CN113571664A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开一种显示面板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，包括：子显示区和至少部分围绕子显示区的主显示区，子显示区包括透光区和与透光区相邻的发光区；阴极，位于子显示区的阴极包括第一阴极、补偿阴极和第一镂空区；其中，沿垂直于显示面板出光面的方向，第一阴极至少部分覆盖发光区，第一镂空区至少部分覆盖透光区；透光区包括第一透光区和第二透光区，补偿阴极至少部分位于第一透光区；沿垂直于显示面板出光面的方向，补偿阴极具有第一厚度H1，第一阴极具有第二厚度H2，H1<H2。本申请采用图形化部分显示面板中的阴极，使得该区域既能提高光线透过率，又能消除因各膜层图形化而造成的光学衍射现象。

Description

显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体地说，涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)由于具有宽广的色域、较高的对比度、节能以及可折叠等优点，成为新一代显示设备中最具竞争力的技术之一，其应用领域广泛，例如，智能穿戴设备，车载设备以及智能家电领域。

现有的OLED通常在显示面板上开槽或挖孔，用于放置摄像头和/或传感元件，以实现拍照功能，且显示面板上开槽或挖孔的区域仍设置有像素发光元件；而摄像头和/或传感元件对应的显示面板要求具有较高的透过率，现有的显示面板设置有摄像头和/或传感器的区域达不到较高透过率的要求，影响显示装置拍照效果，因此，亟需一种具有较高透过率的显示面板。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，采用图形化显示面板中的阴极，使得该区域既能提高光线透过率，又能消除因各膜层图形化而造成的光学衍射现象。

本申请有如下技术方案：

第一方面，本申请提供一种显示面板，包括：子显示区和至少部分围绕子显示区的主显示区，子显示区包括透光区和与透光区相邻的发光区；

阴极，位于子显示区的阴极包括第一阴极、补偿阴极和第一镂空区；其中，沿垂直于显示面板出光面的方向，第一阴极至少部分覆盖发光区，第一镂空区至少部分覆盖透光区；

透光区包括第一透光区和第二透光区，补偿阴极至少部分位于第一透光区；

沿垂直于显示面板出光面的方向，补偿阴极具有第一厚度H1，第一阴极具有第二厚度H2，H1<H2。

第二方面，本申请还提供一种显示装置，包括显示面板，该显示面板为本申请所提供的显示面板。

第三方面，本申请还提供一种显示面板的制作方法，包括：

提供一衬底基板；

通过第一掩膜版在衬底基板靠近显示面板出光面的一侧蒸镀第一子阴极；第一掩膜版包括多个第一遮挡区和多个第三镂空区，第一遮挡区至少部分围绕第三镂空区；

通过第二掩膜版在第一子阴极靠近显示面板出光面的一侧蒸镀第二子阴极；沿垂直于显示面板出光面的方向，第一子阴极与第二子阴极至少部分交叠；第二掩膜版包括多个第二遮挡区和多个第四镂空区，第二遮挡区至少部分围绕第四镂空区。

本申请所提供的显示面板及其制作方法、显示装置，采用子显示区阴极图案化的方式，即子显示区中的阴极包括第一阴极、补偿阴极和第一镂空区，其中，阴极并不是设置为整面阴极，具有第一镂空区，能够提高子显示区的光线透过率；此外，子显示区在发光区对应的区域设置为正常厚度的阴极，即第一阴极，以实现子显示区的发光功能；在透光区对应的区域设置为厚度较小的阴极，即透光区包括第一透光区和第二透光区，补偿阴极位于第一透光区；如此，一方面，能够提高子显示区的光线透过率，另一方面，可以通过调节子显示区中膜层的厚度，当膜层厚度的差异符合一定的条件下，进一步能够调节穿过第一阴极与补偿阴极的光线之间的光程差，能够避免膜层图形化导致的光学衍射。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1所示为本申请实施例所提供的显示面板的一种结构示意图；

