CN109844573A - 在近红外区和蓝光区具有高反射的光学制品 - Google Patents

在近红外区和蓝光区具有高反射的光学制品 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种光学制品，所述光学制品包括涂覆有减反射涂层的透明基材，所述减反射涂层包括至少两个具有低折射率的层、以及至少两个具有高折射率的层，具有高折射率的一个层距所述基材最近，其特征在于，所述减反射涂层的总物理厚度是等于或小于600nm，并且使得：‑在小于35°入射角下在近红外区中的平均反射系数是大于或等于20％，并且‑在小于15°的入射角下范围从420nm至450nm的波长的蓝光的平均反射系数Rm B是大于或等于7.0％。

Description

在近红外区和蓝光区具有高反射的光学制品
技术领域
本发明涉及光学制品，所述光学制品包括减反射涂层，所述减反射涂层在近红外(NIR)区(780-1400nm)和有害蓝光区(420-450nm)中都具有高反射，同时还大幅度减少可见光区(380nm至780nm)中的反射。所述光学制品可以尤其是眼科镜片，如眼镜片。
背景技术
在整个生命中，眼睛暴露于日常的太阳辐射通量。太阳辐射被地球的大气过滤，使得在海平面上，大约80％的太阳能被限制到从紫外线中的约300nm到红外线中的1100nm的窄光谱带。较长的波长主要通过大气水蒸气过滤掉，而较短的波长被臭氧层吸收。此外，入射在角膜上的太阳光的某些光谱组分在到达人类视网膜之前被部分地过滤掉。角膜和镜片两者都吸收部分红外辐射-主要是在980nm、1200nm和1430nm处的水带。玻璃体吸收大于1400nm直到10μm的光。
因此，到达视网膜的非电离辐射是所谓的电磁光谱的‘可见光组分’(380-780nm)以及一些近红外光(780-1400nm，NIR)。
然而，到达人类视网膜的可见光和红外光可以经由以下三个基本过程中的至少一个引起组织损伤：光机械(或光声)、光热(光凝)和光化学，取决于其注量率、总剂量和光谱特征。
尤其，高强度NIR会对视网膜有害。还报道了，NIR可能是干眼症和白内障的潜在原因之一。
此外，人类可见的光近似地在范围从380纳米(nm)的波长至780nm的波长的光谱上延伸。此光谱的范围从大约380nm至大约500nm的部分对应于高能量蓝光(基本上)。
紫外(UV)光是发光光谱的从380nm至100nm的部分。UVB对应于从280nm至320nm的范围，并且UVA对应于从320至380nm的范围。
许多研究(参见例如Kitchel E.，“The effects of blue light on ocularhealth[蓝光对眼睛健康的影响]”，视力受损与失明期刊(Journal of Visual Impairmentand Blindness)，第94卷，第6期，2000年；或Glazer-Hockstein等人，视网膜(Retina)，第26卷，第1期，第1-4页，2006年)指出蓝光对眼睛、并且尤其是对视网膜具有有害影响。
确实，眼睛光生物学研究(Algvere P.V.等人，“Age-Related Maculopathy andthe Impact of the Blue Light Hazard[年龄相关性黄斑病和蓝光危害的影响]”，斯堪的纳维亚眼科学学报(Acta Ophthalmo.Scand.)，第84卷，第4-15页，2006年)和临床试验(Tomany S.C.等人“，Sunlight and the 10-Year Incidence of Age-RelatedMaculopathy.The Beaver Dam Eye Study[阳光和与年龄相关的黄斑病的10年发病率-Beaver Dam眼睛研究]”，眼科学杂志(Arch Ophthalmol.)，第122卷，第750-757页，2004年)表明过长时间或过强暴露于蓝光可能引起严重的眼科疾病，诸如年龄相关性黄斑变性(ARMD)。
因此，长时间暴露于有害蓝光可能引起视网膜损伤。例如，广泛暴露(每天大于3-4个小时)于由数字设备(计算机、智能手机、平板电脑等)发射的蓝光是经历眼疲劳、视力模糊、眼干涩、和头痛的主要原因之一。
然而，此蓝光的波长范围近似地从465nm至495nm的部分促进健康，因为其参与用于调节被称为“生理节奏周期”的生物节律的机制。
因此，希望限制对潜在有害蓝光、特别是关于表示增加的风险的波长带，以及对有害NIR二者的暴露。
此外，对于透明镜片，重要的是通过通常使用减反射涂层(AR)在可见光区也具有高透射率。
目前，传统减反射涂层常常被设计并优化为在可见光区(典型地在从380nm至780nm的光谱范围内)中减少镜片表面上的反射，但没有限制近红外(NIR)区和蓝光区二者的透射率的特征。
为了根据ISO 8980-4标准被认为减反射的，涂层必须具有低于2.5％的平均光反射系数。通常，在眼科镜片的前面和/或后面上的可见光区中的平均光反射系数Rv是在1.5％至2.5％之间。
减反射涂层通常是包括干涉薄层的多层叠层，所述多层叠层通常是基于具有高折射率的介电材料和具有低折射率的介电材料的层的交替物。当沉积在透明基材上时，此类涂层的功能是减小其光反射并且因此增加其光透射。如此涂覆的基材将因此使其透射光/反射光比值增加，由此提高放置在其后面的物体的可见性。当寻求获得最大减反射效果时，那么优选的是向所述基材的两个面(前面和后面)提供这种类型的涂层。
因此，现今如何获得在可见光区中具有很低反射的有效涂层是众所周知的。
然而，难以获得以下高效涂层，所述涂层在NIR区和蓝光区中都具有高反射，同时在可见光区具有非常低的反射，尤其是在需要非常薄的减反射膜的眼科领域中。
确实，干涉多层NIR滤光片常规地具有多于40层。这些类型的叠层过厚，具有高内部应力并且具有太多层，由于机械问题和经济原因，这些叠层对于眼科镜片应用实际上是不可接受的。此外，大多数这些IR滤光片不能处理蓝光截止(blue cut)。
此外，优化NIR区范围内的反射性能通常显示不利于可见光区的减反射性能。相反地，仅优化可见光区的减反射性能不确保在NIR区中可以获得令人满意的反射特性。另一种限制(即优化有害蓝光区中的反射)的添加增加了达到预期目标的难度。
