CN109947303A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及触控技术领域，公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板包括：下衬层和位于下衬层上的触控电极；该显示面板还包括像素定义层，像素定义层位于下衬层上并且覆盖触控电极。通过上述方式，本发明能够改善显示面板的显示效果。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

目前随着智能手机等电子产品的普及，追求超薄、精度高、灵敏度高、可弯折等效果已成为未来显示面板行业发展的趋势。而采用金属网格的触控显示装置可以满足上述要求。但伴随而来的是，上述触控显示装置中的金属网格存在可见的风险；并且，光线经过金属网格会发生衍射，产生摩尔纹路等光学问题，对触控显示装置的显示效果造成不良影响。

发明内容

有鉴于此，本发明主要解决的技术问题是提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，能够改善显示面板的显示效果。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，该显示面板包括：下衬层和位于下衬层上的触控电极；该显示面板还包括像素定义层，像素定义层位于下衬层上并且覆盖触控电极。

在本发明的一实施例中，下衬层包括阳极层，部分触控电极位于阳极层上。

在本发明的一实施例中，像素定义层用于定义出多个像素开口，阳极层包括多个阳极块，各像素开口分别对应一阳极块且暴露对应的阳极块的部分区域，部分触控电极位于像素开口未暴露的阳极块部分。

在本发明的一实施例中，显示面板还包括第一绝缘层，第一绝缘层至少设置于位于阳极块上的触控电极与阳极块之间。

在本发明的一实施例中，触控电极包括沿行方向延伸的第一触控电极，和沿列方向延伸的第二触控电极；第一绝缘层包括沿行方向和列方向延伸的部分，第一触控电极和第二触控电极位于第一绝缘层上。

在本发明的一实施例中，第一触控电极和第二触控电极同层设置，存在交汇处，并且第二触控电极在其与第一触控电极的交汇处隔断；显示面板至少在第二触控电极的隔断处包括架桥线，架桥线两端分别搭接至第二触控电极相互隔断的两部分，架桥线设置于触控电极靠近下衬层的一侧或位于触控电极的上方。

在本发明的一实施例中，第一触控电极和第二触控电极分层设置。

在本发明的一实施例中，触控电极的线宽为3～5μm。

为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种显示装置，该显示装置包括驱动电路以及如上述实施例所阐述的显示面板，驱动电路耦接显示面板，用于驱动显示面板实现其显示功能。

为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种显示面板的制备方法，该制备方法包括：形成下衬层；在下衬层上形成触控电极；在下衬层上形成像素定义层；其中，像素定义层覆盖触控电极。

本发明的有益效果是：区别于现有技术，本发明提供一种显示面板。该显示面板包括下衬层及其上的触控电极。显示面板还包括像素定义层，该像素定义层位于下衬层上，并且覆盖下衬层上的触控电极。由于触控电极被像素定义层覆盖，使得触控电极不可见；同时显示面板的发光器件所输出的光线不经过触控电极，能够避免光线衍射而产生摩尔纹路，从而改善显示面板的显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本发明显示面板一实施例的结构示意图；

图2是图1所示显示面板A-A方向的剖面结构示意图；

图3是本发明显示面板另一实施例的结构示意图；

图4是本发明显示面板的制备方法一实施例的流程示意图；

图5是本发明显示装置一实施例的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

为解决现有技术中显示面板的显示效果较差的技术问题，本发明的一实施例提供一种显示面板，该显示面板包括：下衬层和位于下衬层上的触控电极；该显示面板还包括像素定义层，像素定义层位于下衬层上并且覆盖触控电极。以下进行详细阐述。

请参阅图1-3，图1是本发明显示面板一实施例的结构示意图，图2是图1所示显示面板A-A方向的剖面结构示意图，图3是本发明显示面板另一实施例的结构示意图。

本实施例所阐述的触控电极可以应用金属网格(Metal Mesh)电容触控技术。触控电极密布于显示面板中，形成规则的金属网格。但在传统的显示面板中，触控电极形成于发光器件(例如像素等)之上。当从不同角度观察显示面板时，触控电极存在可见的风险。并且，由于触控电极线宽较小，发光器件工作所输出的光线会经过触控电极而发生衍射，产生摩尔纹路等光学问题，从而影响显示面板的显示效果。

