CN111584586A - 背膜、显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

一种背膜，包括：薄膜层，薄膜层具有非弯折区以及位于非弯折区周边的弯折区，弯折区设置有多个凸起。本公开实施例还提供一种显示基板，包括：柔性基底、设置在柔性基底上的发光单元、以及如上所述的背膜，背膜设置在柔性基底远离发光单元的一侧。柔性基底具有平面显示区和位于平面显示区周边的曲面显示区；背膜的非弯折区位于平面显示区，背膜的弯折区位于曲面显示区。

Description

背膜、显示基板及显示装置

技术领域

本文涉及但不限于显示技术领域，尤指一种背膜、显示基板及显示装置。

背景技术

有机电致发光显示面板(Organic Electro Luminescent Display，OLED)凭借其低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性能，逐渐成为显示领域的主流，可以广泛应用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。其中，又以柔性OLED产品最为显著，逐步以其可以满足各种特殊结构而成为OLED显示主流。

随着柔性工艺的发展，从弯曲(Bendable)、弯折(Foldable)，逐步过渡到弹性柔性(Stretchable)。柔性可拉伸显示由于其广阔的应用空间，得到了市场的广泛关注，同时柔性可拉伸显示的发展，也面临着许多技术挑战。

发明内容

本公开提供了一种背膜、显示基板及显示装置。

一方面，本公开提供了一种背膜，包括：薄膜层，所述薄膜层具有非弯折区以及位于所述非弯折区周边的弯折区，所述弯折区设置有多个凸起。

另一方面，本公开提供了一种显示基板，包括：柔性基底、设置在所述柔性基底上的发光单元、以及如上所述的背膜，所述背膜设置在所述柔性基底远离所述发光单元的一侧；所述柔性基底具有平面显示区和位于所述平面显示区周边的曲面显示区；所述背膜的非弯折区位于所述平面显示区，所述背膜的弯折区位于所述曲面显示区。

另一方面，本公开提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本公开通过背膜上设置的凸起，可以对显示基板边缘的曲面显示区的出光方向进行调整，从而改善用户从显示基板正面观察的视觉效果和体验。

本公开的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本公开而了解。本公开的其他优点可通过在说明书以及附图中所描述的方案来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。

图1为本公开至少一实施例的背膜的结构示意图；

图2为图1中区域P的一种平面结构示例图；

图3为图1中区域P的另一种平面结构示例图；

图4为图1中A-A方向的一种剖面示例图；

图5为图1中A-A方向的另一种剖面示例图；

图6为图1中A-A方向的另一种剖面示例图；

图7为本公开至少一实施例的显示基板的结构示意图；

图8为图7中区域Q的平面结构示例图；

图9为图7中B-B方向的剖面示意图；

图10为本公开至少一实施例的显示基板的曲面显示区的出光方向的示意图。

具体实施方式

本公开描述了多个实施例，但是该描述是示例性的，而不是限制性的，并且对于本领域的普通技术人员来说显而易见的是，在本公开所描述的实施例包含的范围内可以有更多的实施例和实现方案。尽管在附图中示出了许多可能的特征组合，并在实施方式中进行了讨论，但是所公开的特征的许多其它组合方式也是可能的。除非特意加以限制的情况以外，任何实施例的任何特征或元件可以与任何其它实施例中的任何其他特征或元件结合使用，或可以替代任何其它实施例中的任何其他特征或元件。

本公开包括并设想了与本领域普通技术人员已知的特征和元件的组合。本公开已经公开的实施例、特征和元件也可以与任何常规特征或元件组合，以形成由权利要求限定的独特的方案。任何实施例的任何特征或元件也可以与来自其它方案的特征或元件组合，以形成另一个由权利要求限定的独特的方案。因此，应当理解，在本公开中示出或讨论的任何特征可以单独地或以任何适当的组合来实现。因此，除了根据所附权利要求及其等同替换所做的限制以外，实施例不受其它限制。此外，可以在所附权利要求的保护范围内进行一种或多种修改和改变。