转让给Indo Optical的文件US 2015/0146161描述了多层叠层，所述多层叠层通过改编标准减反射滤光片技术反射相当大比例的红外辐射同时其保持在可见光中的减反射特性，其中残余反射中的角色散有限。所述文件中呈现的大多数的例示叠层具有4层：TiO2/SiO2/TiO2/SiO2，或5层：SiO2/TiO2/SiO2/TiO2/SiO2，或6层：TiO2/SiO2/TiO2/SiO2/TiO2/SiO2。最优选的实例是：SiO2(15nm)/TiO2(127nm)/SiO2(176nm)/TiO2(59nm)/ZrO2(50nm)/SiO2(62nm)，下文称为“商业Indo ARNIR”。
此申请中描述的减反射涂层，尤其是最优选的实例，在NIR区中非常有效(TIR-A＝72.0％，所以Rm NIR<30％)，而同时能够相对地减少可见光区中的反射(Rv 15°＝0.9％，并且Rv 60°＝4.7％)。商业Indo ARNIR镜片产品的前表面上15°入射角的蓝光平均反射系数RmB(420nm至450nm)被测量为小于3.5％，指示针对有害蓝光的差防护。只有一个实例(实例4)关注蓝光。所述AR涂层在背离基材的方向上包括：SiO2(70.6nm)/TiO2(121.7nm)/SiO2(226.0nm)/TiO2(140.1nm)并且反射约45％的具有440nm波长的光，其中Rv 15°＝4.7％。此高Rv值对于减反射涂层是不可接受的。
文件WO 2015/080160描述了一些多层AR NIR叠层(5至9层)，其包括交替的高折射率层和低折射率层，其中高折射率层包括Nb2O5、TiO2、ZrO2、Ta2O5，而低折射率层包括SiO2、A12O3、MgF2、LaF3、CaF2、AlF3。尤其，此文件披露了叠层，这些叠层包括至少一个厚的高折射率材料层(光学厚度大于195nm，给出实例ZrO2和Nb2O5)，和NIR范围(在800nm与1350nm之间)内的最大反射率。示例性叠层还可以反射蓝光(如通过BS2724英国标准测量并且通过根据JIS Z 8105的反射率的“主波长”所述的)。然而，除了实例7之外，示例性叠层非常厚(总物理厚度大于600nm)，所述实例7是对比实例并且具有较低的RNIR值(24％)。
然而，明智的是改进此文件中描述的多层式涂层。
因此，仍然需要提供新颖减反射涂层，相对于现有技术的减反射涂层，这些涂层在可见光区中具有非常好的减反射特性，而同时具有在NIR区中的高反射和在有害蓝光区中的高反射。
发明内容
因此本发明的目的是通过寻求开发一种透明的光学制品、尤其是眼科镜片如眼镜片来弥补上述缺点，所述光学制品包括呈无机或有机玻璃的基材，所述基材至少包括减反射涂层(AR涂层)，所述减反射涂层在可见光区中具有非常好的减反射性能，同时在NIR区和蓝光区二者中都具有高反射，并且这样做不影响其制造的经济和/或工业可行性。
因此本发明涉及一种光学制品、优选地眼科镜片，其包括具有前主面和后主面的透明基材，这些主面中的至少一者涂覆有减反射涂层，所述减反射涂层包括至少两个具有为<1.55的低折射率、被定义为“LI层”的层以及至少两个具有为≥1.55的高折射率、被定义为“HI层”的层，所述至少两个HI层中的一层是所述LI和HI层中距所述基材最近的层，
其特征在于，所述减反射涂层的总物理厚度是等于或小于600nm，并且使得：
-在小于35°入射角下所述减反射涂层在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR是大于或等于20％，并且
-在小于15°入射角下范围从420nm至450nm的波长的蓝光的平均反射系数Rm B具有大于或等于7.0％的第一值Rm B (<15°)。
因此，根据本发明的光学制品包括在NIR区和有害蓝光区二者中都具有高反射的高效减反射(AR)涂层。
附图说明
将通过参照附图更详细地描述本发明，其中：图1至12示出了在15°和35°的入射角θ下本申请的实例(分别根据实例1、2、4、6、8、9、13、17、20、22、25和28)中制备的一些镜片的前面表面上的反射R(％)作为UVB(280nm至315nm)、UVA(315nm至400nm)带、可见光区(380nm至780nm)、有害蓝光区(420nm-450nm)以及NIR区(780nm-1400nm)中的波长λ(nm)的函数的变化。
具体实施方式
术语“包含”(及其任何语法变化形式，例如“包含有(comprises)”和“包含了(comprising)”)、“具有”(及其任何语法变化形式，例如“有(has)”和“具有(having)”)、“含有”(及其任何语法变化形式，例如“含(contains)”和“含有了(containing)”)、以及“包括”(及其任何语法变化形式，例如“包括有(includes)”和“包括了(including)”)都是开放式连接动词。它们用于指明其所述特征、整数、步骤或组分或基团的存在，但不排除其一种或多种其他特征、整数、步骤或组分或基团的存在或加入。因此，“包含”、“具有”、“含有”或“包括”一个或多个步骤或要素的方法或方法中的步骤具备所述一个或多个步骤或要素，但不限于仅具备所述一个或多个步骤或要素。
除非另外指明，在此使用的所有关于成分、范围、反应条件等的数量的数字或表述应被理解为在所有情况下均受术语“约”修饰。
此外除非另外指明，根据本发明，对＜＜从X至Y＞＞或“在X至Y之间”的值的区间的指示意为包括X和Y的值。
在本申请中，当一个光学制品在其表面上包括一个或多个涂层时，表述“将一个层或涂层沉积到制品上”旨在是指将一个层或涂层沉积到制品的外涂层的外部(暴露的)表面上，即其距基材最远的涂层。
所述要在基材“上”或沉积到基材“上”的涂层被定义为以下涂层，所述涂层(i)放置在所述基材上方；(ii)不一定与所述基材接触，即一个或多个中间涂层可以安排在所讨论的基材与涂层之间；并且(iii)不一定完全覆盖所述基材。
在一个优选实施例中，基材上的或沉积到基材上的涂层与此基材直接接触。
当“层1位于层2之下”时，旨在是指层2比层1距所述基材更远。
如在此所使用的，基材的后(或内)面旨在是指当使用所述制品时离佩戴者的眼睛最近的面。它通常是凹面。相反，基材的前面是当使用所述制品时离佩戴者的眼睛最远的面。它通常是凸面。
此外，根据本发明，“入射角(符号θ)”是由入射在眼科镜片表面上的光线与所述表面的法线在入射点处形成的角度。光线是例如发光的光源，诸如像在国际比色CIE L*a*b*中定义的标准光源D65。总体上，入射角从0°(正入射)到90°(掠入射)变化。入射角的常见范围是0°至75°。
