CN116601531A - 在其后主面上具有多层减反射涂层的光学制品 - Google Patents

在其后主面上具有多层减反射涂层的光学制品 Download PDF

Info

Publication number
CN116601531A
CN116601531A CN202180085703.7A CN202180085703A CN116601531A CN 116601531 A CN116601531 A CN 116601531A CN 202180085703 A CN202180085703 A CN 202180085703A CN 116601531 A CN116601531 A CN 116601531A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
equal
less
layers
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202180085703.7A
Other languages
English (en)
Inventor
丁星兆
K·C·昂
A·佩拉约
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EssilorLuxottica SA
Original Assignee
Essilor International Compagnie Generale dOptique SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Essilor International Compagnie Generale dOptique SA filed Critical Essilor International Compagnie Generale dOptique SA
Publication of CN116601531A publication Critical patent/CN116601531A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers

Abstract

本发明涉及一种眼科镜片，其包括具有前主面和后主面的基材，所述后主面涂覆有多层减反射涂层，该多层减反射涂层包括至少两个具有大于或等于1.55的折射率的定义为“HI层”的层和至少两个具有小于1.55的折射率的定义为LI层的层的堆叠体，其特征在于所述多层减反射涂层是使得：‑在35°的入射角下，在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR小于或等于8％，并且10‑在35°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射系数RUV(280‑380nm)等于或小于5％。

Description

在其后主面上具有多层减反射涂层的光学制品
1.技术领域
本发明涉及一种光学制品，该光学制品包括在近红外(NIR)区(780-1400nm)中并且在UVA-和UVB-辐射范围(280-400nm)内都具有低反射、同时优选地还大大减少了可见光区(380至780nm)中的反射的减反射涂层。该光学制品尤其可以是光学镜片，优选眼科镜片，比如眼镜镜片。
2.背景技术
目前，传统的减反射涂层通常被设计和优化为减少(通常在从380至780nm的光谱范围内的)可见光区中镜片表面上的反射。
根据ISO 8980-4标准，涂层必须具有低于2.5％的平均光反射系数，才能被评定为减反射的。通常，眼科镜片的前面和/或后面上的可见光区中的平均光反射系数Rv是在1.5％至2.5％之间。
减反射涂层通常是包括干涉薄层的多层堆叠体，这些干涉薄层通常是基于具有高折射率的介电材料和具有低折射率的介电材料的层的交替。当沉积在透明基材上时，这种涂层的功能是减少其光反射并且因此增加其光透射。如此涂覆的基材因此其透射光/反射光比率将增加，从而提高置于其后方的物体的可见度。当寻求获得最大的减反射效果时，则优选为基材的两个面(前面和后面)提供这种类型的涂层。
然而，在整个生命中，眼睛暴露于日常的太阳辐射通量下。太阳辐射被地球大气层过滤，使得在海平面上约80％的太阳能受限于从紫外线中的约300nm至红外线中的1100nm的窄光谱带。较长的波长主要通过大气水蒸气过滤掉，而较短的波长被臭氧层吸收。此外，入射在角膜上的太阳光的某些光谱组分在到达人类视网膜之前被部分地过滤掉。角膜和镜片二者都吸收部分红外线辐射-主要是在980nm、1200nm、和1430nm处的水带。玻璃体吸收高于1400nm、最高达10μm的光。
因此，到达视网膜的非电离辐射是所谓的电磁波谱的‘可见光组分’(380-780nm)、UV范围(280-380nm)和近红外中的一些(780-1400nm，NIR)。
然而，到达人类视网膜的UV辐射、部分可见光和红外光可能经由以下三个基本过程中的至少一个引起组织损伤：光机械的(或光声的)、光热的(光凝的)和光化学的，取决于其注量率、总剂量和光谱特征。
尤其地，高强度NIR将对视网膜有害。还报道了，NIR可能是干眼症和白内障的潜在原因之一。
另外，还已知的是UVA带和UVB带对视网膜也特别有害。的确，UV辐射还可能导致黄斑变性、白内障、翼状胬肉、眼睑皮肤癌、和其他损伤，其最终可能导致视力丧失。
紫外(UV)光是发光光谱从380nm至100nm的部分。UVB对应于从280nm至320nm的范围并且UVA对应于从320至380nm的范围。
因此，希望限制对潜在的UVA-和UVB-辐射范围(280-400nm)和对有害的NIR二者的暴露。
此外，可见光谱的范围为从大约380nm至大约500nm的部分对应于高能量蓝光(基本上)。