此外，在描述具有代表性的实施例时，说明书可能已经将方法或过程呈现为特定的步骤序列。然而，在该方法或过程不依赖于本文所述步骤的特定顺序的程度上，该方法或过程不应限于所述的特定顺序的步骤。如本领域普通技术人员将理解的，其它的步骤顺序也是可能的。因此，说明书中阐述的步骤的特定顺序不应被解释为对权利要求的限制。此外，针对该方法或过程的权利要求不应限于按照所写顺序执行它们的步骤，本领域技术人员可以容易地理解，这些顺序可以变化，并且仍然保持在本公开实施例的精神和范围内。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的一个方式并不一定限定于该尺寸，附图中每个部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或科学术语为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。本公开中，“多个”可以表示两个或两个以上的数目。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

在本公开中，“连接”、“耦接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“电性的连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的授受，就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线，而且可以包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有一种或多种功能的元件等。

在本公开中，晶体管是指至少包括栅电极、漏电极以及源电极这三个端子的元件。晶体管在漏电极(漏电极端子、漏区域或漏电极)与源电极(源电极端子、源区域或源电极)之间具有沟道区域，并且电流能够流过漏电极、沟道区域以及源电极。在本公开中，沟道区域是指电流主要流过的区域。

在使用极性相反的晶体管的情况或电路工作中的电流方向变化等情况下，“源电极”及“漏电极”的功能有时互相调换。因此，在本公开中，“源电极”和“漏电极”可以互相调换。示例性地，本公开中使用的薄膜晶体管可以是低温多晶硅薄膜晶体管或氧化物(Oxide)薄膜晶体管。薄膜晶体管可以为P型晶体管，或者可以为N型晶体管。

在本公开中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态，因此，也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态，因此，也包括85°以上且95°以下的角度的状态。

在本公开中，“膜”和“层”可以相互调换。例如，有时可以将“导电层”换成为“导电膜”。与此同样，有时可以将“绝缘膜”换成为“绝缘层”。

为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了部分已知功能和已知部件的详细说明。本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

随着柔性工艺的发展，全面屏是一个重要的发展方向。其中，采用四面曲(FourEdge Curved)方式，将柔性屏四周的部分区域折向后方，从而可以实现更高的屏占比以及侧面显示等功能。然而，在实现四面曲时，由于需要将柔性屏的边缘部分折叠到背后去，边缘的曲面存在一定角度，使得边缘曲面区域的出光方向会显著偏离用户的正面观察视角方向。如此一来，用户从正面观察时，屏幕的边缘曲面区域的分辨率和亮度均不佳，影响用户体验。

本公开实施例提供一种背膜、显示基板及显示装置，利用背膜对显示基板边缘的曲面显示区的出光方向进行调整，使得显示基板边缘的曲面显示区的出光方向更接近于用户的正面观察视角方向，从而提升用户正面观察时的视觉效果和体验。

本公开实施例提供一种背膜，包括：薄膜层，薄膜层具有非弯折区以及位于非弯折区周边的弯折区，弯折区设置有多个凸起。本实施例提供的背膜在贴附至柔性基底后，可以通过凸起对显示基板边缘的曲面显示区的出光方向进行调节，使得边缘的曲面显示区的出光方向偏向用户的正面观察视角方向。

在本公开实施例中，凸起的厚度(或高度)可以指垂直于薄膜层的平面方向上远离薄膜层的表面距离薄膜层表面的高度。

在一些示例性实施方式中，靠近非弯折区的凸起的厚度可以小于远离非弯折区的凸起的厚度。在一些示例中，沿着从非弯折区到弯折区的方向上，多个凸起的厚度可以逐渐增加。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，凸起的厚度在从非弯折区到弯折区的方向上可以逐渐增加。换言之，单个凸起的表面可以为一个斜面。在一些示例中，在从非弯折区到弯折区的方向上，凸起的厚度可以由1至5微米(μm)逐步增加至5至100μm。在一些示例中，为了确保背膜贴附时的可靠性，单个凸起的最低和最高高度位置的段差可以不大于凸起平均高度的20％。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，单个凸起的厚度在从非弯折区到弯折区的方向上可以相同。换言之，单个凸起的表面可以为一个平面。

在一些示例性实施例方式中，凸起的表面与薄膜层的表面之间的夹角的取值范围可以为5至60度。换言之，单个凸起的表面形成的斜面的坡度范围可以为5至60度。在一些示例中，单个凸起的表面与薄膜层的表面之间的夹角的取值范围可以为5至45度。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，多个凸起的表面与薄膜层的表面之间的夹角大小可以相同或不同。

在一些示例中，靠近非弯折区的凸起的表面形成的斜面的坡度可以小于远离非弯折区的凸起的表面形成的斜面的坡度。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，凸起可以为围绕非弯折区的连续结构，或者，多个凸起可以形成围绕非弯折区的非连续结构。在一些示例中，凸起可以为连续结构，且凸起围绕非弯折区，例如，单个凸起在薄膜层上的正投影可以呈围绕非弯折区的环状。在一些示例中，多个凸起围绕非弯折区，多个凸起可以为非连续结构，例如多个凸起可以为块状、条状或柱状。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例中，凸起的尺寸和分布与背膜所贴附的显示基板的像素分布有关。例如，在沿着非弯折区到弯折区且垂直于弯折区的方向上，凸起的最小宽度范围可以为12至40μm。在一些示例中，凸起的宽度可以为上述最小宽度范围中任一数值的整数倍。例如，凸起的宽度可以为20μm(对应单色像素)至80μm(对应全彩像素)左右。

在一些示例性实施例中，薄膜层与凸起可以为一体成型结构。换言之，背膜可以是一体成型的。在一些示例中，凸起可以通过对薄膜层进行图案化处理形成，例如可以采用激光烧蚀、刀具冲切以及模压等方式实现。一体化成型结构的制备工艺简单，可以节约成本。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，凸起可以是薄膜层上单独形成的结构。

图1为本公开至少一实施例的背膜的示意图。如图1所示，本示例性实施例提供的背膜包括：薄膜层10，薄膜层10具有非弯折区11以及位于非弯折区11周边的弯折区12。非弯折区11向外延伸形成弯折区12。非弯折区11和弯折区12为连续区域，弯折区12位于非弯折区11的四周。

图2为图1中区域P的一种平面结构示例图。如图2所示，弯折区12设置有规则排布的多个凸起121。区域P内按列规则排布有五个凸起121。在本示例性实施例中，在薄膜层10的整个弯折区12，可以围绕非弯折区11设置有五个凸起121。每个凸起121为连续结构，凸起121在薄膜层10上的正投影围绕非弯折区11呈环状。换言之，在弯折区12内，五个凸起121分为五圈分别围绕非弯折区11。在一些示例中，沿着从非弯折区11到弯折区12且垂直于弯折区12的方向上，凸起121的宽度可以大于或等于12微米(μm)。例如，每个凸起的宽度可以为12至40μm中任一数值的整数倍。在一些示例中，相邻两个凸起121之间的距离可以不同，例如，靠近非弯折区11的相邻两个凸起之间的距离可以大于远离非弯折区11的相邻两个凸起之间的距离。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，相邻两个凸起之间的距离可以相同。

图3为图1中区域P的另一种平面结构示例图。如图3所示，弯折区12设置有规则排布的多个凸起121，形成非连续结构。区域P内按列规则排布有五列凸起，每列凸起可以包括四个凸起121，每个凸起121在薄膜层10上的正投影可以为矩形。在本示例性实施例中，在薄膜层10的整个弯折区12，可以围绕非弯折区11设置五圈凸起，且每圈凸起可以包括规则排布的平面形状为矩形的多个凸起121。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，凸起可以具有多种形状，例如块状、条状或柱状，凸起的平面形状即其在薄膜层10上的正投影的形状可以为正方形、矩形、圆形或梯形等。在一些示例中，每圈凸起中相邻两个凸起之间的距离可以相同或不同。在一些示例中，相邻两圈凸起之间的距离可以相同或不同。在一些示例中，沿着从非弯折区11到弯折区12且垂直于弯折区12的方向上，凸起121的宽度可以大于或等于12微米(μm)。例如，每个凸起的宽度可以为12至40μm中任一数值的整数倍。

图4为图1中A-A方向的一种剖面示例图。如图4所示，在弯折区12内，在从非弯折区11到弯折区12的方向上，不同凸起121的厚度可以逐渐增加，同一凸起121的厚度可以相同。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，靠近非弯折区的至少两个凸起的厚度可以相同，远离非弯折区的至少两个凸起的厚度可以相同，靠近非弯折区的凸起的厚度可以小于远离非弯折区的凸起的厚度。

图5为图1中A-A方向的另一种剖面示例图。如图5所示，在弯折区12内，在从非弯折区11到弯折区12的方向上，不同凸起121的厚度可以逐渐增加，且单个凸起121的厚度可以逐渐增加。在本示例性实施例中，不同凸起121的表面与薄膜层10的表面之间的夹角的大小可以相同。

图6为图1中A-A方向的另一种剖面示例图。如图6所示，在弯折区12内，在从非弯折区11到弯折区12的方向上，单个凸起121的厚度可以逐渐增加。在本示例性实施例中，不同凸起121的表面与薄膜层10的表面之间的夹角的大小可以不同。在一些示例中，靠近非弯折区的凸起的表面与薄膜层的表面之间的夹角可以小于远离非弯折区的凸起的表面与薄膜层的表面之间的夹角。然而，本实施例对此并不限定。

需要说明的是，图4至图6所示的剖面示例均为背膜处于非弯折状态下的剖面示意图。

在一些示例中，可以采用常规模具形成平整的背膜后，在背膜上进行图形化处理，以形成多个凸起。例如，可以采用蚀刻工艺(利用激光、O₂或O₂混合气体)对背膜进行图形化，以在背膜上形成凸起图案。

在一些示例中，可以先形成第一层平整的薄膜层，然后，再形成一层具有凸起图案的薄膜层，然后将两层薄膜层粘接在一起形成背膜。

在一些示例中，可以通过模具制备一体成型的背膜。例如，通过激光或蚀刻的方式，在模具上制备相应的开孔，开孔图形即为背膜的凸起的倒模。然后，在形成上述开孔的模具内填充背膜的原料，通过加热或紫外的方式，使背膜固化成型，再从模具中取出背膜。然而，本实施例对于背膜的制备方式并不限定。

本公开实施例还提供一种显示基板，包括：柔性基底、设置在柔性基底上的发光单元、以及设置在柔性基底远离发光单元的一侧的背膜。其中，柔性基底具有平面显示区和位于平面显示区周边的曲面显示区；背膜具有非弯折区和位于非弯折区周边的弯折区，背膜的非弯折区位于平面显示区，背膜的弯折区位于曲面显示区。背膜的弯折区的任一凸起在柔性基底上的正投影可以覆盖至少一个发光单元在柔性基底上的正投影。其中，每个发光单元可以作为一个子像素。三个出射不同颜色光(例如，红绿蓝)的发光单元或四个出射不同颜色光(例如，红绿蓝白)的发光单元可以组成一个像素单元。关于背膜的相关结构可以参照上一实施例所述，故于此不再赘述。

在一些示例性实施方式中，曲面显示区可以设置有彼此隔开的岛区、多个孔区以及连接相邻岛区的桥区。背膜的弯折区的任一凸起在柔性基底上的正投影可以覆盖至少一个岛区在柔性基底上的正投影。

在一些示例性实施方式中，在从平面显示区到曲面显示区的方向上，背膜的弯折区的凸起的列数可以大于或等于五列，且小于或等于曲面显示区的岛区的列数。

本实施例提供的显示基板通过采用设置有凸起的背膜，可以调节显示基板的平面显示区边缘的曲面显示区的出光方向，从而使得边缘的曲面显示区的出光方向可以更好地与用户对显示基板的正面观察视角配合，进而改善用户在正面观察时的视觉效果和体验。

图7为本公开至少一实施例的显示基板的结构示意图。本示例性实施例提供的显示基板包括：柔性基底、设置在柔性基底上的发光单元、以及设置在柔性基底远离发光单元一侧的背膜。如图7所示，柔性基底具有平面显示区21以及位于平面显示区21周边的曲面显示区22。平面显示区21向外延伸形成曲面显示区22。平面显示区21和曲面显示区22为连续区域，且曲面显示区22位于平面显示区21的四周。

图8为图7中区域Q的平面结构示例图。如图8所示，曲面显示区22可以设置有彼此隔开的岛区221、多个孔区223以及连接相邻岛区221的桥区222。曲面显示区22可以为可拉伸区域，图8所示可以为区域Q的拉伸状态的示意图。

在本示例性实施例中，平面显示区21可以包括规则排布的多个发光单元。

在本示例性实施例中，岛区221可以用于图像显示，孔区223可以用于在拉伸时提供变形空间，并形成透过光线的孔洞，桥区222可以用于走线和传递拉力。每个岛区221可以包括一个或多个发光单元。在一些示例中，在平行于柔性基底的平面，每个岛区221可以是矩形或正方形，本实施例对此并不限定。位于相邻桥区222之间的孔区223可以由穿透柔性基底的多个微槽或微孔组成。孔区223的宽度范围可以为10μm至500μm，本实施例不做限定。桥区222位于岛区221和孔区223之间，或者位于相邻的孔区223之间，与相邻的岛区221连接。桥区222可以为L形，或者多个L形相连的形状，如┕┙形、T型等形状。桥区222的宽度范围可以为10μm至500μm，本实施例不做限制。

如图8所示，背膜的任一凸起121在柔性基底上的正投影可以覆盖两个岛区221在柔性基底上的正投影。凸起121在柔性基底上的正投影的面积可以大于两个岛区221在柔性基底上的正投影的面积。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，背膜的任一凸起在柔性基底上的正投影可以覆盖一个岛区在柔性基底上的正投影，且一个凸起在柔性基底上的正投影的面积可以大于或等于一个岛区在柔性基底上的正投影的面积。在本示例性实施例中，背膜的弯折区的凸起的分布与曲面显示区的岛区匹配。例如，在从平面显示区到曲面显示区的方向上，排布有多个凸起用于改善曲面显示区的不同出光位置的出光方向。与曲面显示区的相同维度的出光位置匹配的凸起的大小可以保持一致，即围绕非弯折区的同一圈的凸起的尺寸可以保持一致。

在一些示例中，在从平面显示区到曲面显示区的方向上，背膜的弯折区的凸起的列数可以大于或等于五列，且小于或等于曲面显示区的岛区的列数。例如，在从平面显示区到曲面显示区的方向上，任一凸起在柔性基底上的正投影可以覆盖多列岛区在柔性基底上的正投影。

图9为图7中B-B方向的局部剖面示意图。图9所示为显示基板的曲面显示区弯曲后的局部剖面示意图。如图9所示，在垂直于柔性基底20的平面，平面显示区21和岛区221的每个发光单元可以包括在柔性基底20上叠设的驱动结构层和发光结构层。驱动结构层可以包括多个薄膜晶体管(TFT，Thin Film Transistor)组合的像素驱动电路。在一些示例中，驱动结构层可以包括：设置在阻挡层201和缓冲层202上的有源层203、覆盖有源层203的第一绝缘层204、形成在第一绝缘层204上的栅电极211、覆盖栅电极211的第二绝缘层205、形成在第二绝缘层205上的源电极212和漏电极213、以及覆盖源电极212和漏电极213的第三绝缘层206。发光结构层可以包括阳极214、像素定义层215、有机发光层216和阴极217。平面显示区21和岛区221还设置有覆盖发光结构层的封装层218，其中，封装层218可以包括层叠设置的第一无机封装层、有机封装层以及第二无机封装层。本实施例对此并不限定。在一些示例中，封装层可以为无机/有机/无机/有机/无机的五层结构。

在垂直于柔性基底20的平面，每个桥区222可以包括在柔性基底20上依次层叠设置的阻挡层201、缓冲层202和第一绝缘层204、形成在第一绝缘层204上的连接线、覆盖连接线的第二绝缘层205、形成在第二绝缘层205上的第三绝缘层206、以及形成在第三绝缘层206上的封装层218。其中，连接线可以用于实现相邻岛区221之间的信号连通，相邻岛区221之间的信号连通可以是指一个岛区221中的发光单元与相邻的另一个岛区221中的发光单元之间的信号连通。在一些示例中，连接线可以连接相邻岛区221中的栅线，或者，可以连接相邻岛区221中的数据线。

下面通过本示例性实施例的显示基板的制备过程的示例进一步说明本实施例的技术方案。本实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理，是已知成熟的制备工艺。本实施例中所说的“光刻工艺”包括涂覆膜层、掩模曝光和显影，是已知成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺，涂覆可采用已知的涂覆工艺，刻蚀可采用已知的方法，在此不做限定。

本示例性实施例的显示基板的制备过程可以包括以下步骤。

(1)在玻璃载板上涂布柔性材料，固化成膜，形成柔性基底20。在本示例性实施例中，柔性基底20的厚度范围可以为5μm至30μm。柔性基底20可以采用聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或经表面处理的聚合物软膜等材料。

(2)在柔性基底20上沉积一层阻挡薄膜，形成阻挡(Barrier)层201图案；随后在阻挡层201上沉积一层缓冲薄膜，形成缓冲(Buffer)层202图案；随后沉积一层有源层薄膜，通过构图工艺对有源层薄膜进行构图，在平面显示区21和曲面显示区22的岛区221形成设置在缓冲层202上的有源层203图案。

其中，阻挡薄膜可以采用氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)等无机材料，可以是单层，或者可以是氮化硅/氧化硅的多层结构。在本示例性实施例中，阻挡层201可以用于提高柔性基底20的抗水氧能力。

其中，缓冲薄膜可以采用氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)等无机材料，可以是单层，或者可以是氮化硅/氧化硅的多层结构。

(3)依次沉积第一绝缘薄膜和第一金属薄膜，通过构图工艺对第一金属薄膜进行构图，形成覆盖整个柔性基底20的第一绝缘层204以及设置在第一绝缘层204上的栅电极211、栅线(未示出)和多个连接线(未示出)图案。其中，连接线可以位于曲面显示区22的桥区222，栅电极211以及栅线可以位于平面显示区21和曲面显示区22的岛区221。其中，第一绝缘层204可以采用氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)等材料，可以是单层，或者可以是氮化硅/氧化硅的多层结构。第一绝缘层204还可以称为栅绝缘层。在本次构图工艺后，曲面显示区22的孔区223可以保留有第一绝缘层204。

(4)沉积第二绝缘薄膜，通过构图工艺对第二绝缘薄膜进行构图，形成第二绝缘层205图案。在平面显示区21和岛区221的第二绝缘层205上开设有第一过孔，第一过孔中的第二绝缘层205和第一绝缘层204被刻蚀掉，暴露出有源层203。在孔区223包括柔性基底20在内的所有膜层均被刻蚀掉。

其中，第二绝缘层205可以采用氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)等，且可以是单层，或者可以是氮化硅/氧化硅的多层结构。第二绝缘层205可以称为层间绝缘层。

(5)沉积第二金属薄膜，通过构图工艺对第二金属薄膜进行构图，在平面显示区21和岛区221形成源电极212、漏电极213和数据线(未示出)图案。其中，源电极212和漏电极213分别通过第一过孔与有源层203连接。这样，有源层203、栅电极211、源电极212和漏电极213可以构成驱动薄膜晶体管。驱动薄膜晶体管和其它薄膜晶体管、存储电容可以构成驱动结构层。

(6)在形成前述图案的柔性基底20上涂覆第三绝缘薄膜，通过掩膜曝光显影的光刻工艺在平面显示区21和岛区221形成第三绝缘层206图案。在平面显示区21和岛区221的第三绝缘层206具有第二过孔，露出漏电极213的表面。其中，第三绝缘层206可以采用聚酰亚胺、亚克力或聚对苯二甲酸乙二醇酯等有机材料。第三绝缘层206可以称为平坦化层(PLN)。

(7)在形成前述图案的柔性基底20上沉积透明导电薄膜，通过构图工艺对透明导电薄膜进行构图，形成阳极图案，阳极214可以通过第二过孔与漏电极213连接。其中，透明导电薄膜可以采用氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。

(8)在形成前述图案的柔性基底20上涂覆像素定义薄膜，通过光刻工艺在平面显示区21和岛区221形成像素定义层(PDL，Pixel Define Layer)215图案。平面显示区21和岛区221的像素定义层215在每个发光单元限定出暴露阳极214的开口区域。其中，像素定义薄膜可以采用聚酰亚胺、亚克力或聚对苯二甲酸乙二醇酯等材料。

(9)在形成前述图案的柔性基底20上依次形成有机发光层216和阴极217图案。其中，有机发光层216和阴极217均形成在平面显示区21和岛区221，有机发光层216形成在像素定义层215限定出的开口区域内，与阳极214连接，阴极217设置在有机发光层216和像素定义层215上。其中，有机发光层216可以包括发光层(EML)。在一些示例中，有机发光层可以包括依次设置的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，以提高电子和空穴注入发光层的效率。在一些示例中，阴极可以采用镁(Mg)、银(Ag)、铝(Al)、铜(Cu)、锂(Li)等金属材料的一种，或上述金属的合金。形成有机发光层和阴极可以采用蒸镀或喷墨打印等方式。

(10)在形成前述图案的柔性基底20的平面显示区21、岛区221和桥区222上沉积封装材料，通过构图工艺对无机材料进行构图，形成封装层218。其中，封装层18可以为无机/有机/无机的三层结构。无机材料可以采用氧化硅、氧化铝、氮化硅或氮氧化硅等，有机材料可以采用基于PET的柔性高分子材料。

(11)剥离玻璃载板，并在柔性基底20远离发光单元的一侧贴附背膜1，形成本示例性实施例的显示基板。其中，背膜1的制备方式如上述实施例所述，故于此不再赘述。

在本示例性实施例中，如图9所示，背膜1的凸起121与曲面显示区域22的岛区221匹配。每个凸起121可以用于调整至少一个岛区221的出光方向，以改善入射到正面观察时用户的光线，使得岛区221的出光方向偏向平面显示区的出光方向。通过调整多个凸起的斜面角度和排布规律，可以调节曲面显示区22内的发光单元的倾斜角度，从而调节整个曲面显示区22的出光方向。

图10为本公开至少一实施例的显示基板的曲面显示区的出光方向的示意图。图10所示为显示基板边缘的曲面显示区的剖面方向的出光示意图。如图10所示，边缘曲线所示为曲面显示区的弯曲方向。用户的正面观察视角方向为显示基板的平面显示区的垂直法线方向(即显示基板的主要出光方向)。显示基板边缘的曲面显示区由于存在一定弯曲角度，曲面显示区的出光方向会偏离用户的正面观察视角方向。如图10所示，在本示例性实施例中，通过背板上的凸起可以对曲面显示区的发光单元的出光方向进行适度调整，使得曲面显示区的出光方向偏向平面显示区的垂直法线方向，从而改善用户在正面观察时的视觉效果和体验。由于曲面显示区的出光方向还会受到曲面显示区的弯曲角度影响，因此，还可以通过控制曲面显示区的拉伸程度来调整曲面显示区的弯曲角度，以配合背板的凸起一并对曲面显示区的出光方向进行调节。

在一些示例中，在沿着平面显示区21到曲面显示区22的方向上，背膜1的凸起121的宽度可以为200μm。在背膜1的贴附精度为20μm时，可以保证凸起121和岛区的221准确对位。在一些示例中，显示基板的曲面显示区22的宽度范围可以为15至20毫米(mm)，可以在曲面显示区22设置多个宽度为200μm的凸起121，从而可以通过多个凸起121实现逐步调节显示基板边缘的曲面显示区22的出光方向。