将标准光源D 65和观察者(10°的角度)考虑在内，在380与780nm之间计算本发明光学制品在国际比色体系CIE L*a*b*中的比色系数。观察者是如在国际比色体系CIE L*a*b*中定义的“标准观察者”。可能制备减反射涂层而关于其色调角(“h°”)没有限制。
本发明可以用于各种各样的光学装置和元件，例如眼科元件和装置、显示元件和装置、窗户或镜子。眼科元件的非限制性实例包括矫正和非矫正镜片，包括单光或多光镜片，其可以是分段的亦或非分段的，以及用于矫正、保护、或增强视力的其他元件，放大镜和防护镜片或遮目镜，比如在眼镜(spectacles、glasses)、护目镜以及头盔中发现的。显示元件和装置的非限制性实例包括屏幕和监视器。窗户的非限制性实例包括汽车和飞机的透明体、滤光片、遮光板、和光学开关。本发明的光学制品优选是镜片或镜片毛坯，并且更优选地是眼科镜片或镜片毛坯。可以使用本发明的方法涂覆光学制品的凸主侧(前侧)、凹主侧(后侧)、或两侧。
总而言之，根据本发明的光学制品的减反射涂层(将称为“减反射涂层”)可沉积到任何基材上，并且优选地沉积到有机镜片基材(例如热塑性或热固性塑料材料)上。
热塑性材料可以选自，例如：聚酰胺；聚酰亚胺；聚砜；聚碳酸酯及其共聚物；聚(对苯二甲酸乙二酯)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
热固性材料可以选自，例如：环烯烃共聚物如乙烯/降冰片烯或乙烯/环戊二烯共聚物；直链或支链脂族或芳族多元醇的碳酸烯丙酯的均聚物和共聚物，例如二乙二醇双(碳酸烯丙酯)的均聚物(CR)；可以衍生自双酚A的(甲基)丙烯酸及其酯的均聚物和共聚物；硫代(甲基)丙烯酸及其酯的聚合物和共聚物，可以衍生自双酚A或邻苯二甲酸和烯丙基芳烃如苯乙烯的烯丙基酯的聚合物和共聚物，尿烷和硫代尿烷的聚合物和共聚物，环氧树脂的聚合物和共聚物，以及硫化物、二硫化物和环硫化物的聚合物和共聚物，以及其组合。
如在此所使用的，(共)聚合物旨在是指共聚物或聚合物。如在此所使用的，(甲基)丙烯酸酯旨在是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。如在此所使用的，聚碳酸酯(PC)旨在是指均聚碳酸酯或者共聚碳酸酯和嵌段共聚碳酸酯。
优选二乙二醇双(碳酸烯丙酯)的均聚物(CR)、烯丙基和(甲基)丙烯酸共聚物(具有在1.54与1.58之间的折射率)、硫代氨基甲酸乙酯的聚合物和共聚物、聚碳酸酯。
所述基材可以在沉积本发明的减反射涂层之前涂覆有一个或多个功能性涂层。惯常用于光学器件中的这些功能性涂层可以是并不限于，耐冲击底漆层、耐磨涂层和/或耐刮擦涂层、偏光涂层、光致变色涂层或着色涂层。在下文中，基材是指裸基材或此种经涂覆的基材。
在沉积减反射涂层之前，所述基材的表面通常经受物理或化学表面活化处理，以便增强减反射涂层的附着力。这种预处理通常在真空下进行。它可以是用高能和/或反应性物种例如用离子束(“离子预清理”或“IPC”)或用电子束进行的轰击、电晕放电处理、离子散裂处理、紫外线处理或真空下等离子体介导处理(通常使用氧或氩等离子体)。它还可以是酸性或碱性处理和/或基于溶剂的处理(水，过氧化氢或任何有机溶剂)。
如前所述，根据本发明的光学制品包括具有前主面和后主面的透明基材，这些主面中的至少一者涂覆有减反射涂层，所述减反射涂层包括至少两个具有为<1.55的低折射率、被定义为“LI层”的层以及至少两个具有为≥1.55的高折射率、被定义为“HI层”的层，所述至少两个HI层中的一层是所述LI和HI层中距所述基材最近的层，
其特征在于，所述减反射涂层的总物理厚度是等于或小于600nm，并且使得：
-在小于35°入射角下所述减反射涂层在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR是大于或等于20％，并且
-在小于15°入射角下范围从420nm至450nm的波长的蓝光的平均反射系数Rm B具有大于或等于7.0％的第一值Rm B (<15°)。
在此，近红外(NIR)区中的特征平均反射系数Rm NIR(780-1400nm)由下式定义：
其中R(λ)表示在波长λ下的反射系数。可以基于在相同入射角下测量的R(λ)测量任何入射角θ的Rm NIR。
蓝光(420nm-450nm)的平均反射系数Rm B通过下式定义：
其中R(λ)表示在波长λ下的反射系数。可以基于在相同入射角下测量的R(λ)测量任何入射角θ的Rm B。
申请人惊奇地发现，根据本发明的多层式减反射涂层示出低Rv与在NIR区和有害蓝光区二者中的高平均反射系数之间的良好折衷，同时具有相对薄的物理厚度(等于或小于600nm)。
确实，如下面的实例中将示出的，根据本发明的减反射涂层使得能够获得最小可达到的Rv≤0.9％和在NIR区(780nm-1400nm)中的高平均反射系数(≥20％)和在有害蓝光区(420nm-450nm)中的高反射(在15°的角度下≥7％)二者。
此外，根据本发明的多层式减反射涂层呈现具有良好的稳健性和美观外观的优势。在此，术语镜片的“稳健性”被定义为所述镜片抵抗除了由其制造过程引起的变化之外的改变的能力。例如，这些变化取决于所使用基材的类型、制造机器的设定(温度规划、适当的时间、电子枪的设定)和/或其使用模式、所述制造机器被另一个制造机器替换。
优选地，在小于35°的入射角下，减反射涂层在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR是大于或等于21％、特别是大于或等于22％、并且典型地大于或等于25％、特别是大于或等于26％、或有利地大于或等于30％。
如在此使用的，大于或等于20％的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(边界点包括在内)：21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34等。
此外，根据本发明的AR涂层削减有害蓝光是有效的。
尤其，在小于15°入射角下范围从420nm至450nm的波长的蓝光的平均反射系数Rm B具有大于或等于7.0％、优选地大于或等于8.0％、更优选地大于或等于9.0％并且典型地大于或等于12.0％的第一值Rm B (<15°)