许多研究(参见例如Kitchel E.,“The effects of blue light on ocularhealth[蓝光对眼睛健康的影响]”,Journal of Visual Impairment and Blindness[视力受损与失明期刊]第94卷,第6期,2000年或Glazer-Hockstein等人,Retina[视网膜],第26卷,第1期.第1-4页,2006年)指出蓝光对眼睛、并且尤其是对视网膜具有有害影响。
的确，眼睛光生物学研究(Algvere P.V.等人,“Age-Related Maculopathy andthe Impact of the Blue Light Hazard[年龄相关性黄斑病变以及蓝光危害的影响]”,Acta Ophthalmo.Scand.[斯堪的纳维亚眼科学报],第84卷,第4-15页,2006年)和临床试验(Tomany S.C.等人,“Sunlight and the 10-Year Incidence of Age-RelatedMaculopathy.The Beaver Dam Eye Study[阳光和年龄相关性黄斑病变的10年发病率.海狸坝眼睛研究]”,Arch Ophthalmol.[美国医学会眼科杂志],第122卷.第750-757页,2004年)证实过长时间或过强暴露于蓝光可能引起严重的眼科疾病，比如年龄相关性黄斑变性(ARMD)。
因此，长时间暴露于有害蓝光可能导致视网膜损伤。例如，广泛暴露(每天大于3-4个小时)于由数字设备(计算机、智能手机、平板电脑等)发射的蓝光是经历眼睛疲劳、视力模糊、干眼症、和头痛的主要原因之一。
然而，这种蓝光的波长范围近似地从465nm至495nm的部分促进健康，因为其参与用于调节被称为“昼夜节律周期”的生物节律的机制。
因此，如今如何获得在可见光区中具有非常低的反射的有效涂层是众所周知的。
然而，难以获得在NIR区中并且在UVA-和UVB-辐射范围内都具有低反射，同时还优选地在可见光区中具有非常低的反射的有效涂层，尤其是在需要非常薄的减反射膜的眼科领域中。
的确，常规地，干涉多层NIR滤光片具有多于40层。这些类型的堆叠体太厚，具有高内部应力并且具有太多层，其由于机械问题和经济原因而对于眼科镜片应用实际上是不可接受的。此外，大部分的这些IR滤光片不处理UV和/或蓝光截止(blue cut)。
另外，优化NIR区内的反射性能通常显示不利于可见光区中的减反射性能。相反地，仅优化可见光区中的减反射性能不确保可以在NIR区中获得令人满意的反射特性。
另一种限制(即优化UV中和/或有害蓝光区中的反射)的添加增加了达到预期目标的难度。
此外，对于光学镜片，比如眼科镜片，针对所有这些有危害的光(比如UV辐射、“有害蓝光”、和NIR)的保护对于来自前方方向的光来说可能不是主要问题。的确，来自佩戴者的前方并可能到达佩戴者的眼睛(正入射，0°至15°)的这种有危害的辐射的主要部分通常被眼科镜片基材和/或沉积在所述基材上的硬涂层的层吸收。
然而，如果镜片没有提供有在上述NIR区、UV带和优选地光毒性蓝光带中有效的减反射涂层，则由位于佩戴者后面的光源产生的有危害的辐射可能会在镜片后面上反射并到达佩戴者的眼睛，从而潜在地影响佩戴者的健康。应承认，可能通过镜片后面反射并因此到达佩戴者的眼睛的光线具有窄的入射角范围，例如从30°至45°(斜入射)。
对于透明镜片，基本要求也是在可见光区中的高透射率。
从现有技术已知文件US 2018/0113326。此文件涉及一种眼镜镜片，其在0°的入射角下在NIR中具有高反射率并且在35°的入射角下在NIR中具有低反射率，用于分别避免红外线辐射的前方反射和斜方反射。
尤其地，此文件的眼镜镜片包括：
-镜片基材，和
-施加到该镜片基材上的多层涂层，
其中该涂层对于以0°的入射角照射在该涂层上的在第一波长λ(NIR)处的近红外光具有至少20％，优选30％、40％、50％、60％或70％或更高的第一反射率，并且其中该涂层对于以35°的入射角照射在该涂层上的在第一波长λ(NIR)处的近红外光具有第二反射率，该第二反射率相对于该第一反射率减少了至少10％。
此外，此文件描述了添加额外的涂层，例如以便提供针对例如高能量或短波长蓝光的额外保护。
因此，建议改进此文件中描述的多层涂层。事实上，此多层涂层仅对限制在35°的入射角下的近红外光有效，而无效于有害蓝光(另一个涂层是必需的)和/或UV辐射。
文件US 2016/0003982描述了一种用于镜片的减反射背侧涂层，其中跨780-1400nm测量的涂层的IR反射系数(RIR)在30°或45°的入射角下测量不超过14％。然而，如将在以下实验部分中展示的，此文件的例示的减反射涂层并不能够在UVA-UVB-辐射范围内和在NIR区中均获得低反射，尤其是对于30°或45°的入射角。
的确，仍然需要提供一种用于光学镜片并且尤其用于光学镜片的后主面的唯一且薄的减反射涂层，与现有技术的减反射涂层相比，该唯一且薄的减反射涂层在UVA-和UVB-辐射范围内具有非常良好的减反射特性，而同时在NIR区中具有低反射。按照定义，此减反射涂层的厚度应尽可能最小并且优选等于或小于1μm、并且优选等于或小于500nm。
还仍然需要提供一种在可见光(380-780nm)中也具有非常良好的减反射特性并且能够限制对于潜在蓝光、特别是对于呈现出增加风险的波长带(380-500nm)的暴露的唯一且薄的减反射涂层。
因此，真正的挑战是设计一种具有唯一减反射涂层的新光学镜片，该减反射涂层使得能够在NIR区中以及在UVA-和UVB-辐射范围(280-400nm)内均实现非常低的反射，并且甚至更是真正的挑战的是设计一种使得能够从UV带至NIR区(例如从280nm至1400nm)实现非常低的反射的唯一且薄的减反射涂层。
3.发明内容