图2所示为本申请实施例所提供的显示面板的另一种结构示意图；

图3所示为本申请实施例所提供的阴极的一种局部结构示意图；

图4所示为本申请实施例所提供的阴极的一种局部结构示意图；

图5所示为图2所示实施例所提供的显示面板沿A-A’的一种截面图；

图6所示为本申请实施例所提供的阴极的另一种结构示意图；

图7所示为本申请实施例所提供的阴极的另一种结构示意图；

图8所示为本申请实施例所提供的第一子阴极的一种结构示意图；

图9所示为本申请实施例所提供的第二子阴极的一种结构示意图；

图10所示为本申请实施例所提供的阴极的另一种结构示意图；

图11所示为本申请实施例所提供的第一子阴极的另一种结构示意图；

图12所示为本申请实施例所提供的第二子阴极的另一种结构示意图；

图13所示为本申请实施例所提供的第一子阴极与第二子阴极叠加一种结构示意图；

图14所示为本申请实施例所提供的阴极的另一种结构示意图；

图15所示为图14所提供的实施例中沿B-B’的一种截面示意图；

图16所示为图14所提供的实施例中沿C-C’的一种截面示意图，

图17所示为本申请实施例所提供的第一子阴极的另一种结构示意图；

图18所示为本申请实施例所提供的第二子阴极的另一种结构示意图；

图19所示为本申请实施例所提供的阴极的另一种结构示意图；

图20所示为本申请实施例所提供的第一凹槽的一种结构示意图；

图21所示为本申请实施例所提供的第二凹槽的一种结构示意图；

图22所示为本申请实施例所提供的显示装置的一种结构示意图；

图23所示为本申请实施例所提供的显示面板的制作方法的流程图；

图24所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版的一种结构示意图；

图25所示为本申请实施例所提供的第二掩膜版的一种结构示意图；

图26所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版的另一种结构示意图；

图27所示为本申请实施例所提供的第二掩膜版的另一种结构示意图；

图28所示为本申请实施例所提供的第三掩膜版的一种结构示意图；

图29所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版的又一种结构示意图；

图30所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版的又一种结构示意图。

具体实施方式

如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解，硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”为一开放式用语，故应解释成“包含但不限定于”。“大致”是指在可接受的误差范围内，本领域技术人员能够在一定误差范围内解决所述技术问题，基本达到所述技术效果。此外，“耦接”一词在此包含任何直接及间接的电性耦接手段。因此，若文中描述一第一装置耦接于一第二装置，则代表所述第一装置可直接电性耦接于所述第二装置，或通过其他装置或耦接手段间接地电性耦接至所述第二装置。说明书后续描述为实施本申请的较佳实施方式，然所述描述乃以说明本申请的一般原则为目的，并非用以限定本申请的范围。本申请的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。其中，各实施例之间的相同之处不再一一赘述。

以下结合附图和具体实施例进行详细说明。

图1所示为本申请实施例所提供的显示面板的一种结构示意图，图2所示为本申请实施例所提供的显示面板的另一种结构示意图，图3所示为本申请实施例所提供的显示面板的另一种结构示意图，图4所示为本申请实施例所提供的阴极31的一种结构示意图，请参考图1～图4所示，本申请所提供的一种显示面板100，包括：子显示区10和至少部分围绕子显示区10的主显示区20，子显示区10包括透光区11和与透光区11相邻的发光区12；

阴极31，位于子显示区10的阴极31包括第一阴极40、补偿阴极50和第一镂空区60；其中，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一阴极40至少部分覆盖发光区12，第一镂空区60至少部分覆盖透光区11；

透光区11包括第一透光区11-1和第二透光区11-2，补偿阴极50至少部分位于第一透光区11-1；

沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，补偿阴极50具有第一厚度H1，第一阴极40具有第二厚度H2，H1<H2。

需要说明的是，图1所示实施例仅示意性示出了子显示区10与主显示区20的相对位置关系，其中，子显示区10与主显示区20还包括半包围的位置关系，本申请在此不作限定，图1中所示的子显示区10与主显示区20的尺寸也并不代表实际尺寸，子显示区10的形状也不代表实际形状，还可以为其他形状，本申请在此不作限定；图2所示实施例仅示意性示出了子显示区10中透光区11与发光区12的相对位置关系，当然，透光区11与发光区12还可以有其他的位置关系；图3所示示实例仅示意性示出了位于发光区12中的像素发光元件的另一种排布方式，区别于图2所示实施例中位于发光区12中像素发光元件的排布方式；图4所示实施例仅示意性示出了第一阴极40、补偿阴极50和第一镂空区60的一种连接关系，以及厚度关系，并不代表具体地尺寸。

具体地，请继续参考图1～图4所示，本实施例中的显示面板包括子显示区10和主显示区20，主显示区20至少部分围绕子显示区10，子显示区10对应的显示面板还具有其他功能，例如子显示区10为拍照的区域和/或感应的区域；子显示区10包括透光区11和发光区12，透光区11与发光区12相邻，由于子显示区10还具有其他功能，使得子显示区10需要具有较高的光线透过率，而光线的透过率直接受设置于子显示区10中的各膜层的厚度以及各膜层的折射率的影响，因此，本实施例主要采用减薄子显示区10中阴极31的膜厚的方式，来进一步提高子显示区10的光线透过率；此外，在改善子显示区10光线透过率的同时，光线路径上的膜层厚度或者折射率会发生变化，不同区域的光学路径不同，当光线穿过不同的区域后会产生光程差，不满足波长的整数倍，就会导致衍射现象；而本实施例可以对穿过子显示区10中的光学路径的光程进行改善，以消除产生的光学衍射现象。

可选的，图5所示为图2所示实施例所提供的显示面板沿A-A’的一种截面图，请参见图5所示，并结合图1～4所示，本实施例中位于子显示区10中的阴极31包括第一阴极40、补偿阴极50和第一镂空区60，第一阴极40与补偿阴极50相邻，补偿阴极50与第一镂空区60相邻；本实施例中的显示面板还包括像素发光层32和阳极33，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，像素发光层32和阳极33均位于发光区12，阳极33位于阴极31背离显示面板出光面的一侧，即阳极33位于阴极31靠近显示面板衬底基板的一次，像素发光层32位于阴极31和阳极33之间。本实施例中将子显示区10中的阴极31分为几部分，且不同部分的阴极31厚度不同；而位于主显示区20中的阴极31设置为一整面，覆盖主显示区20，可以降低主显示区阴极的电阻，减小压降。

现有技术中，显示面板阴极设置为整面阴极，覆盖在像素发光层上，阴极由于其材料选择的原因，透光率很低，通常小于50％，外界光线或者显示面板内部像素发出的光经过阴极的时候，损失较大，如此，当子显示区需要较高的光线透过率时，整面设置的阴极不利于实现功能区高的光线透过率；而本实施例中，阴极31具有第一镂空区60，其中，第一镂空区60至少部分覆盖子显示区中的透光区11，第一镂空区60的设计，能够提高子显示区10的光线透过率；本实施例在子显示区10的发光区12对应的区域处的阴极的厚度与主显示区20的阴极的厚度相同，均为预设厚度，即第一阴极40，也可以理解为，子显示区10中发光区12对应的第一阴极40的厚度为一固定值，且需满足一定的厚度要求，通常出于显示效果考虑，阴极的厚度是有一定要求的；在第一阴极40与阳极33的配合下，才能有效保障像素发光层的发光亮度，以实现子显示区10的发光功能。

