1和所述第二掩膜板2蒸镀后,形成于所述第二显示区域102的阴极不是完全覆盖所述第二显示区域102即可,本实施例中,所述第三开口211为条形结构,在所述第一掩膜板1和所述第二掩膜板2层叠时,所述第三开口211在所述第一掩膜板1上的正投影连通两个相邻的所述第二开口112。
图8表示采用所述第一掩膜板1和所述第二掩膜板2蒸镀阴极材料,对应于所述第二显示区域102的所述第二开口112和所述第三开口211的交叠示意图,为了减小蒸镀形成于OLED显示面板上的阴极的覆盖面积,但同时保证OLED的正常显示,本实施例中,每个所述第二开口112的尺寸大于或等于所述第二显示区域102的像素发光区的尺寸,即利用第二开口112形成的图案的尺寸大于与其对应的像素发光区的尺寸,这样通过第二开口112形成的图案就存在超出与其对应的像素发光区的边缘区域,在所述第一掩膜板1和所述第二掩膜板2层叠时,通过所述第二掩膜板2上的第三开口211形成的图案的两端搭接在相邻两个所述第二开口112形成的图案的边缘区域上,这样不会增加对应像素发光区的阴极厚度,避免出现像素发光区因阴极厚度不同造成的显示不均和色偏。
图9表示本发明实施例中采用第一掩膜板1蒸镀后,对应于第二显示区域102的蒸镀效果示意图,为了提升红外光的透过率,所述第二显示区域102的像素发光区排布稀疏,以提高红外光透过率,像素发光区中的RGB像素(每个像素发光区包括一个红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素)的形状在此不作限定,可以为圆形、四边形、六边形、八边形等,通过所述第一掩膜板1进行OLED显示面板上的阴极的蒸镀时,所述第二开口112在所述OLED显示面板上的正投影与所述第二显示区域102上的像素发光区一一重叠,且每个所述第二开口112的面积大于或等于所述第二显示区域102的对应的像素发光区的面积,保证了通过所述第二开口112蒸镀的阴极,完全覆盖每个像素发光区。
本实施例中,所述第二开口112的形状为四边形,如图4所示,但并不以此为限,在实际使用中,所述第二开口112的形状可以与相应的像素发光区的形状相符。
本实施例中,与所述第一开口111相邻的所述第二开口112与所述第一开口111不连通,或者连通。
根据实际需要,与所述第一开口111相邻的所述第二开口112与所述第一开口111可以不连通,也可以连通,具体的可以根据与所述第一显示区域101相邻的所述第二显示区域102的边缘的像素发光区的排布情况设定。本实施例的一实施方式中,与所述第一开口111相邻的所述第二开口112与所述第一开口111是连通的,如图4所示,但并不以此为限。
本实施例中,位于所述第一蒸镀区域11边缘的所述第二开口112的尺寸大于位于所述第一蒸镀区域11内部的所述第二开口112的尺寸。
本实施例中,位于所述第二蒸镀区域21边缘的所述第三开口211的尺寸大于位于所述第二蒸镀区域21内部的所述第三开口211的尺寸。
考虑到OLED显示面板边缘的阴极的搭接问题,可以增大所述第一掩膜板1的边缘的开口的尺寸,以及增大所述第二掩膜板2的边缘的开口的尺寸,图4表示的是所述第一掩膜板1上的多个所述第二开口112的部分结构示意图,多个所述第二开口112包括位于所述第一蒸镀区域11边缘的第二边缘开口2112和中部的第一中部开口1122,所述第一中部开口1122的面积小于所述第二边缘开口2112的面积,可以保证所述第二显示区域102边缘处蒸镀的阴极材料与基板上的阳极材料最大程度的接触。图7表示的是所述第二掩膜板2上的多个所述第三开口211的部分结构示意图,多个所述第三开口211包括位于所述第二蒸镀区域21边缘的第二边缘开口2112和第二中部开口2111,所述第二中部开口2111的面积小于所述第二边缘开口2112的面积,可以保证所述第二显示区域102边缘处蒸镀的阴极材料与基板上的阳极材料最大程度的接触。
需要说明的是,所述第二掩膜板2的边缘的各个第二边缘开口2112的面积根据所述第二掩模板的边缘的形状而定,图7各个所述第二边缘开口2112中的部分所述第二边缘开口2112的面积不相同。
本实施例还提供一种OLED显示面板,用上述的掩膜板组件蒸镀OLED显示面板上的阴极,包括以下步骤:
通过第一掩膜板1,在第一显示区域101蒸镀阴极材料,并在第二显示区域102的像素发光区对应的位置蒸镀阴极材料,通过第一掩膜板1蒸镀后的,第二显示区域102上的阴极的示意图为图9所示,图9中的20表示矩形阴极图案,每个矩形阴极图案覆盖一像素发光区(每个矩形阴极图案20内部的三个小矩形分别表示蓝色子像素、红色子像素和绿色子像素);
通过第二掩膜板2,在第二显示区域102蒸镀阴极材料以形成连通至少两个相邻的像素发光区对应的阴极的搭接桥,用于相邻像素发光区之间数据信号的连通。
本实施例的一具体实施方式中,通过第二掩模板2,在第二显示区域102蒸镀阴极材料以形成连通两个相邻的像素发光区对应的阴极的搭接桥,用于相邻像素发光区之间数据信号的连通,蒸镀完成后的第二显示区域102的阴极的示意图如图10所示。
本实施例中,所述阴极材料为镁银掺杂材料。
本实施例还提供一种OLED显示面板,采用上述的OLED显示面板的制作方法。
本发明还提供一种显示装置,包括上述的OLED显示面板。
所述显示装置可以为:液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件,其中,所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。
通过第一掩膜板1和第二掩膜板2相配合,蒸镀OLED显示面板上的阴极,相比于现有技术中整面蒸镀阴极的方式,降低设置红外镜头、传感器等装置的第二显示区域102的阴极的蒸镀面积,大幅提高显示面板上具有第二显示区域102的红外光透过率。
以上所述为本发明较佳实施例,需要说明的是,对于本领域普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明保护范围。

Claims (10)

1.一种掩膜板组件,用于形成至少一个OLED显示面板的阴极,OLED显示面板的显示区域包括第一显示区域和第二显示区域,所述第一显示区域的像素分辨率不同于所述第二显示区域的像素分辨率,其特征在于,所述掩膜板组件包括:
第一掩膜板,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第一蒸镀区域,所述第一蒸镀区域包括对应所述第一显示区域的第一开口和对应所述第二显示区域的每一像素发光区的多个相互独立的第二开口;
第二掩膜板,包括与至少一个OLED显示面板一一对应的至少一个第二蒸镀区域,所述第二蒸镀区域对应所述第二显示区域,所述第二蒸镀区域包括多个相互独立的第三开口,在所述第一掩膜板和所述第二掩膜板层叠时,所述第三开口在所述第一掩膜板上的正投影连通至少两个相邻的所述第二开口。
2.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,所述第三开口为条形结构,在所述第一掩膜板和所述第二掩膜板层叠时,所述第三开口在所述第一掩膜板上的正投影连通两个相邻的所述第二开口。
3.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,每个所述第二开口的面积大于所述第二显示区域的每个像素发光区的面积。
4.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,与所述第一开口相邻的所述第二开口与所述第一开口不连通,或者连通。