因此，本发明的一个目的是通过寻求开发一种光学制品、优选光学镜片比如眼镜镜片来弥补上述缺点，该光学制品包括矿物或有机玻璃的基材，该基材至少包括减反射涂层(AR涂层)。此唯一的减反射涂层同时地在可见光区具有非常良好的减反射性能、而在NIR区中以及在UVA-和UVB-辐射范围内均具有低反射，并且这样不影响其制造的经济和/或工业可行性。
因此，本发明涉及一种光学制品、优选光学镜片，其包括具有前主面和后主面的基材，至少所述后主面涂覆有多层减反射涂层，该多层减反射涂层包括至少两个具有大于或等于1.55的折射率的定义为“HI层”的层和至少两个具有小于1.55的折射率的定义为LI层的层的堆叠体，
其特征在于，所述多层减反射涂层是使得：
-在35°的入射角下，在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR小于或等于8％，并且
-在35°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射系数RUV(280-380nm)等于或小于5％。
因此，根据本发明的光学制品包括使得能够在NIR区以及在UVA-和UVB-辐射范围内均实现低反射的高效减反射(AR)涂层。的确，与现有技术相反，不必具有两个AR涂层以获得本发明的所要求保护的特征。本发明的唯一的AR涂层使得能够获得它们。
4.附图说明
将通过参考所附附图更详细地描述本发明，其中图1至图6示出分别在本申请的实例1至6中制备的镜片1至6在0°、15°和35°的入射角θ下在后表面上的反射R(％)在UVB(280至315nm)带、UVA(315至400nm)带中，在可见光区(380至780nm)中，在有害蓝光区(420-450nm)中以及在NIR区(780-1400nm)中作为波长λ(nm)的函数的变化。
5.具体实施方式
A)定义
术语“包含/包括(comprise)”(及其任何语法变化形式，比如“包含/包括(comprises)”和“包含/包括(comprising)”)、“具有(have)”(及其任何语法变化形式，比如“具有(has)”和“具有(having)”)、“含有(contain)”(及其任何语法变化形式，比如“含有(contains)”和“含有(containing)”)、以及“包含/包括(include)”(及其任何语法变化形式，比如“包含/包括(includes)”和“包含/包括(including)”)都是开放式连系动词。这些术语用于指明其所述特征、整数、步骤或组分或群组的存在，但不排除其一个或多个其他特征、整数、步骤或组分或群组的存在或加入。因此，“包含/包括(comprises)”、“具有(has)”、“含有(contains)”或“包含/包括(includes)”一个或多个步骤或要素的方法或方法中的步骤具备那一个或多个步骤或要素，但不限于仅具备那一个或多个步骤或要素。
除非另外指明，否则本文使用的所有关于成分、范围、反应条件等的数量的数字或表述应被理解为在所有情况下均受术语“约”修饰。
同样，除非另外指明，否则根据本发明对《从X至Y》或“在X至Y之间”的值的区间的指示意指包括X和Y的值。
在本申请中，当光学镜片在其表面上包括一个或多个涂层时，表述“将层或涂层沉积到制品上”旨在意指将层或涂层沉积到制品的外涂层的外部(外露)的表面上，也就是说其离基材最远的涂层上。
在基材“上”或沉积在基材“上”的涂层被定义为以下涂层：(i)定位在基材上方，(ii)不一定与基材接触，也就是说，一个或多个中间涂层可以布置在所讨论的基材与涂层之间，并且(iii)不一定完全覆盖基材。
在优选实施例中，基材上或沉积到基材上的涂层与此基材直接接触。
当“层1位于层2下方”时，旨在意指层2比层1距基材更远。
在本申请中，当减反射涂层的层的折射率大于或等于1.55、优选大于或等于1.6、甚至更优选大于或等于1.90(比如1.95)、甚至更优选大于或等于2.00(比如2.14)时，其被称为高折射率层(HI)。
当减反射涂层的层的折射率小于1.55、优选小于或等于1.50、更优选小于或等于1.48时，其被称为低折射率层(LI)。所述LI层优选地具有大于1.1的折射率。
除非另外指明，否则本申请中提及的折射率是在25℃、550nm波长处表达的。
如本文中所使用的，减反射涂层的层被定义为具有大于或等于1nm的厚度。因此，当对减反射涂层中的层数计数时，将不考虑任何厚度小于1nm的层。在对减反射涂层的层数计数时，也不考虑比如下文所述的子层。
根据本发明并且除非另外说明，否则本申请中披露的所有厚度涉及物理厚度。
如本文中所使用的，基材的后(或内)面旨在意指当使用制品时离佩戴者的眼睛最近的面。其通常是凹面。相反，基材的前面是当使用制品时离佩戴者的眼睛最远的面。其通常是凸面。
另外，根据本发明，“入射角(符号θ)”是由入射在光学镜片表面上的光线与入射点处表面的法线形成的角度。
本发明的光学镜片优选地是镜片或镜片毛坯、并且更优选或镜片毛坯。光学镜片可以在其凸面主侧(前侧)、凹面主侧(后侧)或两侧上都使用本发明的方法进行涂覆。
根据本发明，记为Rv的“平均光反射系数”是比如在ISO 13666:1998标准中定义的并且根据ISO 8980-4测量，即这是在380与780nm之间的整个可见光谱内的加权光谱反射平均值。Rv通常是针对小于17°、典型地为15°的入射角来测量的，但可以针对任何入射角来评估。
在下文，在近红外(NIR)区中的特征平均反射系数Rm NIR(780-1400nm)是通过下式定义的：
其中，R(λ)表示在波长λ处的反射系数。Rm NIR可以是基于在相同入射角下测量的R(λ)针对任何入射角θ测量的。
在本申请中，由根据ISO 13666:1998标准定义的W(λ)函数加权的并且记为RUV的在280nm与380nm之间的平均反射系数可以通过以下关系定义：