由于上述透光区11的设计，而为了实现子显示区10的正常显示，阴极信号能够正常传输至显示面板中的各个发光区，相邻的发光区之间的阴极是连接的，从而使所有发光区的阴极均能接收信号，保证显示效果，透光区11包括有阴极和没有阴极的区域，则不同区域之间的透光膜层厚度不同，容易导致子显示区10出现光学衍射现象，因此，在透光区11对应的区域设置为厚度较小的补偿阴极50，即透光区11包括第一透光区11-1和第二透光区11-2，补偿阴极50位于第一透光区11-1；如此，一方面，能够提高子显示区10的光线透过率，另一方面，通过调整补偿阴极50的厚度，可以调整穿过补偿阴极50与第一镂空区60的光线的光程，使光程差满足波长的整数倍，能够避免膜层图形化导致的光学衍射现象，提高拍照的成像效果。

可选地，图6所示为本申请实施例所提供的显示面板100的另一种结构示意图，请参照图6所示，补偿阴极50连接相邻两个第一阴极40。

需要说明的是，图6所示实施例仅示意性示出了同一补偿阴极50连接两个第一阴极40的结构示意图，其中，补偿阴极50连接相邻两个像素发光元件行中相互交错的像素发光元件。

具体地，请继续参照图6所示，本实施例中的补偿阴极50连接相邻两个第一阴极40，其中，补偿阴极50沿垂直于显示面板出光面方向的厚度小于第一阴极40沿垂直于显示面板出光面方向的厚度，一方面，能够增强透光区11的透过率；另一方面，还可以调节穿过补偿阴极50与穿过透光区11的光线的光程，使光程差满足波长的整数倍，以消除光线经过子显示区10时的光学衍射现象。

可选地，请继续参考图5所示，并结合图4所示，显示面板还包括透光走线90；透光走线90可以是发光区12中的像素电路中包括的信号走线，也可以为连接相邻两个发光区12、将信号在相邻发光区12之间进行传输的信号走线，或者其他的结构。采用透光走线90替代部分显示面板原有的金属信号传输走线(例如：扫描控制信号线、发光控制信号线、固定电源电压线等)，可以提高子显示区的透光率。

沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一镂空区60覆盖透光走线90。

具体地，请继续参考图5所示，并结合图2和4所示，本实施例中的显示面板还包括透光走线90，可选地，透光走线90可以为显示面板内的任一信号走线；沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，透光走线90可以位于第一透光区11-1，通过调节覆盖透光走线90的补偿阴极50的厚度，使穿过第一透光区11-1的光线与穿过第二透光区11-2的光线的光程差满足预定条件，即波长的整数倍，可以避免透光膜层图形化导致的衍射，需要说明的是，当透光走线90位于第一透光区11-1时，调节经过不同区域的光线的光程时，需考虑透光走线90所在的膜层图形化的影响。

可选的，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，透光走线90也可以位于第一镂空区60，此时，调节穿过透光走线90的光线与穿过第一阴极40、以及穿过补偿阴极50的光线的光程差，可以避免透光走线90膜层图形化导致的衍射；需要说明的是，透光走线90的折射率较大，对穿过透光走线90的光线的光程进行调整，更能有效调节子显示区10的衍射现象。

可选地，透光走线90可以采用铟锡氧化物(ITO)或晶体硅(poly)，也可为铟锌氧化物(IZO)、或者掺杂银的氧化铟锡(Ag+ITO)、或者掺杂银的氧化铟锌(Ag+IZO)、或者氧化铟镓锌(IGZO)等。由于ITO工艺成熟、成本低且透光率比较高，导电材料可以为铟锌氧化物。在保证高透光率的基础上，减小各导电走线的电阻，透明导电材料可以采用铝掺杂氧化锌、掺杂银的ITO或者掺杂银的IZO等材料；对于晶体硅和金属氧化物材料，可以采用氢化等工艺制程提高半导体材料的导电能力。还可以利用显示面板中的半导体层的材料(例如晶体管poly，或者金属氧化物半导体IGZO)，作为透光走线90的材料，既能实现信号的传输，同时提高子显示区10的透光率，又可以节省工艺制程，降低显示面板的制作成本。

可选地，请继续参见图4所示，由显示面板的出光面垂直进入到显示面板的光线经过的传播路径包括第一传播路径S1和第二传播路径S2，可选的，透光走线90位于第一传播路径上；

第一传播路径的光程为L1，第二传播路径的光程为L2，其中，L1－L2＝nλ，λ为光的波长，n为大于0的正整数。

具体地，请继续参见图4所示，并结合图2所示，本实施例中，阴极31包括三部分，即第一阴极40、补偿阴极50和第一镂空区60，补偿阴极50沿垂直于显示面板出光面的方向的厚度小于第一阴极40沿垂直于显示面板出光面的方向的厚度，且阴极31上还设置有第一镂空区60，使得阴极31形成图形化膜层；子显示区10的阴极31具有不同的厚度，即阴极31具有图形化，再加上其他膜层的图形化，容易造成子显示区10发生衍射现象；可选地，将阴极31不同区域光线经过的传播路径分为第一传播路径S1、第二传播路径S2，透光走线90位于第一传播路径，同时，第一传播路径穿过第一镂空区60，补偿阴极50位于第二传播路径；通过调节各传播路径的光程差，可选地，第一传播路径的光程为L1，第二传播路径的光程为L2，光穿过第一传播路径和第二传播路径的光程的差值为光的波长的整数倍，即L1－L2＝nλ，λ为光的波长，n为大于0的正整数，如此，当满足光程的差值为波长的整数倍时，能够有效的消除外界环境光经过子显示区10时，由于不同光学路径上产生的光程差而引起的光学衍射现象。