如在此使用的，大于或等于7％的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(边界点包括在内)：7、7.5、8、8.5、9、9.5、10、10.5、11、11.5、12、12.5、13、13.5、14、14.5、15、15.5、16、16.5等。
根据本发明的另一个特征，在35°入射角下范围从420nm至450nm的波长的蓝光的平均反射系数Rm B具有第二值Rm B (35°)，其满足以下条件：Rm B (<15°)-Rm B (35°)≥5％、优选地>5％、特别是≥6％、更优选地≥7％并且典型地≥9％，例如像≥10％或≥11％。
如在此使用的，大于或等于5％的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(边界点包括在内)：5、5.5、6、6.5、7、7.5、8、8.5、9、9.5、10、10.5、11、11.5、12、12.5等。
这个特征使得能够实现对于以高入射角(35°)到达镜片背面的光的较低蓝光反射。于是，镜片佩戴者更有效地受到保护免于从其背面到达的蓝光。
如上所述，本申请中描述的多层式减反射涂层在可见光区中也非常有效。
尤其，至少对于小于35°的入射角，减反射涂层的可见光区中的平均光反射系数Rv小于或等于2.5％，优选小于或等于2.0％，更优选小于或等于1.5％，并且通常小于或等于1.0％，如小于或等于0.5％。
“平均光反射系数”，记为Rv，是如在ISO 13666:1998标准中定义的，并且根据ISO8980-4测量，即这是在380与780nm之间的整个可见光谱内的加权光谱反射平均值。Rv通常针对小于17°、典型地为15°的入射角来测量，但可以针对任何入射角来评估。
本发明的多层式减反射涂层包括由具有高折射率(HI)和低折射率(LI)的介电材料制成的至少四层的叠层。
典型地，减反射涂层中交替的HI层和LI层的总数目是大于或等于4。优选地，减反射涂层中交替的HI层和LI层的总数目是小于或等于8并且最优选地小于或等于7、6或5层。
如以上所指出的，减反射涂层包括至少两个具有低折射率(LI)的层、至少两个具有高折射率(HI)的层，所述至少两个HI层中的一层是所述LI和HI层中距所述基材最近的层。
根据本发明的实施例，所述HI层与基材直接接触，并且根据另一实施例，所述HI层不与基材直接接触，因为这一层可能涂覆有一个或多个功能涂层，如下面所描述的。
此外，通常，所述减反射涂层的距基材最远的外层是LI层。
特别地，AR涂层的距基材最远的LI层具有范围从55nm至95nm、优选地从60nm至92nm的物理厚度。
如在此使用的，所述减反射涂层的层被限定为具有大于或等于1nm的厚度。因此，当对所述减反射涂层中的层数计数时，将不考虑具有小于1nm厚度的任何层。当对减反射涂层的层数计数时，也不考虑子层(如下所述的)。
除非另有说明，否则本申请中披露的所有厚度涉及物理厚度。
HI层和LI层不需要在叠层中彼此交替，尽管根据本发明的一个实施例它们也可以交替。因此，两个HI层(或更多)可以沉积到彼此之上，以及两个LI层(或更多)也可以沉积到彼此之上。
通常，所有HI层的物理厚度的总和的范围为从190nm至265nm、优选地范围为从195nm至260nm。
根据本发明的实施例，AR涂层包括交替的高折射率和低折射率材料。根据此实施例，层数总体上等于或大于5、优选地等于或大于6并且更优选地等于6。
根据本发明的这些实施例，减反射涂层在背离基材的方向上可以包括彼此直接接触的以下层：(1)HI层/(2)LI层/(3)HI层/(4)LI层、(5)HI层/和(6)LI层。
尤其，所述减反射涂层的(2)LI层具有范围从8nm至25nm、优选地范围从10nm至20nm的物理厚度。
尤其，所述减反射涂层在背离基材的方向上可以包括：
(1)HI层，具有范围从15nm至60nm的物理厚度；
(2)LI层，具有范围从8nm至25nm的物理厚度；
(3)HI层，具有范围从80nm至120nm的物理厚度；
(4)LI层，具有范围从170nm至195nm的物理厚度；
(5)HI层，具有范围从80nm至120nm的物理厚度；以及
(6)LI层，具有范围从70nm至95nm的物理厚度。
根据此实施例的第一特征，所述减反射涂层在背离基材的方向上可以包括：
(1)HI层，具有范围从30nm至60nm的物理厚度；
(2)LI层，具有范围从8nm至20nm的物理厚度；
(3)HI层，具有范围从80nm至110nm的物理厚度；
(4)LI层，具有范围从175nm至190nm的物理厚度；
(5)HI层，具有范围从80nm至120nm的物理厚度；以及
(6)LI层，具有范围从70nm至95nm的物理厚度。
根据此实施例的第二特征，所述减反射涂层在背离基材的方向上可以包括：
(1)HI层，具有范围从15nm至25nm的物理厚度；
(2)LI层，具有范围从10nm至25nm的物理厚度；
(3)HI层，具有范围从85nm至115nm的物理厚度；
(4)LI层，具有范围从170nm至185nm的物理厚度；
(5)HI层，具有范围从85nm至95nm的物理厚度；以及
(6)LI层，具有范围从75nm至90nm的物理厚度。
根据此实施例的第三特征，所述减反射涂层在背离基材的方向上可以包括：
(1)HI层，具有范围从20nm至25nm的物理厚度；
(2)LI层，具有范围从15nm至20nm的物理厚度；
(3)HI层，具有范围从100nm至120nm的物理厚度；
(4)LI层，具有范围从175nm至187nm的物理厚度；
(5)HI层，具有范围从90nm至100nm的物理厚度；以及
(6)LI层，具有范围从75nm至85nm的物理厚度。
根据本发明的另一个实施例，AR涂层包括交替的高折射率和低折射率材料，其中至少一个HI层是由二元组(doublet)制成的，换言之，是由第二高折射率材料直接沉积在其上的第一高折射率材料的沉积制成，通常，所述第一和第二高折射率材料是不同的。根据此实施例，本发明的AR涂层包括一个或两个二元组HI层。通常，在AR涂层中由二元组制成的HI层的数目优选地等于或小于4并且典型地等于2。当然，由二元组制成的HI层在AR涂层中计数为一个HI层。
根据本发明的这些实施例，减反射涂层在背离基材的方向上可以包括彼此直接接触的以下层：(1)HI层/(2)LI层/(3)HI层/和(4)LI层。
尤其，根据此实施例，所述减反射涂层的(1)HI层、(3)HI层或(1)HI层和(3)HI层二者是二元组(双层)，所述二元组由不同金属氧化物制成，优选地由一层氧化锆(ZrO2)和一层五氧化二钽(Ta2O5)以任何顺序制成。
例如，所述减反射涂层在背离基材的方向上可以包括：
(1)HI层，具有范围从130nm至150nm的物理厚度；
(2)LI层，具有范围从180nm至205nm的物理厚度；
(3)HI层，具有范围从90nm至120nm的物理厚度；以及
(4)LI层，具有范围从60nm至90nm的物理厚度。
根据本发明的另一个实施例，AR涂层包括交替的高折射率和低折射率材料，其中至少一个HI层是由三元组(triplet)制成的，换言之，是由第二高折射率材料直接沉积在其上的第一高折射率材料的沉积制成，第三高折射率材料直接沉积在所述第二高折射率材料上。第一、第二和第三高折射率材料可以不同。在一些具体的实施例中，三元组是由中心层构成，所述中心层由第一高折射率材料制成、两侧被两个由相同的第二高折射率材料制成的层包围，所述第一和第二高折射率材料是不同的。在具体实施例中，中心层的折射率大于由相同或不同的高折射率材料制成的两个包围层的折射率。根据这些实施例，本发明的AR涂层包括一个或两个三元组HI层。通常，在AR涂层中由三元组制成的HI层的数目优选地等于或小于4并且典型地等于2。当然，如前所述，在AR涂层的交替的HI层和LI层叠层中三元组HI层计数为一个HI层。
根据本发明的另一个实施例，AR涂层包括交替的高折射率和低折射率材料，其中至少一个HI层由二元组制成并且至少一个HI层由三元组制成。
根据本发明的这些实施例，减反射涂层在背离基材的方向上可以包括彼此直接接触的以下层：(1)HI层/(2)LI层/(3)HI层/和(4)LI层。
尤其，根据此实施例，所述减反射涂层的(1)HI层、(3)HI层或(1)HI层和(3)HI层二者是由选自以下项的金属氧化物制成的三元组(三层)：氧化锆(ZrO2)、五氧化二钽(Ta2O5)、二氧化铪(HfO2)、氧化铌(Nb2O5)、以及二氧化钛(TiO2)。中心层优选地选自具有非常高折射率的材料，特别是五氧化二钽(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)和二氧化钛(TiO2)。
例如，所述减反射涂层在背离基材的方向上可以包括：
(1)HI层，具有范围从130nm至160nm的物理厚度；
(2)LI层，具有范围从140nm至215nm的物理厚度；
(3)HI层，具有范围从90nm至130nm的物理厚度；以及
(4)LI层，具有范围从60nm至90nm的物理厚度。
在本申请中，当减反射涂层的层的折射率大于或等于1.55、优选地大于或等于1.6、甚至更优选地大于或等于1.90(如1.95)、甚至更优选地大于或等于2.00(如2.14)时，其被称为具有高折射率(HI)的层。
当减反射涂层的层的折射率小于1.55、优选地小于或等于1.50、更优选小于或等于1.48时，其被称为低折射率(LI)层。所述LI层优选地具有大于1.1的折射率。
除非另外指定，否则本申请中提及的折射率是在25C、550nm波长下表达。
HI层是在本领域中众所周知的传统的高折射率层。它通常包括一种或多种金属氧化物，如但不限于氧化锆(ZrO2)、氧化铝(Al2O3)、五氧化二钽(Ta2O5)、氧化镨(Pr2O3)、钛酸镨(PrTiO3)、氧化镧(La2O3)、氧化钇(Y2O3)、氧化铌(Nb2O5)、二氧化钛(TiO2)及其混合物。优选的材料包括氧化锆(ZrO2)、五氧化二钽(Ta2O5)。任选地，HI层可以进一步包含具有低折射率的二氧化硅或其他材料，条件是它们具有如上文所指示的大于或等于1.6的折射率。根据本发明的特征，HI层不包含二氧化钛(TiO2)。
LI层也是众所周知的，并且可以包括但不限于MgF2，SiO2，二氧化硅和氧化铝的混合物，尤其是掺杂氧化铝的二氧化硅(氧化铝有助于增加减反射涂层耐热性)，或其混合物。LI层优选地是相对于层总重量包括按重量计至少80％的二氧化硅、更优选地按重量计至少90％的二氧化硅的层，并且甚至更优选地由二氧化硅层(SiO2)组成。任选地，LI层可以进一步包含具有高折射率或非常高折射率的材料，条件是产生的层的折射率小于1.6。
当使用包含SiO2与Al2O3的混合物的LI层时，所述层相对于此层中的SiO2+Al2O3总重量优选地包含按重量计从1％至10％、更优选地从1％至8％并且甚至更优选地从1％至5％的Al2O3。
例如，可以采用掺有按重量计4％或者更少的Al2O3的SiO2或者掺有8％Al2O3的SiO2。可以使用市场上可获得的SiO2/Al2O3混合物，如由优美科材料AG公司(UmicoreMaterials AG company)销售的(在550nm下，折射率n＝1.48-1.50)，或由德国默克公司(Merck KGaA company)销售的(在500nm下，折射率n＝1.48)。
通常，减反射涂层总厚度是小于或等于600nm、更优选地小于或等于550nm并且甚至更优选地小于或等于525nm。所述减反射涂层总厚度通常大于100nm、优选地大于150nm。典型地，所述减反射涂层的物理厚度范围从190至525nm。
因此，本发明提供了一种具有改进构思的减反射涂层，所述减反射涂层包括由多个层制成的相对薄的叠层，其厚度和材料已被选择，以便获得令人满意的减反射性能以及在蓝光区和NIR区中的高反射与可见光区中的低反射之间的良好折衷，同时具有稳健性特性。
在本发明的一个实施例中，减反射涂层可以沉积到子层上。应该注意，此种子层不属于所述减反射涂层。
如在此所使用的，子层或粘附层旨在是指为了改进所述涂层的机械特性诸如耐磨性和/或耐刮擦性和/或为了增强其到基材或底层涂层的粘附而使用的相对厚的涂层。
由于其相对高的厚度，子层通常不参与减反射光学活性，尤其是当它具有的折射率接近于下面的基材(通常是抗磨损和抗刮擦涂层或裸基材)的折射率时。
子层应具有足以促进减反射涂层耐磨性的厚度，但优选地未达到能够引起光吸收的程度(取决于子层性质，能够显著地减小相对透射系数τv)。其厚度通常小于300nm、更优选地小于200nm，并且通常大于90nm、更优选地大于100nm。