5.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,位于所述第一蒸镀区域边缘的所述第二开口的尺寸大于位于所述第一蒸镀区域内部的所述第二开口的尺寸。
6.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,位于所述第二蒸镀区域边缘的所述第三开口的尺寸大于位于所述第二蒸镀区域内部的所述第三开口的尺寸。
7.一种OLED显示面板的制作方法,其特征在于,采用权利要求1-6任一项所述的掩膜板组件蒸镀OLED显示面板上的阴极,包括以下步骤:
通过第一掩膜板,在第一显示区域蒸镀阴极材料,并在第二显示区域的像素发光区对应的位置蒸镀阴极材料;
通过第二掩膜板,在第二显示区域蒸镀阴极材料以形成连通至少两个相邻的像素发光区上对应的阴极的搭接桥。
8.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述阴极材料为镁银掺杂材料。
9.一种OLED显示面板,其特征在于,采用权利要求7或8所述的OLED显示面板的制作方法。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求9所述的OLED显示面板。
CN201910281156.4A 2019-04-09 2019-04-09 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置 Active CN109957754B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910281156.4A CN109957754B (zh) 2019-04-09 2019-04-09 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置
PCT/CN2020/076413 WO2020207131A1 (zh) 2019-04-09 2020-02-24 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910281156.4A CN109957754B (zh) 2019-04-09 2019-04-09 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109957754A true CN109957754A (zh) 2019-07-02
CN109957754B CN109957754B (zh) 2021-04-23

Family

ID=67025942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910281156.4A Active CN109957754B (zh) 2019-04-09 2019-04-09 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN109957754B (zh)
WO (1) WO2020207131A1 (zh)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110923625A (zh) * 2019-12-16 2020-03-27 京东方科技集团股份有限公司 掩膜模组、蒸镀系统及蒸镀方法及显示基板
CN111020489A (zh) * 2019-12-19 2020-04-17 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置、蒸镀方法以及显示装置
CN111155055A (zh) * 2020-01-06 2020-05-15 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled面板、其蒸镀方法和其掩膜版组
CN111244330A (zh) * 2020-01-15 2020-06-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀方法、蒸镀装置以及显示装置
CN111584566A (zh) * 2020-05-11 2020-08-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法、掩模版组
WO2020207131A1 (zh) * 2019-04-09 2020-10-15 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置
CN112909063A (zh) * 2021-02-03 2021-06-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及其制备方法
CN113088875A (zh) * 2021-04-02 2021-07-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制备方法
CN113571664A (zh) * 2021-07-22 2021-10-29 武汉天马微电子有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN114318225A (zh) * 2021-12-21 2022-04-12 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板组件、显示装置的蒸镀方法及显示装置
WO2022082428A1 (zh) * 2020-10-20 2022-04-28 京东方科技集团股份有限公司 掩膜组件及其制造方法、显示面板、显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104134681A (zh) * 2014-06-17 2014-11-05 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光二极管显示面板及其制备方法、掩膜板
US20160221017A1 (en) * 2015-02-02 2016-08-04 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Evaporation mask and method for manufacturing evaporation mask
CN108493221A (zh) * 2018-04-17 2018-09-04 京东方科技集团股份有限公司 一种像素排列结构、显示面板、掩膜版组件及蒸镀设备
CN108866476A (zh) * 2018-06-29 2018-11-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4708735B2 (ja) * 2004-05-31 2011-06-22 キヤノン株式会社 マスク構造体の製造方法
CN106920894B (zh) * 2017-04-28 2020-04-24 陕西科技大学 一种透明oled器件结构及其制备方法
CN107994054B (zh) * 2017-11-07 2020-05-29 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置