需要说明的是，请继续参照图4所示，光程等于介质折射率乘以光在介质中传播的路程，光程的计算公式为：光程＝折射率×路程，路程即为光线穿过的各膜层的厚度，折射率为光线穿过的各膜层的折射率，由此可知，光程＝d1*n1+d2*n2+…+di*ni，d1，d2，…，di为光穿过的路径中各结构层的厚度；n1，n2，…，ni为所述光穿过的路径中对应结构层的折射率；光穿过子显示区10时可以有多条不同的传播路径，使得两条传播路径之间的光程总和的差值为光的波长的整数倍，当光线通过不同传播路径后，相位差为零；由于相同相位的光线经过显示面板产生相位差异是衍射发生的重要原因之一，而本实施例中，通过调节子显示区10中各膜层的厚度，使之与其对应的折射率搭配，使得相同相位的光线经过不同传播路径后相位仍相同，不会产生相位差异，消除了相位差异导致的衍射现象，使得光线穿过显示面板后不会产生上述由于衍射导致的图像失真，提高了显示面板后方的摄像头成像的效果。

可选地，图7所示为本申请实施例所提供的阴极31的另一种结构示意图，请参考图7所示，第一阴极40包括第一子阴极41，和/或第二子阴极42，第二子阴极42位于第一子阴极41靠近显示面板出光面的一侧。

需要说明的是，图7所示实施例仅示意性示出了第一子阴极41和第二子阴极42的一种位置关系示意图，第一子阴极41与第二子阴极42的材质可以相同，也可以不同，第一子阴极41与第二子阴极42的厚度可以相等，也可以不相等，本申请在此不作限定。

具体地，请继续参考图7所示，本实施例中的第一阴极40包括第一子阴极41和第二子阴极42，第二子阴极42位于第一子阴极41靠近显示面板出光面的一侧；当子显示区10中的第一阴极40分为两部分时，可以通过工艺制程来调节第一子阴极41或第二子阴极42的厚度，在保证第一阴极40的厚度需满足一定的厚度要求的同时，可以实现分别调控第一子阴极41和第二子阴极42的厚度，或者通过对第一子阴极41和第二子阴极42材料的选择，即选择折射率不同的材质，灵活的消除子显示区10因膜层图像化而导致的光学衍射现象。还需要说明的是，通过调节阴极31位于透光区的形态和厚度，由于阴极31选用高折射率的材质，选择调节阴极31的厚度及形态的方式能更有效的改善，此外，还能通过调节位于透光区11的补偿阴极50的厚度，更能有效的控制穿过补偿阴极50与穿过第一镂空区60的光线的光程，进一步消除子显示区10的光学衍射现象。

可选地，图8所示为本申请实施例所提供的第一子阴极41的一种结构示意图，图9所示为本申请实施例所提供的第二子阴极42的一种结构示意图，图10所示为本申请实施例所提供的阴极31的另一种结构示意图，请参考图8～图10所示，并结合图7所示，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一子阴极41与第二子阴极42重叠；此时，可以设置补偿阴极50与第二子阴极42同层，且补偿阴极50与第二子阴极42连接，可以同时制作补偿阴极和第二子阴极，节省工艺制程的同时改善外界环境光在子显示区10的光程差引起的光学衍射。

具体地，请继续参考图7～图10所示，本实施例中，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一子阴极41与第二子阴极42完全重叠，补偿阴极50与第二子阴极42同层，且补偿阴极50与第二子阴极42连接；也可以理解为，补偿阴极50与第二子阴极42同时制作，同层同工艺，且为一个整体，可以理解为，第二子阴极42与补偿阴极50采用同一掩膜版制作，相当于由补偿阴极50与第二子阴极42作为一个整体覆盖在第一子阴极41上，第一镂空区60位于相邻补偿阴极50之间，如此，形成图案化的阴极31，以调整子显示区10各光线经过的路径的光程，使得穿过阴极31不同区域的光线的光程差满足一定的条件，即使光程差满足波长的整数倍，可以消除显示面板的光学衍射现象。

需要说明的是，请继续参考图7所示，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，阴极31的最大厚度为H2，也即第一子阴极41与第二子阴极42交叠的区域为厚度最大区域，第一子阴极41的厚度为H3，第二子阴极42的厚度为H4，H2＝H3+H4；子显示区10第一阴极40的最大厚度与主显示区20中的阴极31的正常厚度相等；本实施例中的阴极31的最大厚度为固定值H2，其中，第一子阴极41的厚度H3和第二子阴极42的厚度H4均可调，使其满足H2＝H3+H4即可，可选地，可以通过调节第一子阴极41的厚度H3和第二子阴极42的厚度H4，使穿过第一阴极40和补偿层50的光线的光程差满足波长的整数倍，以满足消除光学衍射的条件；此外，还可以使第一子阴极41与第二子阴极42选用折射率不同的材质来满足消除光学衍射的条件。

可选地，图11所示为本申请实施例所提供的第一子阴极41的另一种结构示意图，图12所示为本申请实施例所提供的第二子阴极42的另一种结构示意图，图13所示为本申请实施例所提供的第一子阴极41与第二子阴极42叠加一种结构示意图，图14所示为本申请实施例所提供的阴极31的另一种结构示意图，图15所示为图14所提供的实施例中沿B-B’的一种截面示意图，图16所示为图14所提供的实施例中沿C-C’的一种截面示意图，请参考图14～图16所示，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一子阴极41或第二子阴极42覆盖发光区12，且补偿阴极50至少部分覆盖发光区12；

第一子阴极41与第二子阴极42至少部分交叠，补偿阴极50至少部分覆盖第一子阴极41或第二子阴极42。

需要说明的是，图11所示实施例仅示意性示出了第一子阴极41与像素发光元件30的位置关系，并不代表实际尺寸；图12所示实施例仅示意性示出了第二子阴极42与像素发光元件30的位置关系，并不代表实际尺寸；图13所示实施例仅示意性示出了第一子阴极41与第二子阴极42叠加的示意图，其并不代表实际尺寸；图14所示实施例仅示意出第一子阴极41、第二子阴极42和补偿阴极50叠加的一种形态，其并不代表实际尺寸；在显示面板的制程中，根据实际尺寸需求进行调整。