所述子层优选地包括基于SiO2的层，此层相对于层总重量优选地包含按重量计至少80％的二氧化硅、更优选地按重量计至少90％的二氧化硅，并且甚至更优选地由二氧化硅层组成。这种基于二氧化硅的层的厚度通常小于300nm、更优选地小于200nm，并且通常大于90nm、更优选地大于100nm。
在另一个实施例中，此基于SiO2的层是以如上文所定义的量掺有氧化铝的二氧化硅层，优选地由掺有氧化铝的二氧化硅层组成。
在具体实施例中，所述子层由SiO2层组成。
优选地将使用单层类型的子层。然而，子层可以是层压的(多层式)，尤其是当子层和下面的基材具有显著不同的折射率时。尤其当下面的基材具有高折射率，即大于或等于1.55、优选大于或等于1.57的折射率，时这适用。
在这此情况下，除了90-300nm厚的层(称为主层)之外，所述子层还可以包括优选地至多三个附加层、更优选地至多两个附加层，这些层在任选涂覆的基材与此种90-300nm厚的层(通常是基于二氧化硅的层)之间交错。这些附加层优选地是薄层，其功能旨在限制子层/底层涂层界面或子层/基材界面处的反射(视情况而定)。
除所述主层之外，多层式子层优选地包括具有高折射率并且具有小于或等于80nm、更优选地小于或等于50nm并且最优选地小于或等于30nm的厚度的层。具有高折射率的所述层直接接触具有高折射率的基材或具有高折射率的底层涂层(视情况而定)。当然，即使基材(或底层涂层)具有小于1.55的折射率，也可以使用此实施例。
作为替代方案，除主层和之前提到的具有高折射率的层之外，所述子层包括由基于SiO2的材料(即优选地包含按重量计至少80％的二氧化硅)制成的层，所述层具有小于或等于1.55、优选地小于或等于1.52、更优选地小于或等于1.50的折射率并且具有小于或等于80nm、更优选地小于或等于50nm并且甚至更优选地小于或等于30nm的厚度，所述具有高折射率的层沉积到所述层上。典型地，在这种情况下，所述子层包括按此顺序沉积到任选地涂覆的基材上的25nm厚的SiO2层、10nm厚的ZrO2或Ta2O5层和其后所述子层主层。
根据实施例，减反射涂层不沉积到如上述的子层上。
可以通过将至少一个导电层结合到存在于制品表面的叠层中来使本发明的光学制品抗静电，即不保留和/或形成大量静电荷。
玻璃排空在用一块布进行摩擦或使用任何其他程序产生静电荷(由电晕等施加的电荷…)后获得的静电荷的能力可以通过测量对于所述电荷消散需要的时间来进行量化。因此，抗静电眼镜具有约几百毫秒、优选地500ms或更少的放电时间，而对于静电眼镜而言其为约几十秒。在本申请中，放电时间根据法国申请FR 2 943 798中公开的方法测量。
如在此所使用的，“导电层”或“抗静电层”旨在指以下层：由于其存在于非抗静电基材表面(即，具有大于500ms的放电时间)，所以在将静电荷施加到其表面上后能够具有500ms或更少的放电时间的层。
导电层可以位于叠层中的不同位置，通常在减反射涂层中或与减反射涂层接触，条件是其减反射特性不受影响。导电层优选地位于减反射涂层的两个层之间，和/或与此种减反射涂层中具有高折射率的层相邻。优选地，导电层直接位于减反射涂层中具有低折射率的层下方，最优选地是减反射涂层的倒数第二层(通过直接位于减反射涂层基于二氧化硅的外层下方)。
所述导电层应该足够薄以不改变所述减反射涂层的透明度。所述导电层优选地是由导电的且高度透明的材料(通常是任选地掺杂的金属氧化物)制成。在这种情况下，其厚度优选地从1到15nm、更优选地从1到10nm变化。优选地，导电层包含任选地掺杂的金属氧化物，其选自铟、锡、锌的氧化物，及其混合物。优选氧化锡铟(In2O3:Sn，掺杂锡的氧化铟)、掺杂铝的氧化锌(ZnO:Al)、氧化铟(In2O3)以及氧化锡(SnO2)。在最优选的实施例中，导电且光学透明的层是氧化铟锡层，标记为ITO层或氧化锡层。
通常，导电层由于其低厚度而在叠层内帮助(但以有限方式)获得减反射特性并且表示在减反射涂层中具有高折射率的层。这是由导电且高度透明的材料制成的那些层如ITO层的情况。
减反射涂层不包括具有大于或等于20nm、优选地大于15nm的厚度的基于氧化铟的任何层。当多个基于氧化铟的层存在于减反射涂层中时，它们的总厚度优选地小于20nm、更优选地小于15nm。如在此所使用的，基于氧化铟的层旨在意指相对于层总重量包含按重量计至少50％的氧化铟的层。
根据优选的实施例，减反射涂层不包括具有大于或等于20nm、优选地大于15nm的厚度的包含氧化铟、氧化锡或氧化锌的任何层。当包含氧化铟、氧化锡或氧化锌的多个层存在于减反射涂层中时，它们的总厚度优选地小于20nm、更优选地小于15nm。
根据以下方法中的任一种，减反射涂层的不同层和任选的子层优选地在真空下通过化学气相沉积进行沉积：i)通过任选地离子束辅助的蒸发；ii)通过离子束溅射；iii)通过阴极溅射；iv)通过等离子辅助的化学气相沉积。在以下的参考文献“薄膜工艺(ThinFilm Processes)”和“薄膜工艺II(Thin Film Processes II)”，Vossen&Kern编辑，学术出版社(Academic Press)，1978年和1991年中分别描述了这些不同的方法。特别推荐的方法是在真空下蒸发。
优选地，减反射涂层的各层和任选子层的沉积通过真空下蒸发来进行。
总体上，所述光学制品是眼科镜片，尤其是眼镜片。
前面和后面的减反射涂层可以是相同或不同的。
在本发明的实施例中，本发明光学制品的前面和后面涂覆有上述减反射涂层。在另一个实施例中，本发明光学制品的后面涂覆有常规的减反射涂层，其具有UV范围内的平均反射系数(如WO 2012076714中所定义)Ruv≤10％，优选Ruv≤5％，与在其前面上提供的根据本发明的涂层不同。
通常，减反射涂层将沉积于其上的基材的前主面和/或后主面涂覆有耐冲击底漆层、抗磨损涂层和/或抗刮擦涂层、或用抗磨损涂层和/或抗刮擦涂层涂覆的耐冲击底漆层。
本发明的减反射涂层优选地沉积到抗磨损涂层和/或抗刮擦涂层上。所述抗磨损涂层和/或耐刮擦涂层可以是眼科镜片领域中传统地用作抗磨损涂层和/或抗刮擦涂层的任何层。
抗磨损涂层和/或耐刮擦涂层优选地是基于聚(甲基)丙烯酸酯或硅烷的硬涂层，这些硬涂层通常包括一种或多种矿物填料，所述矿物填料旨在增加涂层(一旦固化)的硬度和/或折射率。
硬质抗磨损涂层和/或耐刮擦涂层优选地是由包含至少一种烷氧基硅烷和/或其水解产物的组合物制备的，所述水解产物例如通过用盐酸溶液和任选地冷凝和/或固化催化剂水解获得。