其中R(λ)表示在给定波长处的镜片光谱反射系数，并且W(λ)表示等于太阳光谱辐照度Es(λ)和效率相对光谱函数S(λ)的乘积的加权函数。
根据ISO 13666:1998标准定义了能够计算紫外线辐射透射系数的光谱函数W(λ)。由于同时考虑了太阳光谱能量Es(λ)(与UVA射线相比总体发射更少UVB射线)和光谱效率S(λ)(UVB射线比UVA射线更有害)二者，所以这使得可以表达对于佩戴者的由相对光谱效率调节的紫外线太阳辐射分布。在紫外区中那三个函数的值在下表1中给出：
表1
应注意，加权函数W(λ)在280nm与295nm之间为零或几乎为零，这意味着加权平均反射系数在此波长范围内也为零。这意味着即使反射水平在此光谱范围内是高的，也将对在280与380nm之间计算的加权平均反射系数值RUV没有影响。
根据本发明，蓝光(420-450nm)的平均反射系数Rm B由下式定义：
其中，R(λ)表示在波长λ处的反射系数。Rm B可以是基于在相同入射角下测量的R(λ)针对任何入射角θ测量的。
B)根据本发明的基材
一般而言，根据本发明的光学镜片的减反射涂层(其将被称为“减反射涂层”)，可以沉积在任何基材上，并且优选地沉积在有机镜片基材(例如热塑性或热固性塑料材料)上。
热塑性塑料可以选自，例如：聚酰胺；聚酰亚胺；聚砜；聚碳酸酯及其共聚物；聚(对苯二甲酸乙二酯)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
热固性材料可以选自，例如：环烯烃共聚物，比如乙烯/降冰片烯或乙烯/环戊二烯共聚物；直链或支链脂族或芳族多元醇的碳酸烯丙酯的均聚物和共聚物，比如二乙二醇双(碳酸烯丙酯)的均聚物(CR)；可以衍生自双酚A的(甲基)丙烯酸及其酯的均聚物和共聚物；硫代(甲基)丙烯酸及其酯的聚合物和共聚物，可以衍生自双酚A或邻苯二甲酸和烯丙基芳烃比如苯乙烯的烯丙基酯的聚合物和共聚物，尿烷和硫代尿烷的聚合物和共聚物，环氧树脂的聚合物和共聚物，以及硫化物、二硫化物和环硫化物的聚合物和共聚物，以及其组合。
如本文中所使用的，(共)聚合物旨在意指共聚物或聚合物。如本文中所使用的，(甲基)丙烯酸酯旨在意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。如本文中所使用的，聚碳酸酯(PC)旨在意指均聚碳酸酯或者共聚碳酸酯和嵌段共聚碳酸酯。
二甘醇双(烯丙基碳酸酯)(CR)的均聚物、烯丙基和(甲基)丙烯酸共聚物，其折射率在1.54与1.58之间，硫尿烷的聚合物和共聚物、聚碳酸酯是优选的。
在沉积本发明的减反射涂层之前，基材可以涂覆有一种或多种功能性涂层。惯常用于光学器件中的这些功能性涂层可以是并不限于耐冲击底漆层、耐磨损涂层和/或耐划伤涂层、偏振涂层、光致变色涂层或着色涂层。在下文中，基材意指裸基材或这种涂覆后的基材。
在沉积减反射涂层之前，通常对所述基材的表面进行物理或化学表面活化处理，以增强减反射涂层的粘附力。这种预处理通常在真空下进行。这种预处理可以是用高能和/或反应性组分、例如用离子束(“离子预清理”或“IPC”)或用电子束进行的轰击、电晕放电处理、离子散裂处理、紫外线处理或真空下等离子体介导处理(通常使用氧或氩等离子体)。这种预处理还可以是酸性或碱性处理和/或基于溶剂的处理(水、过氧化氢或任何有机溶剂)。
C)根据本发明的减反射涂层
如前所述，光学镜片包括具有前主面和后主面的基材，所述后主面涂覆有多层减反射涂层(下文“AR涂层”)，该多层减反射涂层包括至少两个具有大于或等于1.55的折射率的定义为“HI层”的层和至少两个具有小于1.55的折射率的定义为LI层的层的堆叠体，
其特征在于，所述多层减反射涂层是使得：
-在35°的入射角下，在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR小于或等于8％，并且
-在35°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射系数RUV(280-380nm)等于或小于5％。
本申请人已经出人意料地发现，根据本发明的多层减反射涂层示出了在低Rv与在NIR中的平均反射系数和平均反射系数RUV均低之间良好的折衷，同时优选地具有相对薄的物理厚度(等于或小于500nm、优选等于或小于400nm)。
的确，如将在以下实例中示出的，根据本发明的减反射涂层使得能够获得在15°的入射角下的最小可实现的Rv≤0.57％，并且同时对于45°的入射角获得在NIR区(780-1400nm)中的非常低的平均反射系数(≤7.32％)、非常低的平均反射系数RUV(280-380nm)(2.81％)和在有害蓝光区(420-450nm)中的非常低的反射(0.74％)。
另外，根据本发明的多层减反射涂层呈现出具有良好坚固性和美观外观的优点。在本文中，术语镜片的“坚固性”被定义为此镜片抵抗变化的能力，而不管其制造过程引起的变化如何。例如，这些变化取决于所使用的基材类型、制造机器的设置(温度计划、适当的时间、电子枪的设置…)和/或其使用模式、所述制造机器被另一个替换。
如本文中所使用的，在35°的入射角下小于或等于8％的Rm NIR值包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：8；7.9；7.8；7.7；7.6；7.5；7.4；7.3；7.2；7.1；7.0；6.9；6.8；6.7；6.6；6.5；6.4；6.3；6.2；6.1；6.0；5.9；5.8；5.7；5.6；5.5；5.4；5.3；5.2；5.1；5.0；4.9；4.8；4.7；4.6；4.5；等。
根据本发明的特征，在35°的入射角下，减反射涂层在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR小于或等于7％、优选6.5％。