具体地，请继续参考图11～图16所示，本实施例中，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一子阴极41或第二子阴极42覆盖发光区12，且位于发光区12的第一子阴极41或第二子阴极42上覆盖补偿阴极50，第一子阴极41与第二子阴极42至少部分交叠，且补偿阴极50至少部分覆盖第一子阴极41与第二子阴极42未交叠的区域，使阴极31平坦化；可以理解为，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一子阴极41位于发光区12的部分区域，或者，第二子阴极42位于发光区12的部分区域，并且第一子阴极41或第二子阴极42上覆盖补偿阴极50，而发光区12对应的第一阴极40的厚度始终为固定值H2，也即第一子阴极41或第二子阴极42的厚度与补偿阴极50的厚度之和，因此，通过调节第一子阴极41的厚度或第二子阴极42的厚度，再加上调节补偿阴极50的厚度，进一步调节子显示区10中各光线的光程，使其满足消除光学衍射的条件，使光程差满足波长的整数倍，进一步消除子显示区10中的光学衍射现象；此外，还可以使第一子阴极41、第二子阴极42和补偿阴极50选用折射率不同的材质来满足消除光学衍射的条件。

可选地，图17所示为本申请实施例所提供的第一子阴极41的另一种结构示意图，图18所示为本申请实施例所提供的第二子阴极42的另一种结构示意图，图19所示为本申请实施例所提供的阴极31的另一种结构示意图，请参考图17～图19所示，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一子阴极41与第二子阴极42至少部分交叠，且交叠区域覆盖发光区12。换句话说，即，第一子阴极41与第二子阴极42呈交叉排布，其交叠区域覆盖发光区12，第一子阴极41和第二子阴极42的厚度之和满足一定的厚度要求，以实现子显示区10的像素发光层32的正常发光；而第一子阴极41与第二子阴极42未交叠的区域，一方面，能够增强子显示区10的光线透过率；另一方面，能够消除各膜层图形化所带来的的光学衍射现象。

需要说明的是，图17所示实施例仅示意性示出了第一子阴极41与像素发光元件30的一种位置关系，并不代表实际尺寸；图18所示实施例仅示意性示出了第二子阴极42与像素发光元件30的一种位置关系；图19所示实施例仅示意性示出了第一子阴极41与第二子阴极42叠加的示意图，其并不代表实际尺寸；在显示面板的制程中，根据实际尺寸需求进行调整。

可选地，请参见图19所示，补偿阴极50至少部分与第二子阴极41同层；

且第一镂空区60在显示面板出光面的正投影位于相邻两个补偿阴极50之间。

具体地，请继续参见图17～图19所示，本实施例中，补偿阴极50至少部分与第二子阴极42同层可以理解为，部分补偿阴极50与第二子阴极42属于一体结构，第一阴极40的最大厚度即为第一子阴极41与第二子阴极42交叠的区域，未交叠的区域与交叠的区域厚度不同，厚度较薄的区域能够增强子显示区10的光线透过率，同时，补偿阴极50还可以将相邻发光区之间的阴极电连接，实现阴极信号的传输，还可以降低发光区的阴极的压降，提高显示效果；并且沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一镂空区60位于相邻两个补偿阴极50之间，第一镂空区60在显示面板出光面的正投影与位于相邻像素发光元件行之间的透光走线90在显示面板出光面的正投影交叠，如此，通过调整补偿阴极50的厚度，进一步调整穿过补偿阴极50与透光走线90的光线的光程，以消除由透光走线90膜层图形化而造成的光学衍射现象。

可选地，请继续参考图8所示，还包括：像素发光元件30，子显示区10的像素发光元件30的密度小于主显示区20的像素发光元件30的密度；子显示区10中的像素发光元件30位于发光区12。

具体地，请继续参考图8所示，并结合图7所示，本实施例中的显示面板还包括像素发光元件30，子显示区10中的像素发光元件30的密度小于主显示区20中的像素发光元件30的密度，子显示区10的像素发光元件30位于发光区12，以实现发光的功能，将像素发光元件30集中到发光区12，有利于将子显示区10中的透光区集中，增强透光区的透光率，提高子显示区10有效透光区的面积；由于子显示区10需要较高的光线透过率，因此，将子显示区10的像素发光元件30的密度设置为小于主显示区20的像素发光元件30的密度，以提高子显示区10的光线透过率。

可选地，请结合图8所示，还包括：与像素发光元件30对应电连接的像素电路(未示出)，子显示区10的像素电路的密度小于主显示区20的像素电路的密度；子显示区10的像素电路位于发光区12。

具体地，请结合图8所示，本实施例中的显示面板还可以包括与像素发光单元电连接的像素电路(未示出)，子显示区10的像素电路的密度小于主显示区20的像素电路的密度，且子显示区10的像素电路位于发光区12，以驱动像素发光元件30发光，像素驱动电路的密度与像素发光元件30的密度对应，同样，子显示区10的像素电路的密度较小，能够提高子显示区10的光线透过率。

可选地，请继续参见图8所示，还包括：像素发光元件行34，像素发光元件行34包括多个像素发光元件30，像素发光元件行34沿第一方向D1延伸，沿第二方向D2排布，第一方向D1与第二方向D2相交；在子显示区10，相邻两个像素发光元件行34中的像素发光元件30交错排布。