针对本发明推荐的合适的涂层包括基于环氧硅烷水解产物的涂层，诸如在专利FR2 702 486(EP 0 614 957)、US 4 211 823、和US 5 015 523中描述的那些。
抗磨损涂层和/或耐刮擦涂层组合物可以通过浸涂或旋涂沉积到基材的主面上。然后，通过合适的方法(优选地使用加热或紫外线辐射)将其固化。
抗磨损涂层和/或耐刮擦涂层的厚度通常从2至10μm、优选地从3至5μm变化。
在沉积耐磨涂层和/或耐刮擦涂层之前，有可能将底漆涂层施用到基材上以提高最终产品中的后续层的耐冲击性和/或粘附。此涂层可以是惯常用于透明聚合物材料的制品如眼科镜片的任何耐冲击底漆层。
优选的底漆组合物是基于聚氨酯的组合物和基于乳胶(尤其是任选地含有聚酯单元的聚氨酯类型乳胶)的组合物。
此类底漆组合物可以通过浸涂或旋涂沉积到制品面上，此后在至少70℃且最高达100℃(优选地约90℃)的温度下干燥持续范围从2分钟至2小时(一般为约15分钟)的时间段，以形成在固化之后具有从0.2至2.5μm、优选地从0.5至1.5μm厚度的底漆层。
根据本发明的光学制品还可以包括形成在减反射涂层上并能够改变其表面特性的涂层，诸如疏水涂层和/或疏油涂层(防污顶涂层)。这些涂层优选地沉积到减反射涂层的外层上。通常，它们的厚度小于或等于10nm、优选地范围从1至10nm、更优选地从1至5nm。
代替疏水性涂层，可使用提供防雾特性的亲水性涂层，或当与表面活化剂关联时提供防雾特性的防雾前体涂层。此类防雾前体涂层的实例描述于专利申请WO 2011/080472中。
典型地，根据本发明的光学制品包括基材，在所述基材的后面依次地涂覆有耐冲击底漆层，抗磨损和耐刮擦层，抗UV、减反射涂层，并且涂覆有疏水和/或疏油的涂层，或者涂覆有提供防雾特性的亲水性涂层或防雾前体涂层。根据本发明的光学制品优选地是用于眼镜的眼科镜片(眼镜片)、或用于眼科镜片的毛坯。所述镜片可以是偏光镜片、光致变色镜片或太阳镜片，可能是着色或不着色，是矫正或不是矫正的。
所述光学制品的基材的前面可以依次涂覆有耐冲击底漆层、耐磨损层和/或耐刮擦层、根据本发明的减反射涂层、以及疏水性和/或疏油性涂层。
在一个实施例中，根据本发明的光学制品在可见光区不吸收或吸收不多，这在本申请的上下文中意味着其在可见光区内的透射系数τV(也称为在可见光区内的相对透射系数)是大于90％、更优选地大于95％、甚至更优选地大于96％并且最优选地大于97％。
系数τV应该如由国际标准化定义(ISO 13666:1998标准)所定义的进行理解并且根据ISO 8980-3标准进行测量。在从380nm到780nm的波长范围内对其定义。
优选地，对于小于或等于35°、优选地小于或等于30°、特别是小于或等于25°并且典型地小于或等于20°的入射角θ，多层式减反射涂层具有根据国际比色体系CIE L*a*b*为大于或等于20、优选地大于或等于25、典型地大于或等于30的色度C*。
因此，本发明的减反射涂层显示根据入射角θ的恒定的感知残余颜色变化。确实，诸位发明人观察到，根据本发明的眼科镜片具有很高的比色可靠性，即色调角h和色度C*随着时间和迭代特别地稳定(σh°≤6.8和σC*≤10.0，其中σ表示减反射涂层所有层的厚度的高斯分布的色调或色度的标准偏差)。
以下实例以更详细但非限制方式说明本发明。
实例
1.通用程序
实例中使用的光学制品包括镜片基材，所述镜片基材具有65mm直径、1.50(来自依视路公司(ESSILOR)的镜片)或1.60(来自三井公司(MITSUI)的基于MR-的镜片)的折射率，和-2,00屈光度的焦度以及1.2mm的中心厚度，在其前面和后面上涂覆有以下抗磨损且耐刮擦涂层。
将专利EP 0 614 957的实例3中披露的基于由GLYMO和DMDES构成的水解物、胶体二氧化硅和乙酰丙酮化铝的抗磨损且耐刮擦涂层(折射率等于1.47并且厚度为3.5μm)沉积在基材上。
所述抗磨损且耐刮擦涂层是通过沉积和硬化包含按重量计224份GLYMO、80.5份0.1N HCl、120份DMDES、718份在甲醇中的按重量计30％胶体二氧化硅、15份乙酰丙酮化铝以及44份乙基溶纤剂的组合物获得的。所述组合物还含有相对于所述组合物的总重量的按重量计0.1％由3M制造的表面活性剂FLUORADTM
上述抗磨损且耐刮擦涂层具有约1.5的折射率(下文中为HC1.5)并且被用于具有1.5的折射率的基材。
对于具有1.6的折射率的基材，向上述抗磨损且耐刮擦涂层中添加二氧化钛颗粒，以匹配1.6的折射率(下文中为HC1.6)。
不加热基材而通过在真空下蒸发(蒸发源：电子枪)来沉积减反射涂层的层。
沉积框架是Leybold 1104机器，所述机器配备有用于蒸发氧化物的电子枪(ESV14(8kV))，并且装备有用于初步阶段的离子枪(Commonwealth Mark II)以便使用氩离子(IPC)准备基材表面。
借助石英微量天平来控制这些层的厚度。在具有URA配件(通用反射配件)的可变入射分光光度计(variable incidence-spectrophotometer)Perkin-Elmer Lambda 850上进行光谱测量。
2.测试程序
用于制造光学制品的方法包括将基材(涂覆有所述抗磨损且耐刮擦涂层)引入真空沉积室的步骤，抽吸直至获得高真空的步骤，通过氩离子束(阳极电流：1A，阳极电压：100V，中性电流：130mA)活化基材前面、关闭离子辐射、通过连续蒸发在前面形成减反射涂层的不同层的步骤，以及最后的通风步骤。
3.结果
下文中详述了在实例1至23中获得的眼科镜片的结构特征和光学性能。在图1至10中示出所制备的一些制品在280nm与780nm之间的反射曲线图，其中入射角为15°和35°。
光学值是前面的那些。反射光的系数Rv、Rm NIR、Rm B、色度(C*)和色调(h)是对于入射角15°或35°、标准光源D65和标准观察者(角度10°)提供的。
实例1至8对应于第一实施例，其中AR涂层包括6层；实例9至12对应于第二实施例，其中AR涂层包括4层；实例13至18对应于第三实施例，其中AR涂层包括4层，距基材最近的第一HI层是二元组；实例19至23对应于第四实施例，其中AR涂层包括4层，第一和第二HI层是二元组；并且实例24至33对应于第五实施例，其中AR涂层包括4层，第一和第二HI层是三元组。