根据本发明的另一个特征，在45°的入射角下，减反射涂层在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR小于或等于10％、优选7.5％，并且典型地小于或等于7％。
如本文中所使用的，在45°的入射角下小于或等于10％的Rm NIR值包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：10；9.9；9.8；9.7；9.6；9.5；9.4；9.3；9.2；9.1；9.0；8.9；8.8；8.7；8.6；8.5；8.4；8.3；8.2；8.1；8.0；7.9；7.8；7.7；7.6；7.5；7.4；7.3；7.2；7.1；7.0；6.9；6.8；6.7；6.6；6.5；6.4；6.3；6.2；6.1；6.0；5.9；5.8；5.7；5.6；5.5；5.4；5.3；5.2；5.1；5.0；等。
另外，根据本发明的AR涂层对限制UV辐射的反射有效。
的确，通常，在35°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的在280nm与380nm之间的平均反射系数RUV等于或小于4.0％、优选3.5％。
同样，在45°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射系数RUV(280-380nm)优选地等于或小于4％、更优选等于或小于3.5％。
如本文中所使用的，小于或等于5％的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：5；4.5；4.0；3.5；等。
此外，根据本发明的AR涂层对限制有害蓝光的反射有效。
尤其地，波长范围为从420至450nm的蓝光的平均反射系数Rm B具有在35°的入射角下等于或小于3.0％、优选2.5％，或者在45°的在入射角下等于或小于3.0％、优选等于或小于2.5％并且更优选等于或小于2％的值Rm B。
如本文中所使用的，小于或等于3％的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：3；2.5；2；1.5；1；等。
此特征使得能够对以高入射角(35°或45°)抵达到光学镜片背侧上的光实现较低的蓝光反射。然后更有效地保护镜片佩戴者免受从他的背侧抵达的蓝光。
如上所述，本申请中描述的多层减反射涂层在可见光区中也非常有效。
尤其地，对于至少小于或等于15°的入射角，减反射涂层在可见光区中的平均光反射系数Rv小于或等于1.5％、优选小于或等于1.0％、更优选小于或等于0.9％。
如本文中所使用的，小于或等于1.5％的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：1.5；1.0；0.99；0.98；0.97；0.96；0.95；0.94；0.93；0.92；0；91；0.90；0.85；0.80；0.75；0.70；0.65；0.60；0.50；等。
如前所述，本发明的多层减反射涂层包括由具有高折射率(HI)和低折射率(LI)的介电材料制成的至少四个层的堆叠体。
的确，减反射涂层包括至少两个具有低折射率(LI)的层、至少两个具有高折射率层(HI)的层。这里是一个简单的堆叠体，因为减反射涂层中的层总数大于或等于4，并且通常小于或等于12。
根据本发明的特征，减反射涂层中的层总数大于或等于5、更优选大于或等于6、典型地大于或等于7、特别是大于或等于8。
根据本发明的另一个特征，减反射涂层中的层总数小于或等于11层、更优选小于或等于10层、甚至更优选小于或等于9层、并且最优选等于或小于8层。
如本文中所使用的，减反射涂层的层被定义为具有大于或等于1nm的厚度。因此，当对减反射涂层中的层数计数时，将不考虑任何厚度小于1nm的层。在对减反射涂层的层数计数时，也不考虑比如下文所述的子层。
HI层和LI层不必在堆叠体中彼此交替，尽管根据本发明的一个实施例它们也可以交替。两个HI层(或更多)可以彼此上下沉积，以及两个LI层(或更多)也可以彼此上下沉积。
通常，HI层和LI层在根据本发明的AR涂层的堆叠体中彼此交替。
优选地，减反射涂层总厚度小于或等于600nm、更优选小于或等于550nm并且甚至更优选小于或等于400nm。减反射涂层总厚度通常大于300nm、优选大于或等于320nm。通常，所述减反射涂层的物理厚度范围为从350至390nm。
如本文中所使用的，小于或等于600nm的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：600；550；540；530；520；510；500；490；480；470；480；470；460；450；440；430；420；410；400；390；380；370；360；350；340；330；320；310；300等。
除非另外说明，否则本申请中披露的所有厚度涉及物理厚度。
根据本发明的特征，所述至少两个HI层中的一个——在下文定义为“厚HI层”——具有大于120nm的物理厚度，并且其中，其他LI层和一个或多个HI层中的每一个具有小于或等于120nm的物理厚度。
如本文中所使用的，大于或等于120nm的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：120；125；130；135；140；145；150；155；160；165；170；175；180；185；190；195；200；210；等。
优选地，所述“厚HI层”具有等于或大于130nm、特别是等于或大于150nm、优选等于或大于170nm并且典型地等于或大于180nm的物理厚度。通常，所述“厚HI层”具有等于或小于210nm、优选等于或小于200nm的物理厚度。