具体地，请继续参见图8所示，本实施例中显示面板还包括像素发光元件行34，像素发光元件行34内包括多个像素发光元件30，像素发光元件行34沿第一方向D1延伸，沿第二方向D2排布，第一方向D1和第二方向D2相交，可选地，第一方向D1和第二方向D2相交；在子显示区10，相邻两个像素发光元件行34中的像素发光元件30交错排布，子显示区10中的像素发光元件30用于发光，可以理解为，子显示区10的发光区12交错排布，如此，子显示区10中的发光区12分布均匀，提升视觉效果；在此基础上，需要限定阴极31包括的第一阴极40、补偿阴极50与第一镂空区60的排布方式，一方面，能够增强子显示区10的透过率，另一方面，使穿过阴极31不同位置的光线的传播路径的光程差为光的波长的整数倍，能够消除子显示区10的光学衍射现象。

可选地，请继续参见图17～图18所示，还包括：像素发光元件列35，像素发光元件列35包括多个像素发光元件30，像素发光元件列35沿第二方向D2延伸，沿第一方向D1排布，第一方向D1与第二方向D2相交。

具体地，请继续参见图17所示，本实施例中的显示面板还包括像素发光元件列35，像素发光元件30了包括多个像素发光元件30，像素发光元件列35沿第二方向D2延伸，沿第一方向D1排布，第一方向D1与第二方向D2相交，可选地，第一方向D1与第二方向垂直；本实施例中的主显示区20中包括多列像素发光元件列35，子显示区10中也包括多列像素发光元件列35，且主显示区20中的像素发光元件列35为子显示区10中像素发光元件列35的2倍，也可以理解为，子显示区10中相邻两个像素发光元件列35之间设置有透光区11，透光区11的面积相当于一列像素发光元件列35的面积，能够增强子显示区10的透过率；在此基础上，需要限定阴极31包括的第一阴极40、补偿阴极50与第一镂空区60的排布方式，一方面，能够增强子显示区10的透过率，另一方面，使穿过阴极不同位置的光线的传播路径的光程差光的波长的整数倍，能够消除子显示区10的光学衍射现象。

可选地，图20所示为本申请实施例所提供的第一凹槽81的一种结构示意图，请继续参考图20所示，还包括：薄膜晶体管阵列层70，薄膜晶体管阵列层70包括半导体有源层71，透光走线90位于半导体有源层71，位于半导体有源层71靠近显示面板出光面的一侧设置有多层无机层72；

无机层72包括第一凹槽81，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第一凹槽81覆盖透光走线90。由于透光走线90所在膜层图形化，再加上透光走线90的折射率较高，导致穿过透光走线90所在位置的光线与其他光线存在光程差，产生衍射，因此，本实施例与透光走线90对应设置有第一凹槽81，第一凹槽81的设置能减小光程，进一步减小光程差，消除衍射现象。需要说明的是，图20所示实施例仅示意性示出了第一凹槽81的形态，其并不代表第一凹槽81的尺寸。

具体地，请继续参考图20所示，本实施例中的显示面板，还包括薄膜晶体管阵列层70，薄膜晶体管阵列层70包括半导体有源层71，透光走线90位于半导体有源层71，半导体有源层71靠近显示面板出光面的一侧还设置有多层无机层72，当然薄膜晶体管阵列层70还包括其他膜层，本实施例在此不一一列举。

可选地，图21所示为本申请实施例所提供的第二凹槽83的一种结构示意图，请参照图21所示，还包括：辅助层82，辅助层82位于半导体有源层71远离显示面板出光面的一侧；

辅助层82上设置有第二凹槽83，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第二凹槽83覆盖透光走线90。需要说明的是，图21所示实施例仅示意性示出了第一凹槽81的形态，其并不代表第二凹槽83的尺寸。

具体地，请继续参考图21所示，本实施例中的显示面板还包括辅助层82，辅助层82位于半导体有源层71背离显示面板出光面的一侧，辅助层82上设置有第二凹槽83，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第二凹槽83覆盖透光走线90；第二凹槽83的设置能减小光程，进一步减小光程差，消除衍射现象。辅助层82可以为显示面板的衬底基板，如玻璃或者PI等透光材料形成等基板。

基于同一发明构思，图22所示为本申请实施例所提供的显示装置200的一种结构示意图，请参考图22所示，本申请还提供一种显示装置200，该显示装置200包括显示面板，该显示面板为本申请上述任一实施例所提供的显示面板，重复之处不再赘述。上述显示装置200还包括摄像头和/或光学传感器，摄像头和/或光学传感器位于显示面板的子显示区10。

需要说明的是，本申请实施例所提供的显示装置200的实施例可参见上述显示面板的实施例，本申请的显示装置200以有机电致显示(Organic Light-Emitting DiodeDisplay)装置为例，重复之处不再赘述。本申请所提供的显示装置200可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有现实功能的产品或部件。

基于同一发明构思，图23所示为本申请实施例所提供的显示面板的制作方法的流程图，图24所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版110的一种结构示意图，图25所示为本申请实施例所提供的第二掩膜版120的一种结构示意图，请参照图23～图25所示，并结合图7所示，本申请还提供一种显示面板的制作方法，该显示面板的制作方法包括：

S101、提供一衬底基板；

S102、通过第一掩膜版110在衬底基板靠近显示面板出光面的一侧蒸镀第一子阴极41；第一掩膜版110包括多个第一遮挡区111和多个第三镂空区112，第一遮挡区111至少部分围绕第三镂空区112；

S103、通过第二掩膜版120在第一子阴极41靠近显示面板出光面的一侧蒸镀第二子阴极42，第一子阴极41在衬底基板上的正投影与第二子阴极42在衬底基板上的正投影至少部分交叠；第二掩膜版120包括多个第二遮挡区121和多个第四镂空区122，第二遮挡区121至少部分围绕第四镂空区122。