有鉴于此，本实施例提供一种显示面板，以解决传统显示面板所存在的上述技术问题。

请参阅图1，其中图1中未示出像素定义层。在本实施例中，显示面板1包括下衬层11。显示面板1中针对不同功用设计有不同的功能膜层，而下衬层11即为显示面板1中部分功能膜层(包括缓冲层、层间介质层、平坦化层等)的集合。

显示面板1还包括触控电极12，触控电极12位于下衬层11上。优选地，显示面板1包括沿行方向X和列方向Y延伸的多个触控电极12，形成规则的网格形式，也即上述金属网格(Metal Mesh)。触控电极12可以为金属材质，例如钛-铝-钛形式的三层合金等。金属网格的触控电极12具有低成本、低方阻、制程简单、良率高以及可卷曲等优势。此外，每个触控电极本身也可以为网状结构。

具体地，显示面板1上的触控电极12包括沿行方向X延伸的第一触控电极121，和沿列方向Y延伸的第二触控电极122。基于电容触摸屏的原理，第一触控电极121与第二触控电极122形成电容的两极。当使用者的手指或导电体靠近第一触控电极121和/或第二触控电极122并与之耦合，则会影响第一触控电极121与第二触控电极122所形成电容的大小，从而感测触控动作。

进一步地，由于沿行方向X延伸的第一触控电极121与沿列方向Y延伸的第二触控电极122同层设置，存在交汇处。为避免第一触控电极121、第二触控电极122在二者的交汇处短路，第二触控电极122在其与第一触控电极121的交汇处隔断，以使第二触控电极122在列方向Y上划分为多个第二子触控电极1221。

当然，此处也可是第一触控电极121在其与第二触控电极122的交汇处隔断。本实施例以第二触控电极122在其与第一触控电极121的交汇处隔断为例进行阐述，仅为论述需要，并非因此对本实施例的触控电极12布线设计造成限定。

在替代实施例中，第一触控电极和第二触控电极可以为双层走线结构，即第一触控电极和第二触控电极分层设置。可以理解的是，双层走线形式的第一触控电极和第二触控电极虽然在下衬层表面上的投影存在交叠，但二者在空间上不会连接形成短路，因此第一触控电极和第二触控电极无需在投影交叠处隔断。第一触控电极和第二触控电极之间可以通过设置绝缘层等形式实现相互隔绝，避免相互干扰。

请参阅图2。进一步地，由于第二触控电极122在其与第一触控电极121的交汇处隔断，而相互隔断的第二子触控电极1221之间需要实现电性连接，以形成完整触控信号通路。有鉴于此，显示面板1上至少在第二触控电极122的隔断处包括架桥线14，架桥线14分别搭接至相互隔断的第二触控电极122的两个第二子触控电极1221。架桥线14与第一触控电极121、第二触控电极122不同层，第二触控电极122的隔断处利用架桥线14避让第一触控电极121，以电性导通相互隔断的第二子触控电极1221的同时避免第一触控电极121与第二触控电极122在二者的交汇处短路。

更进一步地，显示面板1还包括第二绝缘层15。架桥线14、第二绝缘层15以及第二子触控电极1221依序分层设置。设置第二绝缘层15于架桥线14与第二子触控电极1221之间，使得架桥线14与第一触控电极121绝缘，避免短路。

需要说明的是，在架桥线14、第二绝缘层15以及第二子触控电极1221的分层结构中，架桥线14靠近下衬层11，第二绝缘层15、第二子触控电极1221依序层叠设置于架桥线14上。

在替代实施例中，架桥线、第二绝缘层以及第二子触控电极的分层结构可以为：第二子触控电极和第一触控电极靠近下衬层(即触控电极靠近下衬层设置)，第二绝缘层、架桥线依序层叠设置于第二子触控电极以及第一触控电极上。