通常，所述“厚HI层”在远离基材的方向上处于所述多层减反射涂层的所有HI层之中的最后或倒数第二的位置。的确，所述“厚HI层”通常处于所述多层减反射涂层的所有HI层之中的最后位置(在远离基材的方向上)，但可以定位于所有HI层之中的倒数第二的位置，尤其是当AR涂层包括抗静电层时。此抗静电层将在下文进行描述。
根据本发明的特征，其余层(例如AR涂层的所有层减去所述“厚HI层”)的总厚度小于或等于230nm、优选等于或小于220nm、更优选小于或等于210nm、并且典型地小于或等于200nm。
在所述其余层之中，本发明的AR涂层包括另一HI层。尤其地，在下文定义为“薄HI层”的所述另一HI层(在所述至少两个HI层之中)具有等于或小于30nm、优选等于或小于25nm的物理厚度。
如本文中所使用的，小于或等于30nm的区间包括以下值和/或包括在这些值之间的任何区间(含极限值)：30；29；28；27；26；25；24；23；22；21；20；19；18；17；16；15；等。
尤其地，所述“薄HI层”是在远离基材的方向上在多层减反射涂层的所有HI层之中并且优选地在该多层减反射涂层的所有LI层和HI层之中离基材最近的。通常，此“薄HI层”优选地直接定位于比如以下描述的抗磨损涂层和/或抗划伤涂层上或者直接定位于基材上。
AR涂层还包括两个LI层。尤其地，所述两个LI层中的一个——在下文定义为“外层”——是在远离基材的方向上离基材最远的层。此LI“外层”通常具有范围为从50至105nm、优选范围为从60至95nm的物理厚度。
AR涂层的另一LI层通常比上述LI“外层”更薄并且在下文称为“薄LI层”。此“薄LI层”优选地具有小于或等于25nm、更优选小于或等于20nm并且特别是小于或等于15nm的厚度。此“薄LI层”在远离所述基材的方向上定位于上述厚HI层下方并且优选地与所述厚HI层直接接触。
根据本发明的特征，AR涂层可以包括与上述“LI外层”和“LI薄层”不同的另一个LI层。此第三LI层通常是在所有LI层之中(在远离基材的方向上)离基材最近的LI层。典型地，此第三层(在远离基材的方向上)直接定位于上述薄HI层上。此第三LI层有利地具有范围为从10至50nm、优选从15至40nm的物理厚度。
根据本发明的另一个特征，AR涂层可以包括与上述“厚HI层”和“薄HI层”不同的另一个HI层。此第三HI层是在远离基材的方向上在所有HI层之中的第二个HI层。典型地，此第三HI层直接定位于上述第三LI层上。有利地，此第三HI层具有范围为从25至70nm、优选范围为从30至60nm的物理厚度。
根据本发明的另一个特征，AR涂层可以包括与上述“LI外层”、“薄LI层”和“第三LI层”不同的另一个LI层。此第四LI层通常是在远离基材的方向上定位于AR涂层中在所有LI层之中的倒数第二的位置的LI层。典型地，此第四LI层(在远离基材的方向上)直接定位于上述厚HI层上。此第四LI层有利地具有范围为从10至40nm、优选从14至25nm的物理厚度。
根据本发明的另一个特征，AR涂层可以包括比如以下所述的抗静电层(又称为导电层)。通常，此抗静电层在远离基材的方向上定位于“LI外层”下方并且优选地正下方。
根据本发明的实施例，多层减反射涂层在远离基材的方向上可以包括
-“薄HI层”，其具有小于或等于30nm、优选范围为从5至30nm、更优选范围为从14至22nm的物理厚度；
-任选的“第三LI层”，其是在所有LI层之中离基材最近的，并且具有范围为从10至50nm、更优选范围为从18至40nm的物理厚度；
-任选的“第三HI层”，其是在所有HI层之中自基材的第二个HI层，具有范围为从25至70nm、更优选范围为从40至60nm的物理厚度；
-“薄LI层”，其具有小于或等于25nm、优选范围为从3至25nm、更优选范围为从5至18nm的物理厚度；
-“厚HI层”，其具有等于或大于150nm、优选范围为从150至200nm、更优选范围为从180至195nm的物理厚度；
-任选的“第四LI层”，其具有范围为从10至40nm、更优选范围为从15至25nm的物理厚度；
-任选的“导电层”，其具有范围为从3至10nm、更优选范围为从4至7nm的物理厚度；
-“LI外层”，其具有范围为从50至105nm、优选范围为从60至90nm、更优选范围为从60至93nm的物理厚度。
根据本发明，HI层是本领域众所周知的传统高折射率层。其通常包含一种或多种金属氧化物，比如但不限于氧化锆(ZrO2)、氧化铝(Al2O3)、五氧化二钽(Ta2O5)、氧化镨(Pr2O3)、钛酸镨(PrTiO3)、氧化镧(La2O3)、氧化钇(Y2O3)、氧化铌(Nb2O5)、二氧化钛(TiO2)及其混合物。优选的材料包括氧化锆(ZrO2)、五氧化二钽(Ta2O5)。任选地，HI层可以进一步含有具有低折射率的二氧化硅或其他材料，条件是它们具有如上文所指示的大于或等于1.6的折射率。根据本发明的特征，HI层不包括二氧化钛(TiO2)。
LI层也是众所周知的并且可以包括但不限于MgF2、SiO2、二氧化硅和氧化铝的混合物、尤其是掺杂氧化铝的二氧化硅(氧化铝有助于增加减反射涂层的耐热性)、或它们的混合物。LI层优选地是包含相对于层总重量按重量计至少80％的二氧化硅、更优选按重量计至少90％的二氧化硅的层，并且甚至更优选地由二氧化硅层(SiO2)组成。任选地，LI层可以进一步含有具有高折射率或非常高的折射率的材料，条件是得到的层的折射率小于1.6。
当使用包含SiO2和Al2O3的混合物的LI层时，其相对于这样层中的SiO2+Al2O3总重量优选地包含按重量计从1％至10％、更优选从1％至8％、并且甚至更优选从1％至5％的Al2O3。
例如，可以使用按重量计掺有4％或更少的Al2O3的SiO2、或者掺有8％Al2O3的SiO2。可以使用市场上可买到的SiO2/Al2O3混合物，比如优美科材料科技股份有限公司(UmicoreMaterials AG)销售的(在550nm处，折射率n＝1.48-1.50)，或默克公司(MerckKGaA)销售的/>(在500nm处，折射率n＝1.48)。
如上所述，可以通过将至少一个导电层结合到存在于制品表面上的堆叠体中来使本发明的光学镜片抗静电，也就是说不保留和/或不形成大量静电荷。
玻璃镜片在与一块布摩擦或使用任何其他程序产生静电荷(由电晕等施加的电荷)后释放静电荷的能力可以通过测量所述电荷消散所需的时间来量化。因此，抗静电玻璃镜片具有约几百毫秒、优选500ms或更少的放电时间，而静电玻璃镜片为约几十秒。在本申请中，根据法国申请FR 2 943 798中披露的方法来测量放电时间。
如本文中所使用的，“导电层”或“抗静电层”旨在意指由于其存在于非抗静电基材的表面上(即具有高于500ms的放电时间)而能够在其表面施加静电荷之后具有500ms或更短的放电时间的层。
导电层可以位于堆叠体中的不同位置，通常在减反射涂层中或与减反射涂层接触，条件是其减反射特性不受影响。导电层优选地位于减反射涂层的两个层之间，和/或与这种减反射涂层的高折射率层相邻。优选地，导电层直接位于减反射涂层的低折射率层下面，最优选地是减反射涂层的倒数第二层(直接位于减反射涂层的二氧化硅基外层下面)：例如，“LI外层”。
导电层应该足够薄以便不改变减反射涂层的透明度。导电层优选地是由导电且高度透明的材料(通常是任选地掺杂的金属氧化物)制成。在这种情况下，导电层的厚度优选地从1至15nm、更优选从1至10nm变化。优选地，导电层包含任选地掺杂的金属氧化物，该金属氧化物选自铟、锡、锌氧化物及其混合物。优选氧化铟锡(In2O3:Sn，掺杂锡的氧化铟)、掺杂铝的氧化锌(ZnO:Al)、氧化铟(In2O3)以及氧化锡(SnO2)。在最优选的实施例中，导电且光透明层是氧化铟锡层，记为ITO层或氧化锡层。
通常，导电层由于其厚度小而在堆叠体内帮助(但以有限方式)获得减反射特性并且在所述减反射涂层中典型地表示高折射率层。由导电且高度透明的材料制成的那些层(比如ITO层)就是这种情况。
减反射涂层不包括任何厚度大于或等于20nm、优选大于15nm的、基于氧化铟的层。当减反射涂层中存在多个基于氧化铟的层时，它们的总厚度优选地小于20nm、更优选小于15nm。如本文中所使用的，基于氧化铟的层旨在意指包含相对于层总重量按重量计至少50％的氧化铟的层。
根据优选实施例，减反射涂层不包括任何厚度大于或等于20nm、优选地大于15nm的、包含氧化铟、氧化锡或氧化锌的层。当减反射涂层中存在多个包含氧化铟、氧化锡或氧化锌的层时，它们的总厚度优选地小于20nm、更优选小于15nm。
因此，本发明提供了一种改进了构思的减反射涂层，其包括由层构成的相对薄的堆叠体，该堆叠体的厚度和材料已被选择以便获得令人满意的减反射性能和同时在NIR区中、UV辐射中与光毒性蓝光区中的低反射之间的良好折衷，同时具有坚固性特性和在可见光区中的低反射。的确，本发明的AR涂层在范围为从UV范围至NIR区的宽光谱内同时具有低反射。
通常，光学镜片是眼科镜片，比如眼镜镜片。前面和后面的减反射涂层可以优选地不同。
在本发明的实施例中，本发明的光学镜片的后面涂覆有上述减反射涂层。在另一个实施例中，本发明的光学镜片的前面涂覆有常规减反射涂层，该常规减反射涂层具有在UV范围内的平均反射系数(如WO2012076714中所定义)Ruv≤10％、优选Ruv≤5％，不同于根据本发明的提供在镜片后面上的减反射涂层。
在一个实施例中，根据本发明的光学镜片在可见光中不吸收或不吸收太多，这意味着，在本申请的上下文中，其在可见光范围内的透射系数τV(也称为可见光范围内的相对透射系数)大于90％、更优选大于95％、甚至更优选大于96％并且最优选大于97％。
系数τV应理解为如国际标准化定义(ISO 13666:1998标准)所定义的并且根据ISO8980-3标准进行测量。其是在从380至780nm的波长范围内定义的。
优选地，根据本发明涂覆的制品的光吸收率小于或等于1％。
在另一个实施例中，根据本发明的光学镜片是染色镜片，尤其是太阳镜(类别1、2、3或4)。
D)子层
在本发明的一个实施例中，减反射涂层可以沉积在子层上。应该注意，这样的子层不属于减反射涂层。
如本文中所使用的，子层或粘附层旨在意指为了提高所述涂层的机械特性(比如耐磨性和/或耐划伤性)和/或为了增强其与基材或下层涂层的粘附性而使用的相对厚的涂层。
由于其厚度相对较大，子层通常不参与减反射光学活性，尤其是当子层的折射率接近下层基材(通常是抗磨损和抗划伤涂层或裸基材)时。
子层的厚度应足以提升减反射涂层的耐磨性，但优选不要达到会引起光吸收的程度，这取决于子层的性质而可能会显着降低相对透射系数τv。此子层的厚度通常小于300nm、更优选小于200nm，并且通常大于90nm、更优选大于100nm。
子层优选地包括基于SiO2的层，此层包含相对于层总重量优选按重量计至少80％的二氧化硅、更优选按重量计至少90％的二氧化硅，并且甚至更优选由二氧化硅层组成。这种基于二氧化硅的层的厚度通常小于300nm、更优选小于200nm，并且通常大于90nm、更优选大于100nm。
在另一个实施例中，这个基于SiO2的层是按比如上文所定义的量的掺有氧化铝的二氧化硅层，优选地由掺有氧化铝的二氧化硅层组成。
在具体实施例中，子层由SiO2层组成。
优选地使用单层类型的子层。然而，子层可以是叠层的(多层的)，尤其是当子层和下层基材具有显着不同的折射率时。这尤其适用于下层基材具有高折射率的情况，即折射率大于或等于1.55、优选大于或等于1.57。
在这样的情况下，除了90-300nm厚的层(被称为主层)以外，子层还可以包括优选地最多三个附加层、更优选地最多两个附加层，这些附加层被插入在任选地涂覆后的基材与这种90-300nm厚的层(其通常是基于二氧化硅的层)之间。这些附加层优选地是薄层，其功能的目的是限制在子层/下层涂层界面或在子层/基材界面(当适当时)处的多次反射。