从这些实例1至8可以观察到，根据本发明的并且包括HI层与LI层的6个交替层的AR涂层能够获得在NIR区的高反射：在15°的入射角下为≥25％；在有害蓝光区的高反射：在15°的入射角下为≥7％，对于实例1至4甚至为≥12.5％；而在可见光区的反射非常低：在15°的入射角下为≤0.82％，对于实例5至7甚至为≤0.15％。
与包含氧化锆的AR涂层相比，包含五氧化二钽(实例1、2、5和6)的AR涂层还示出了在NIR区更高的反射(在15°的入射角下为≥30％)。
可以观察到，本发明的包含AR涂层(具有4个层不具有一个或多个二元组HI层(实例9至12)或具有一个二元组HI层(实例13-18)或具有两个二元组HI层(实例19至23)或具有两个三元组HI层(实例24至33))的光学制品都具有在可见光区的非常好的减反射特性(Rv<1.0％)、在NIR区的高反射(≥29.3％)、在有害蓝光区的高反射(≥7％)，对美学性能和稳健性特性没有不利影响(色调的低标准偏差：σh*和色度的低标准偏差：σC*)。
此外，在实例1至33中获得的镜片具有出色的透明性特性，良好的耐磨损性和耐刮擦性，以及对于热水浸渍处理接着表面上的机械应力的良好的耐受性。这些涂层到基材的粘着性也是非常令人满意的。

Claims (15)

1.一种光学制品，包括具有前主面和后主面的透明基材，这些主面中的至少一者涂覆有减反射涂层，所述减反射涂层包括至少两个具有为<1.55的低折射率、被定义为“LI层”的层以及至少两个具有为≥1.55的高折射率、被定义为“HI层”的层，所述至少两个HI层中的一层是所述LI和HI层中距所述基材最近的层，
其特征在于，所述减反射涂层的总物理厚度是等于或小于600nm，
并且使得：
-在小于35°入射角下所述减反射涂层在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR是大于或等于20％，并且
-在小于15°入射角下范围从420nm至450nm的波长的蓝光的平均反射系数Rm B具有大于或等于7.0％的第一值Rm B (<15°)。
2.根据权利要求1所述的光学制品，其中，至少对于小于35°的入射角，所述减反射涂层在可见光区中的平均光反射系数Rv是小于或等于2.0％、优选地小于或等于1.5％、更优选地小于或等于1.0％。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的光学制品，其中，在小于35°的入射角下，所述减反射涂层在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR是大于或等于25％、特别是大于或等于26％、典型地大于或等于30％。
4.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，减反射涂层具有的色度C*根据国际比色体系CIE L*a*b*是大于或等于20、优选地大于或等于25、典型地大于或等于30。
5.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所有HI层的物理厚度的总和的范围为从190nm至265nm、优选地范围为从195nm至260nm。
6.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，在35°的入射角下范围从420nm至450nm的波长的蓝光的平均反射系数Rm B具有第二值Rm B (35°)，其满足以下条件：Rm B (<15°)-Rm B (35°)≥5％、优选地>5％。
7.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述减反射涂层的层数是小于或等于8、优选地是小于或等于6。
8.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述减反射涂层的距所述基材最远的层是LI层，所述LI层具有范围从55nm至95nm、优选地从60nm至92nm的物理厚度。
9.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述减反射涂层在背离所述基材的方向上包括以下彼此直接接触的层：(1)HI层/(2)LI层/(3)HI层/和(4)LI层。
10.根据权利要求9所述的光学制品，其中，所述减反射涂层的所述(1)HI层、所述(3)HI层或所述(1)HI层和所述(3)HI层二者是由不同金属氧化物制成的二元组(双层)或三元组(三层)。
11.根据权利要求9或权利要求10所述的光学制品，其中，所述减反射涂层在背离所述基材的方向上包括：
HI层，具有范围从130nm至160nm的物理厚度；
LI层，具有范围从140nm至215nm的物理厚度；
HI层，具有范围从90nm至130nm的物理厚度；以及
LI层，具有范围从60nm至90nm的物理厚度。
12.根据前述权利要求1至8中任一项所述的光学制品，其中，所述减反射涂层在背离所述基材的方向上包括以下彼此直接接触的层：(1)HI层/(2)LI层/(3)HI层/(4)LI层、(5)HI层/和(6)LI层。
13.根据权利要求12所述的光学制品，其中，所述减反射涂层在背离所述基材的方向上包括：
(1)HI层，具有范围从15nm至60nm的物理厚度；
(2)LI层，具有范围从8nm至25nm的物理厚度；
(3)HI层，具有范围从80nm至120nm的物理厚度；
(4)LI层，具有范围从170nm至195nm的物理厚度；
(5)HI层，具有范围从80nm至120nm的物理厚度；以及
(6)LI层，具有范围从70nm至95nm的物理厚度。
14.根据权利要求12所述的光学制品，其中，所述减反射涂层在背离所述基材的方向上包括：
HI层，具有范围从15nm至22nm的物理厚度；
LI层，具有范围从10nm至25nm的物理厚度；
HI层，具有范围从80nm至115nm的物理厚度；
LI层，具有范围从170nm至185nm的物理厚度；
HI层，具有范围从85nm至95nm的物理厚度；以及
LI层，具有范围从75nm至90nm的物理厚度。
15.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述光学制品是眼科镜片，尤其是眼镜片。
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