在本实施例中，架桥线14与第二子触控电极1221之间的第二绝缘层15中形成有导电连接孔151。架桥线14两端分别通过一导电连接孔151电性连接一第二子触控电极1221，从而实现架桥线14桥接相互隔断的第二子触控电极1221。在形成第二子触控电极1221时，第二子触控电极1221部分沉积于导电连接孔151中，实现第二子触控电极1221与架桥线14之间的电性连接。

请参阅图1、3。在本实施例中，下衬层11包括阳极层16，部分触控电极12位于阳极层16上。阳极层16对应各个像素开口131，图案化形成有阳极块161，阳极块161与像素开口131一一对应，即一个阳极块161上形成一个像素开口131，以使各阳极块161单独向其对应的像素提供空穴，驱动像素发光。各像素开口131分别对应一阳极块161且暴露对应的阳极块161的部分区域，以在其上形成像素。部分触控电极12位于像素开口131未暴露的阳极块161部分。而剩余的部分触控电极12位于下衬层11中承载阳极层16的功能膜层(例如平坦化层)上未形成阳极层16的区域。

阳极块161包括延伸块1611，阳极块161上对应延伸块1611的部分不用于形成像素，延伸块1611位于像素定义层13中，延伸块1611与其他电路结构电性连接以传输电信号，如图1所示。延伸块1611即为上述像素开口131未暴露的阳极块161部分。触控电极12在下衬层11上排布时，与延伸块1611存在一定交叠，即部分触控电极12位于延伸块1611上。

部分的触控电极12(包括部分的第一触控电极121和部分的第二触控电极122)、架桥线14位于像素定义层13中的阳极块161上。显示面板1还包括第一绝缘层17，至少在阳极块161与其上的触控电极12或架桥线14之间设置有第一绝缘层17，以使阳极块161分别与触控电极12、架桥线14绝缘，避免短路。

在替代实施例中，第一绝缘层17与第一触控电极121、第二触控电极122对应，其包括沿行方向X以及列方向Y延伸的部分，第一触控电极121、第二触控电极122以及架桥线14形成于第一绝缘层17上。第一绝缘层17部分延伸至阳极块161上，位于阳极块161上的第一绝缘层17上形成有第一触控电极121、第二触控电极122以及架桥线14。如此一来，第一绝缘层17的图案与第一触控电极121和第二触控电极122的图案保持一致，避免单独针对触控电极12或架桥线14与阳极块161交叠的部分设计第一绝缘层17，降低了显示面板1的设计难度。

可选地，触控电极12的线宽可以为3～5μm，例如4μm等。发明人发现当触控电极12的线宽选取范围为3～5μm时，触控电极12的各方面优势更为突出。

请参阅图2-3。显示面板1还包括像素定义层13，像素定义层13位于下衬层11上。像素定义层13用于定义出下衬层11上的多个像素开口131(用于形成像素)。

像素定义层13覆盖下衬层11上的触控电极12。由于触控电极12被像素定义层13覆盖，使得触控电极12不可见，即便变换角度观察，也不存在触控电极12可见的风险。并且，显示面板1的发光器件(例如像素等)形成于像素定义层13所定义的像素开口131中，发光器件工作所产生的光线不会经过位于像素定义层13中的触控电极12，也就避免了光线经过触控电极12，发生衍射所产生的摩尔纹路等光学问题，从而改善显示面板1的显示效果。此外，像素定义层13通常为有机材料，其覆盖触控电极12，还能够对触控电极12起到绝缘保护的作用。

请参阅图4，图4是本发明显示面板的制备方法一实施例的流程示意图。以下大致阐述本发明显示面板的制备方法：

S101：形成下衬层；

在一实施例中，下衬层11为显示面板1中部分功能膜层的集合。形成下衬层11的步骤具体可以包括：在基板上形成阵列部分(包括半导体器件等)的功能膜层，并在阵列部分的功能膜层上形成阳极层16，并在阳极层16上待形成触控电极12的位置形成第一绝缘层17，从而完成下衬层11的制备。