CN208507679U (zh) * 2018-06-29 2019-02-15 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、显示装置及高精度金属掩模板
CN109256493B (zh) * 2018-12-07 2021-04-27 京东方科技集团股份有限公司 一种电致发光显示面板、显示装置及显示面板的制备方法
CN109957754B (zh) * 2019-04-09 2021-04-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104134681A (zh) * 2014-06-17 2014-11-05 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光二极管显示面板及其制备方法、掩膜板
US20160221017A1 (en) * 2015-02-02 2016-08-04 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Evaporation mask and method for manufacturing evaporation mask
CN108493221A (zh) * 2018-04-17 2018-09-04 京东方科技集团股份有限公司 一种像素排列结构、显示面板、掩膜版组件及蒸镀设备
CN108866476A (zh) * 2018-06-29 2018-11-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020207131A1 (zh) * 2019-04-09 2020-10-15 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置
CN110923625A (zh) * 2019-12-16 2020-03-27 京东方科技集团股份有限公司 掩膜模组、蒸镀系统及蒸镀方法及显示基板
CN111020489A (zh) * 2019-12-19 2020-04-17 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置、蒸镀方法以及显示装置
CN111155055A (zh) * 2020-01-06 2020-05-15 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled面板、其蒸镀方法和其掩膜版组
CN111244330A (zh) * 2020-01-15 2020-06-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀方法、蒸镀装置以及显示装置
CN111584566A (zh) * 2020-05-11 2020-08-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法、掩模版组
US11805665B2 (en) 2020-05-11 2023-10-31 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Display panel, manufacturing method thereof, and mask plate group
WO2022082428A1 (zh) * 2020-10-20 2022-04-28 京东方科技集团股份有限公司 掩膜组件及其制造方法、显示面板、显示装置
CN112909063A (zh) * 2021-02-03 2021-06-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及其制备方法
CN113088875A (zh) * 2021-04-02 2021-07-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制备方法
CN113571664A (zh) * 2021-07-22 2021-10-29 武汉天马微电子有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN113571664B (zh) * 2021-07-22 2023-11-21 武汉天马微电子有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN114318225A (zh) * 2021-12-21 2022-04-12 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板组件、显示装置的蒸镀方法及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN109957754B (zh) 2021-04-23
WO2020207131A1 (zh) 2020-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109957754A (zh) 掩膜板组件、oled显示面板及其制作方法、显示装置
TWI709125B (zh) 顯示基板、顯示面板及顯示裝置
KR102635869B1 (ko) 표시 기판, 그 구동 방법, 표시 장치 및 고정밀 메탈 마스크
TWI735203B (zh) 像素排列結構、顯示面板及顯示裝置
WO2021057012A1 (zh) 透光显示面板、显示面板、制作方法、显示装置
CN104282727B (zh) 一种像素结构及其显示方法、显示装置
CN109786582A (zh) 一种掩膜板、显示背板、显示面板和显示装置
CN109037287A (zh) 子像素排列结构、掩膜装置、显示面板及显示装置
CN104465714B (zh) 一种像素结构及其显示方法、显示装置
US20220310705A1 (en) Display panel and display device
CN108364568A (zh) 一种显示面板、显示装置及彩膜基板
CN109935617A (zh) 像素排列结构、显示基板以及掩模板组
CN109722629A (zh) 一种掩膜板、阴极制作方法及oled显示装置
CN104317096B (zh) 一种彩膜基板、液晶面板和显示装置
CN107731101A (zh) 显示面板和显示装置
WO2021228219A1 (zh) Oled显示基板及其制备方法、oled显示装置
WO2020001087A1 (zh) 显示基板、其显示方法、显示装置及高精度金属掩模板
WO2020087859A1 (zh) 显示屏以及显示终端
CN108598122A (zh) 显示基板及其制作方法、显示装置
CN107086239A (zh) 像素结构及其制备方法和显示装置
CN113113456B (zh) 一种oled显示面板及其制备方法、显示装置
CN109856840A (zh) 一种显示面板及显示装置
WO2020155589A1 (zh) 显示基板及其显示优化方法、显示面板及显示装置
US20210359032A1 (en) Display substrate and manufacturing method thereof, display panel and display device
CN115942822B (zh) 显示面板及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant