CN109722629A - 一种掩膜板、阴极制作方法及oled显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置，涉及显示装置技术领域，能够解决现有的OLED显示装置的阴极覆盖率太高而导致对光线的透过率低的问题。所述掩膜板用于制作OLED显示装置的阴极，所述掩膜板包括：第一掩膜板，第一掩膜板上开设有多个第一开口，多个第一开口与OLED显示装置的多个子像素一一对应；每个第一开口在OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区；第二掩膜板，第二掩膜板上开设有多个条状的第二开口，多个第二开口形成的图案可将多个第一开口形成的图案连通。本发明用于OLED显示装置的阴极制作。

Description

一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置

技术领域

本发明涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置。

背景技术

随着科技的快速发展，智能手机越来越普及。为了追求更好的视觉体验，人们对手机显示面板不断地提出更高的要求。目前市面上大多触屏智能手机的正面整合了听筒、摄像头等设备，摄像头一般采用开孔方式设置在屏幕顶端，这样设置摄像头的区域就不能进行屏幕显示，因而造成屏幕不能得到有效利用。

为了改进这一情况，人们开始尝试将摄像头放在屏幕下方，将屏幕显示分为正常显示区域和低显示区域，用于人脸识别的红外摄像头就放置在屏幕低显示区域的下方。然而，尽管低显示区域分辨率低，像素排布稀疏，一部分红外线可以从像素间隙透过，但是发光器件的其余膜层依然会对红外线造成遮挡，尤其是发光器件的阴极，会严重影响红外线的透过率，进而影响红外摄像头的信息采集效果。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置，能够解决现有的OLED显示装置的阴极覆盖率太高而导致对光线的透过率低的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供一种掩膜板，用于制作OLED显示装置的阴极，包括：第一掩膜板，所述第一掩膜板上开设有多个第一开口，多个所述第一开口与所述OLED显示装置的多个子像素一一对应；每个所述第一开口在所述OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区；第二掩膜板，所述第二掩膜板上开设有多个条状的第二开口，多个所述第二开口形成的图案可将多个所述第一开口形成的图案连通。

可选的，所述第一开口的尺寸大于与其对应的子像素的发光区尺寸。

可选的，所述第一开口的形状和与其对应的子像素的形状一致。

可选的，所述第一开口的形状为四边形、六边形、八边形和圆形中的任意一种。

可选的，多个所述第二开口形成的图案可将多个所述第一开口形成的图案两两连通。

可选的，所述第二开口形成的图案的两端连接在相邻两个所述第一开口形成的图案的边缘区域上；所述边缘区域为所述第一开口形成的图案中超出与其对应的子像素的发光区的区域。

可选的，所述第一掩膜板和所述第二掩膜板均为精细金属掩膜板。

另一方面，本发明实施例提供一种阴极制作方法，所述阴极通过上述任意一种所述的掩膜板来制作；所述方法包括：利用所述第一掩膜板在衬底上沉积导电材料，以形成多个阴极图形；利用所述第二掩膜板在形成有多个所述阴极图形的衬底上沉积导电材料，以形成连通的所述阴极。

再一方面，本发明实施例提供一种OLED显示装置，包括利用上述所述的阴极制作方法制作的阴极，所述阴极位于OLED显示装置的低显示区域。

可选的，所述OLED显示装置包括多个像素，所述像素为RGB Real排布；同一行像素包含的多个子像素中，红色子像素和蓝色子像素间隔排布成一行，绿色子像素位于红色子像素和蓝色子像素中间的下方位置。

本发明实施例提供的掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置，所述掩膜板用于制作OLED显示装置的阴极，所述掩膜板包括：第一掩膜板，第一掩膜板上开设有多个第一开口，多个第一开口与OLED显示装置的多个子像素一一对应；每个第一开口在OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区；第二掩膜板，第二掩膜板上开设有多个条状的第二开口，多个第二开口形成的图案可将多个第一开口形成的图案连通。相较于现有技术，本发明实施例通过提供两种特定图案的掩膜板，在制作OLED显示装置的阴极时进行两次蒸镀，即首先利用第一掩膜板蒸镀导电材料以形成多个独立的阴极图形，相邻两个阴极图形之间存在间隙；再利用第二掩膜板蒸镀导电材料将多个独立的阴极图形连接在一起，形成一种特殊形状的阴极。由于该阴极的覆盖率并非100％，因而光线可以从阴极的非覆盖区域透过。因此，利用本发明实施例提供的掩膜板制作的阴极能够在保证发光器件正常发光的前提下，减少阴极的覆盖率，从而提高显示屏对光线的透过率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的第一掩膜板结构示意图；

图2为本发明实施例提供的第二掩膜板结构示意图一；

图3为本发明实施例提供的利用第一掩膜板和第二掩膜板进行两次蒸镀后的图案示意图一；

图4为本发明实施例提供的阴极结构示意图一；

图5为本发明实施例提供的利用第二掩膜板形成的图案来连接利用第一掩膜板形成的图案的示意图；

图6为本发明实施例提供的第二掩膜板结构示意图二；

图7为本发明实施例提供的利用第一掩膜板和第二掩膜板进行两次蒸镀后的图案示意图二；

图8为本发明实施例提供的阴极结构示意图二；

图9为本发明实施例提供的第二掩膜板结构示意图三；

图10为本发明实施例提供的利用第一掩膜板和第二掩膜板进行两次蒸镀后的图案示意图三；

图11为本发明实施例提供的阴极结构示意图三；

图12为本发明实施例提供的OLED显示装置的像素排布示意图；

图13为本发明实施例提供的阴极制作方法流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种掩膜板，如图1至图12所示，用于制作OLED显示装置的阴极，包括：第一掩膜板10，第一掩膜板10上开设有多个第一开口11，多个第一开口11与OLED显示装置的多个子像素一一对应；每个第一开口11在OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区30；第二掩膜板20，第二掩膜板20上开设有多个条状的第二开口21，多个第二开口21形成的图案可将多个第一开口11形成的图案连通。其中，第一掩膜板10和第二掩膜板20均为精细金属掩膜板。

本发明实施例对于第一开口11的具体形状、具体尺寸等均不作限定，示例的，第一开口11的形状可以为四边形、六边形、八边形和圆形中的任意一种。

为了保证使用第一开口11形成的阴极图形，能够在后续与阳极的共同作用下驱动子像素的发光区30正常发光，单个阴极图形的尺寸要大于或等于与其对应的子像素的发光区30的尺寸，因而第一开口11的尺寸要大于或等于子像素的发光区30的尺寸，即每个第一开口11在OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区30。

本发明实施例对于第二开口21的设置数量、尺寸等均不作限定，本领域技术人员可以根据实际情况进行设定，只要利用第二掩膜板20的第二开口21形成的图案能够将利用第一掩膜板10的第一开口11形成的所有阴极图形连通即可。

这样一来，相较于现有技术，本发明实施例通过提供两种特定图案的掩膜板，在制作OLED显示装置的阴极时进行两次蒸镀，即首先利用第一掩膜板蒸镀导电材料以形成多个独立的阴极图形，相邻两个阴极图形之间存在间隙；再利用第二掩膜板蒸镀导电材料将多个独立的阴极图形连接在一起，形成一种特殊形状的阴极。由于该阴极的覆盖率并非100％，因而光线可以从阴极的非覆盖区域透过。因此，利用本发明实施例提供的掩膜板制作的阴极能够在保证发光器件正常发光的前提下，减少阴极的覆盖率，从而提高显示屏对光线的透过率。

为了尽可能减少阴极覆盖率，提高显示屏对光线的透过率，在实际应用中，参考图5和图12所示，可以设置第一开口11的形状和与其对应的子像素的形状一致。

参考图2、图6和图9所示，第二掩膜板20的形状有多种，本发明实施例对此不做限定。在实际应用中，设置多个第二开口21形成的图案可将多个第一开口11形成的图案两两连通，这样使得所有第一开口11形成的阴极图案不止一条连通路径，通过多个第二开口21制作的搭桥图案可以形成多条连通路径将第一开口11形成的图案连通，这样保证了所有阴极图案连通的可靠性。图3、图7和图10分别示出了采用不同形状的第二掩膜板20与图1的第一掩膜板10搭配进行两次蒸镀所形成的图案，其中采用第一掩膜板10的第一开口11蒸镀形成了图案41，采用第二掩膜板20的第二开口蒸镀形成了图案42；图4、图8和图11分别是对应形成的阴极40。