具体地，请继续参照图23和24所示，并结合图7所示，本实施例中的显示面板的制作方法，首先提供衬底基板；其次，采用第一掩膜版110在衬底基板靠近显示面板出光面的一侧蒸镀第一子阴极41；再采用第二掩膜版120在衬底基板靠近显示面板出光面的一侧蒸镀第二子阴极42；其中，第一子阴极41与第二子阴极42在衬底基板上的正投影至少部分交叠，并且第一掩膜版110上设置有多个第三镂空区112和至少部分围绕第三镂空区112的第一遮挡区111；第二掩膜版120上设置有第四镂空区122和至少部分围绕第四镂空区122的第二遮挡区121；其中，第三镂空区112和第四镂空区122与发光区12对应，第一遮挡区111和第二遮挡区121与透光区11对应，如此，第一镂空区60和第二镂空区至少部分区域不蒸镀第一阴极40，从而能提高子显示区10的光线透过率，提高显示面板对应区域的摄像头的成像品质；此外，第一遮挡111和第二遮挡区121至少部分区域交叠，至少部分区域不交叠，不交叠的区域会形成一定的厚度，且该部分区域的厚度小于发光区12对应的第一阴极40的厚度；如此，能够形成图形化的阴极31，一方面，增强子显示区10的光线透过率；另一方面，通过调整部分膜层的厚度，进一步调整光线穿过阴极31不同位置的光程，消除子显示区10的光学衍射现象。

可选地，请继续参考图24和图25所示，第一遮挡区111至少部分与第一镂空区60对应，第二遮挡区121与第一镂空区60一一对应，第三镂空区112与发光区12一一对应；

沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第四镂空区122覆盖第三镂空区112，第一遮挡区111覆盖第二遮挡区121。

具体地，请继续参考图24和图25所示，并结合图7所示，本实施例中第一掩膜版110上的第一遮挡区111至少部分与阴极31上的第一镂空区60对应，第二掩膜版120上的第二遮挡区121与阴极31上的第一口空区重叠，也可以理解为，第一掩膜版110上第一遮挡区111所在位置不设置有第一阴极40，第二掩膜版120上第二遮挡区121所在位置不设置有第一阴极40，如此，可以增加子显示区10的光线透过率；此外，本实施例中第三镂空区112在衬底基板上的正投影位于第四镂空区122在衬底基板上的正投影的范围内，第二遮挡区121在衬底基板上的正投影位于第一遮挡区111在衬底基板上的正投影的范围内，可以理解为第一遮挡区111的面积大于第二遮挡区121的面积，使得有第二掩膜版120形成的第二子阴极42的面积大于有第一掩膜版110形成的第一子阴极41的面积，多余的第二子阴极42可以理解为补偿阴极50，可以有效调节子显示区10的光学衍射现象。

可选地，图26所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版110的一种结构示意图，图27所示为本申请实施例所提供的第二掩膜版120的一种结构示意图，请参照图26和图27所示，并结合图14所示，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第三镂空区112或第四镂空区122位于发光区12，且第三镂空区112和第四镂空区122分别对应不同的发光区12，第三镂空区112与第四镂空区122至少部分交叠。

具体地，请继续参考图26和图27所示，并结合图14所示，本实施例中，将制作第一阴极40的掩膜版分为第一掩膜版110和第二掩膜版120，其中，第一掩膜版110中的第三镂空区112与发光区12对应，第二掩膜版120的第四镂空区122与发光区12对应，可选地，第三镂空区112与第四镂空区122交替设置，使得第三镂空区112和第四镂空分别对应不同的发光区12，且第三镂空区112与第四镂空区122至少部分交叠，使形成的第一子阴极41与第二子阴极42至少部分交叠，形成电连接；如此，能够有效保证子显示区10的透过率。

可选地，图28所示为本申请实施例所提供的第三掩膜版130的一种结构示意图，请参照图28所示，并结合图26和图27所示，还包括：第三掩膜版130，第三掩膜版130包括第三遮挡区131和第五镂空区132；

沿垂直于显示面板出光面的方向，至少部分第五镂空区132覆盖发光区12。

具体地，请继续参考图26～图28所示，并结合图14所示，本实施例中，还设置有第三掩膜版130，沿垂直于显示面板出光面的方向，即第三方向D3，第三掩膜版130的第五镂空区132至少部分覆盖发光区12，由于上述实施例中发光区12只覆盖第一子阴极41或第二子阴极42，无法保证发光区12第一阴极40的厚度，因此，在发光区12上的第一子阴极41或第二子阴极42上还蒸镀有补偿阴极50，保证子显示区10第一阴极40的厚度，此外，在透光区11的部分区域还蒸镀有补偿阴极50，用于调节子显示区10的光学衍射现象。

还需要说明的是，补偿阴极50至少部分还蒸镀在第一子阴极41上，该部分第一阴极40与第二子阴极42交叠，为保障子显示区10的平坦化，第一子阴极41上还蒸镀有补偿阴极50，此时的补偿阴极50与第二子阴极42的厚度相等。

可选地，图29所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版110的一种结构示意图，图30所示为本申请实施例所提供的第一掩膜版120的一种结构示意图，请参照图29和图30所示，第一掩模版110的第一遮挡区111通过连接遮挡区固定在一起，第一掩模版110用于形成第一子阴极41，第二掩模版120用于形成第二子阴极42；其中，第三镂空区112与第四镂空区122交叉排列，其交叠区域既形成第一子阴极41，又形成第二子阴极42，且第一子阴极41和第二子阴极42交叠的区域覆盖发光区12，保证发光区12对应的第一阴极40的厚度能满足发光，并且相邻两个第四镂空区122之间的第二遮挡区121与第一遮挡区111存在交叠，交叠的区域形成第一镂空区60，第一镂空区60覆盖透明走线90，如此，能够补偿穿过透光走线90的光的光程，消除子显示区10的光学衍射现象。