本示例性实施例提供的显示基板，可以通过设置有凸起的背膜来调节平面显示区边缘的曲面显示区的出光方向，还可以通过曲面显示区的拉伸程度来控制曲面显示区的弯曲角度，以配合凸起更好地调节曲面显示区的出光方向。本示例性实施例的显示基板，可以使得曲面显示区的出光方向更好地配合用户的正面观察视角，提升用户在正面观察时的视觉效果和体验。而且，本示例性实施例的显示基板的曲面显示区的出光方向的调节方式易于控制、成本较低，适于量产。

本示例性实施例所示结构及其制备过程仅仅是一种示例性说明。在一些示例中，可以根据实际需要变更相应结构以及增加或减少构图工艺。例如，平面显示区与曲面显示区的边界位置可以制备多个坝(Dam)以便于实现弯曲；显示基板可以是顶发射结构，或者可以是底发射结构；薄膜晶体管可以是顶栅结构或底栅结构；薄膜晶体管可以是单栅结构或双栅结构；薄膜晶体管可以是非晶硅(a-Si)薄膜晶体管、低温多晶硅(LTPS)薄膜晶体管或氧化物(Oxide)薄膜晶体管。再如，驱动结构层和发光结构层中还可以设置其它电极、引线和结构膜层，本实施例在此不做限定。

另外，本示例性实施例的显示基板的制备工艺可以利用已有成熟的制备设备即可实现，对现有工艺改进较小，能够很好地与现有制备工艺兼容，具有工艺实现简单、生产效率高、生产成本低和良品率高等优点，具有良好的应用前景。

本公开实施例还提供一种显示装置，包括前述实施例的显示基板。显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，也可以为具有虚拟现实(VR，Virtual Reality)、增强现实(AR，AugmentedReality)和三维(3D，Three-Dimension)显示功能的产品或部件。本实施例对此并不限定。

在本公开实施例的描述中，术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。

虽然本公开所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本公开而采用的实施方式，并非用以限定本公开。任何本公开所属领域内的技术人员，在不脱离本公开所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本公开的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种背膜，其特征在于，包括：薄膜层，所述薄膜层具有非弯折区以及位于所述非弯折区周边的弯折区，所述弯折区设置有多个凸起。

2.根据权利要求1所述的背膜，其特征在于，靠近所述非弯折区的凸起的厚度小于远离所述非弯折区的凸起的厚度，所述凸起的厚度为垂直于所述薄膜层的平面方向上远离所述薄膜层的表面距离所述薄膜层表面的高度。

3.根据权利要求1所述的背膜，其特征在于，所述凸起的厚度在从所述非弯折区到弯折区的方向上逐渐增加。

4.根据权利要求3所述的背膜，其特征在于，所述凸起的表面与所述薄膜层的表面之间的夹角的取值范围为5至60度。

5.根据权利要求1所述的背膜，其特征在于，所述凸起为围绕所述非弯折区的连续结构，或者，多个凸起形成围绕所述非弯折区的非连续结构。

6.根据权利要求1所述的背膜，其特征在于，所述薄膜层和所述凸起为一体成型结构。

7.一种显示基板，其特征在于，包括：柔性基底、设置在所述柔性基底上的发光单元、以及如权利要求1至6中任一项所述的背膜，所述背膜设置在所述柔性基底远离所述发光单元的一侧；所述柔性基底具有平面显示区和位于所述平面显示区周边的曲面显示区；所述背膜的非弯折区位于所述平面显示区，所述背膜的弯折区位于所述曲面显示区。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述曲面显示区设置有彼此隔开的岛区、多个孔区以及连接相邻岛区的桥区；所述背膜的弯折区的任一凸起在所述柔性基底上的正投影覆盖至少一个岛区在所述柔性基底上的正投影。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，在从所述平面显示区到曲面显示区的方向上，所述背膜的弯折区的凸起的列数大于或等于五列，且小于或等于所述曲面显示区的岛区的列数。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求7至9中任一项所述的显示基板。

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