在本发明的一些实施例中，参考图1和图5所示，第一开口11的尺寸大于与其对应的子像素的发光区30的尺寸。这样可以保证利用第一开口11形成的图案41能够很好的驱动与其对应的子像素的发光区30正常发光。另外，参考图5所示，设置第一开口11的尺寸大于与其对应的子像素的发光区30的尺寸，即使得利用第一开口11形成的图案41的尺寸大于与其对应的子像素的发光区30的尺寸，这样利用第一开口11形成的图案41就存在有超出与其对应的子像素的发光区30的边缘区域，将第二开口21形成的图案42的两端连接在相邻两个第一开口11形成的图案41的边缘区域上，这样不会增加单个子像素的阴极厚度，也避免影响子像素的发光区30的正常发光。

本发明另一实施例提供一种阴极制作方法，所述阴极通过上述任意一种所述的掩膜板来制作；如图13所示，所述方法包括：

步骤131、利用第一掩膜板在衬底上沉积导电材料，以形成多个阴极图形。

步骤132、利用第二掩膜板在形成有多个阴极图形的衬底上沉积导电材料，以形成连通的阴极。

其中，在衬底上沉积导电材料的方式有多种，本发明实施例对此不做限定。在实际应用中，可以采用蒸镀的方式在衬底上沉积导电材料。

本发明实施例通过提供两种特定图案的掩膜板，在制作OLED显示装置的阴极时进行两次蒸镀，即首先利用第一掩膜板蒸镀导电材料以形成多个独立的阴极图形，相邻两个阴极图形之间存在间隙；再利用第二掩膜板蒸镀导电材料将多个独立的阴极图形连接在一起，形成一种特殊形状的阴极。由于该阴极的覆盖率并非100％，因而光线可以从阴极的非覆盖区域透过。因此，利用本发明实施例提供的掩膜板制作的阴极能够在保证发光器件正常发光的前提下，减少阴极的覆盖率，从而提高阴极对光线的透过率。

本发明再一实施例提供一种OLED显示装置，包括利用上述所述的阴极制作方法制作的阴极，所述阴极位于OLED显示装置的低显示区域。参考图12所示，所述OLED显示装置包括多个像素，所述像素为RGB Real排布，即每个像素均独立的包含红绿蓝三个子像素；同一行像素包含的多个子像素中，红色子像素31和蓝色子像素32间隔排布成一行，绿色子像素33位于红色子像素31和蓝色子像素32中间的下方位置。由于人眼对绿光的敏感度最强，因而将绿色子像素33均匀稀疏排布，可以提高屏幕显示效果的均匀性。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，用于制作OLED显示装置的阴极，其特征在于，包括：

第一掩膜板，所述第一掩膜板上开设有多个第一开口，多个所述第一开口与所述OLED显示装置的多个子像素一一对应；每个所述第一开口在所述OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区；

第二掩膜板，所述第二掩膜板上开设有多个条状的第二开口，多个所述第二开口形成的图案可将多个所述第一开口形成的图案连通。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口的尺寸大于与其对应的子像素的发光区尺寸。

3.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口的形状和与其对应的子像素的形状一致。

4.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口的形状为四边形、六边形、八边形和圆形中的任意一种。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，多个所述第二开口形成的图案可将多个所述第一开口形成的图案两两连通。

6.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第二开口形成的图案的两端连接在相邻两个所述第一开口形成的图案的边缘区域上；所述边缘区域为所述第一开口形成的图案中超出与其对应的子像素的发光区的区域。

7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板和所述第二掩膜板均为精细金属掩膜板。

8.一种阴极制作方法，其特征在于，所述阴极通过权利要求1至7中任意一项所述的掩膜板来制作；所述方法包括：

利用所述第一掩膜板在衬底上沉积导电材料，以形成多个阴极图形；

利用所述第二掩膜板在形成有多个所述阴极图形的衬底上沉积导电材料，以形成连通的所述阴极。

9.一种OLED显示装置，其特征在于，包括利用权利要求8所述的阴极制作方法制作的阴极，所述阴极位于OLED显示装置的低显示区域。

10.根据权利要求9所述的OLED显示装置，其特征在于，所述OLED显示装置包括多个像素，所述像素为RGB Real排布；同一行像素包含的多个子像素中，红色子像素和蓝色子像素间隔排布成一行，绿色子像素位于红色子像素和蓝色子像素中间的下方位置。