通过以上各实施例可知，本申请所提供的显示面板及其制作方法、显示装置，采用子显示区阴极图形化的方式，即子显示区中的阴极包括第一阴极、补偿阴极和第一镂空区，其中，阴极并不是设置为整面阴极，具有第一镂空区，能够提高子显示区的光线透过率；此外，子显示区在发光区对应的区域设置为正常厚度的阴极，即第一阴极，以实现子显示区的发光功能；在透光区对应的区域设置为厚度较小的阴极，即透光区包括第一透光区和第二透光区，补偿阴极位于第一透光区；如此，一方面，能够提高子显示区的光线透过率，另一方面，调节子显示区中膜层的厚度，当膜层厚度的差异符合一定的条件下，进一步能够调节穿过第一阴极与补偿阴极的光线之间的光程差，能够避免膜层图形化导致的光学衍射。

上述说明示出并描述了本申请的若干优选实施例，但如前所述，应当理解本申请并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述发明构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本申请的精神和范围，则都应在本申请所附权利要求的保护范围内。

Claims (20)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：子显示区和至少部分围绕所述子显示区的主显示区，所述子显示区包括透光区和与所述透光区相邻的发光区；

阴极，位于所述子显示区的阴极包括位于子显示区的第一阴极、补偿阴极和第一镂空区；其中，沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第一阴极至少部分覆盖所述发光区，所述第一镂空区至少部分覆盖所述透光区；

所述透光区包括第一透光区和第二透光区，所述补偿阴极至少部分位于所述第一透光区；

沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述补偿阴极具有第一厚度H1，所述第一阴极具有第二厚度H2，H1<H2。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述补偿阴极连接相邻两个所述第一阴极。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括透光走线；

沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第一镂空区覆盖所述透光走线。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，由所述显示面板的出光面垂直进入到显示面板的光线经过的传播路径包括第一传播路径和第二传播路径，所述透光走线位于所述第一传播路径上；

所述第一传播路径的光程为L1，所述第二传播路径的光程为L2，其中，L1－L2＝nλ，λ为光的波长，n为大于0的正整数。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一阴极包括直接接触的第一子阴极和第二子阴极，所述第二子阴极位于所述第一子阴极靠近所述显示面板出光面的一侧。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第一子阴极与所述第二子阴极重叠；

所述补偿阴极与所述第二子阴极同层，且所述补偿阴极与所述第二子阴极连接。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第一子阴极或所述第二子阴极覆盖发光区，且所述补偿阴极至少部分覆盖所述发光区；

所述第一子阴极与所述第二子阴极至少部分交叠；所述补偿阴极至少部分覆盖所述第一子阴极与所述第子二阴极未交叠的区域。

8.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第子一阴极与所述第二子阴极至少部分交叠，且交叠区域覆盖所述发光区。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述补偿阴极至少部分与所述第二子阴极同层，且所述第一镂空区在所述显示面板出光面的正投影位于相邻两个所述补偿阴极之间。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：像素发光元件，所述子显示区的所述像素发光元件的密度小于所述主显示区的所述像素发光元件的密度；所述子显示区的像素发光元件位于所述发光区。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，还包括：与所述像素发光元件对应电连接的像素电路，所述子显示区的像素电路的密度小于所述主显示区的像素电路的密度；所述子显示区的像素电路位于所述发光区。

12.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，还包括：像素发光元件行，所述像素发光元件行包括多个像素发光元件，所述像素发光元件行沿第一方向延伸，沿第二方向排布，所述第一方向与所述第二方向相交；

在所述子显示区，相邻两个所述像素发光元件行中的所述像素发光元件交错排布。

13.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，还包括：像素发光元件列，所述像素发光元件列包括多个像素发光元件，所述像素发光元件列沿第二方向延伸，沿第一方向排布，所述第一方向与所述第二方向相交。

14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：薄膜晶体管阵列层，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体有源层和位于所述半导体有源层靠近所述显示面板出光面的一侧的无机层，所述透光走线位于所述半导体有源层；

所述无机层上设置有第一凹槽，沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第一凹槽覆盖所述透光走线。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，还包括：辅助层，所述辅助层位于所述半导体有源层远离所述显示面板出光面的一侧；

所述辅助层上设置有第二凹槽，沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第二凹槽覆盖所述透光走线。

16.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-15任一项所述的显示面板。

17.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

通过第一掩膜版在所述衬底基板靠近所述显示面板出光面的一侧蒸镀第一子阴极；所述第一掩膜版包括多个第一遮挡区和多个第三镂空区，所述第一遮挡区至少部分围绕所述第三镂空区；

通过第二掩膜版在所述第一子阴极靠近所述显示面板出光面的一侧蒸镀第二子阴极；沿垂直于显示面板出光面的方向，所述第一子阴极与所述第二子阴极至少部分交叠；所述第二掩膜版包括多个第二遮挡区和多个第四镂空区，所述第二遮挡区至少部分围绕所述第四镂空区。

18.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一遮挡区至少部分与第一镂空区对应，所述第二遮挡区与所述第一镂空区对应，所述第三镂空区与发光区对应；

沿垂直于显示面板出光面的方向，第四镂空区覆盖第三镂空区，第一遮挡区覆盖第二遮挡区。

19.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，其特征在于，沿垂直于所述显示面板出光面的方向，所述第三镂空区或所述第四镂空区位于发光区，且所述第三镂空区和所述第四镂空区分别对应不同的发光区，所述第三镂空区与所述第四镂空区至少部分交叠。

20.根据权利要求19所述的显示面板的制作方法，其特征在于，还包括：第三掩膜版，所述第三掩膜版包括第三遮挡区和第五镂空区；

沿垂直于所述显示面板出光面的方向，至少部分所述第五镂空区覆盖发光区。

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