S102：在下衬层上形成触控电极；

在一实施例中，完成下衬层11的制备后，在下衬层11上形成多个触控电极12。该多个触控电极12沿行方向X和列方向Y延伸，形成金属网格(Metal Mesh)形式的触控电路。

S103：在下衬层上形成像素定义层；

在一实施例中，完成下衬层11上的触控电极12制备后，在下衬层11表面形成像素定义层13。像素定义层13定义出像素开口131，用于形成像素，同时对触控电极12起到绝缘保护作用。像素开口131位于下衬层11表面的阳极层16上，而触控电极12位于阳极层16上除开像素开口131之外的部分。

其中，像素定义层13覆盖下衬层11表面的触控电极12，使得触控电极12不可见。同时显示面板1的发光器件所输出的光线不经过触控电极12，能够避免光线衍射而产生摩尔纹路，从而改善显示面板1的显示效果。

S104：蒸镀OLED发光材料；

在一实施例中，在像素定义层13定义出像素开口131后，即可进行制备像素的工序。其具体可以为在像素开口131中蒸镀OLED发光材料132，用于形成像素。所蒸镀的OLED发光材料132位于像素开口131中的阳极层16上，阳极层16用于向OLED发光材料132提供空穴，以驱动OLED发光材料132发光。

S105：形成阴极层以及封装层；

在一实施例中，完成蒸镀OLED发光材料132之后，需要在其上形成阴极层18，图3展示了利用本实施例所阐述的显示面板的制备方法制备而得的显示面板的局部结构的示意图。阴极层18用于向OLED发光材料132提供电子，与阳极层16配合驱动OLED发光材料132发光。之后，在阴极层18上形成封装层19，以将显示面板1内部环境与外界隔离，主要是避免外界的水、氧侵蚀显示面板1内部的电子器件。

综上所述，本发明所提供的显示面板，其像素定义层覆盖下衬层上的触控电极。由于触控电极被像素定义层覆盖，使得触控电极不可见。同时显示面板的发光器件所输出的光线不经过触控电极，能够避免光线衍射而产生摩尔纹路，从而改善显示面板的显示效果。

请参阅图5，图5是本发明显示装置一实施例的结构示意图。在本实施例中，显示装置2包括驱动电路21以及显示面板22，驱动电路21耦接显示面板22，用于驱动显示面板22实现其显示功能。需要说明的是，本实施例所阐述的显示面板22即为上述实施例中所阐述的显示面板，在此就不再赘述。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

下衬层；

触控电极，所述触控电极位于所述下衬层上；

像素定义层，所述像素定义层位于所述下衬层上并且覆盖所述触控电极。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述下衬层包括阳极层，部分所述触控电极位于所述阳极层上。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层用于定义出多个像素开口，所述阳极层包括多个阳极块，各所述像素开口分别对应一所述阳极块且暴露对应的所述阳极块的部分区域，部分所述触控电极位于所述像素开口未暴露的所述阳极块部分。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层至少设置于位于所述阳极块上的所述触控电极与所述阳极块之间。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述触控电极包括沿行方向延伸的第一触控电极，和沿列方向延伸的第二触控电极；

所述第一绝缘层包括沿所述行方向和所述列方向延伸的部分，所述第一触控电极和所述第二触控电极位于所述第一绝缘层上。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极同层设置，存在交汇处，并且所述第二触控电极在其与所述第一触控电极的交汇处隔断；

所述显示面板至少在所述第二触控电极的隔断处包括架桥线，所述架桥线两端分别搭接至所述第二触控电极相互隔断的两部分，所述架桥线设置于所述触控电极靠近所述下衬层的一侧或位于所述触控电极的上方。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极分层设置。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控电极的线宽为3～5μm。

9.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括驱动电路以及如权利要求1至8任一项所述的显示面板，所述驱动电路耦接所述显示面板，用于驱动所述显示面板实现其显示功能。

10.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

形成下衬层；

在所述下衬层上形成触控电极；

在所述下衬层上形成像素定义层；其中，所述像素定义层覆盖所述触控电极。