除了主层之外，多层子层还优选地包括具有高折射率并且具有小于或等于80nm、更优选小于或等于50nm并且最优选小于或等于30nm的厚度的层。这种具有高折射率的层直接接触具有高折射率的基材或具有高折射率的下层涂层(当适当时)。当然，即使基材(或下层涂层)具有小于1.55的折射率，也可以使用此实施例。
作为替代方案，除了主层和前述具有高折射率的层之外，子层还包括由基于SiO2的材料(也就是说优选地包含按重量计至少80％的二氧化硅)制成的层，该层具有小于或等于1.55、优选小于或等于1.52、更优选小于或等于1.50的折射率并且具有小于或等于80nm、更优选小于或等于50nm并且甚至更优选小于或等于30nm的厚度，在其上沉积有所述具有高折射率的层。典型地，在这种情况下，子层包括以此顺序沉积在任选涂覆后的基材上的25nm厚的SiO2层、10nm厚的ZrO2或Ta2O5层以及此后是子层主层。
根据实施例，减反射涂层不沉积到比如以上所述的子层上。
E)工艺
根据以下方法中的任一个，减反射涂层的不同层以及任选的子层优选在真空下通过化学气相沉积来沉积：i)任选地离子束辅助的蒸发；ii)离子束溅射；iii)阴极溅射；iv)等离子辅助化学气相沉积。在以下的参考文件“Thin Film Processes[薄膜工艺]”和“ThinFilm Processes II[薄膜工艺II]”，Vossen&Kern编著，Academic Press[学术出版社]，1978和1991中分别描述了这些不同的方法。特别推荐的方法是在真空下蒸发。
优选地，通过在真空下蒸发对减反射涂层中的每一层以及任选的子层进行沉积。
F)其他功能层
通常，基材的将在其上沉积减反射涂层的前主面和/或后主面涂覆有耐冲击底漆层、抗磨损涂层和/或抗划伤涂层或涂覆有用抗磨损涂层和/或抗划伤涂层涂覆的耐冲击底漆层。
本发明的减反射涂层优选地沉积在抗磨损涂层和/或抗划伤涂层上。抗磨损涂层和/或耐划伤涂层可以是光学镜片领域中惯常用作抗磨损涂层和/或抗划伤涂层的任何层。
抗磨损涂层和/或耐划伤涂层优选地是基于聚(甲基)丙烯酸酯或硅烷的硬质涂层，这些硬质涂层通常包括一种或多种矿物填料，这些矿物填料旨在增加涂层一旦固化后的硬度和/或折射率。
硬质抗磨损涂层和/或耐划伤涂层优选地是由包含至少一种烷氧基硅烷和/或其水解产物的组合物制备的，该水解产物例如通过用盐酸溶液和任选的冷凝和/或固化催化剂水解获得。
针对本发明推荐的合适的涂层包括基于环氧硅烷水解产物的涂层，比如在专利FR2 702 486(EP 0 614 957)、US 4 211 823和US 5 015 523中描述的环氧硅烷水解产物。
可以通过浸涂或旋涂将抗磨损涂层和/或耐划伤涂层组合物沉积到基材的主面上。然后通过合适的方法(优选使用热或紫外线辐射)将其固化。
抗磨损涂层和/或耐划伤涂层的厚度通常从2至10μm、优选从3至5μm变化。
在沉积耐磨损涂层和/或耐划伤涂层之前，可以将底漆涂层施加到基材上以提高最终产品中的后续层的耐冲击性和/或粘附性。此涂层可以是惯常用于聚合物材料的制品比如眼科镜片的任何耐冲击底漆层。
优选的底漆组合物是基于聚氨酯的组合物和基于胶乳的组合物，尤其是任选地含有聚酯单元的聚氨酯型胶乳。
这样的底漆组合物可以通过浸涂或旋涂沉积在制品面上，然后在至少70℃和最高达100℃、优选约90℃的温度下干燥范围为从2分钟至2小时、通常约15分钟的时间段，以形成固化后具有从0.2至2.5μm、优选从0.5至1.5μm的厚度的底漆层。
根据本发明的光学镜片还可以包括形成在减反射涂层上并能够改变其表面特性的涂层，比如疏水性和/或疏油性涂层(防污表涂层)。这些涂层优选地沉积到减反射涂层的外层上。总体上，这些涂层的厚度小于或等于10nm，优选范围为从1至10nm、更优选从1至5nm。
代替疏水性涂层，可以使用提供防雾特性的亲水性涂层、或当与表面活化剂关联时提供防雾特性的防雾前体涂层。在专利申请WO 2011/080472中描述了这种防雾前体涂层的实例。
典型地，根据本发明的光学镜片包括基材，该基材的后面上依次涂覆有耐冲击底漆层、抗磨损和耐划伤层、抗UV、减反射涂层，并且涂覆有疏水性和/或疏油性涂层，或者涂覆有提供防雾特性的亲水性涂层、或防雾前体涂层。
光学镜片的基材的前面可以依次涂覆有耐冲击底漆层、耐磨损层和/或耐划伤层、根据本发明的减反射涂层，并且涂覆有疏水性和/或疏油性涂层。
根据本发明的光学镜片优选地是眼科镜片，特别是眼镜镜片，或眼镜镜片的毛坯。镜片可以是偏振镜片、光致变色镜片或太阳镜片，其可以是着色的或不带色的，可以是矫正的或非矫正的。
以下实例以更详细但非限制性的方式说明了本发明。
6.实例
A)一般程序
实例中使用的光学制品包括具有65mm直径、1.50折射率(来自依视路公司(ESSILOR)的镜片)以及-2.00屈光度的焦度和1.2mm的中心厚度的镜片基材，该镜片基材在其前面和后面上涂覆有以下抗磨损和耐划伤涂层。
将专利EP 0 614 957的实例3中披露的基于由GLYMO和DMDES构成的水解产物的胶体二氧化硅和乙酰丙酮铝的抗磨损和耐划伤涂层(折射率等于1.47并且厚度为3.5μm)沉积在基材上。
所述抗磨损和耐划伤涂层通过沉积和硬化组合物来获得，该组合物包含按重量计224份的GLYMO、80.5份的HCl 0.1N、120份的DMDES、718份的在甲醇中按重量计30％的胶体二氧化硅、15份的乙酰丙酮铝、和44份的乙基溶纤剂。该组合物还含有相对于组合物总重量按重量计0.1％的由3M公司制造的表面活性剂FLUORADTM
上述抗磨损和耐划伤涂层具有约1.5的折射率(下文中的HC1.5)，并且用于具有1.5折射率的基材。
对于具有1.6折射率的基材，在上述抗磨损和耐划伤涂层中添加二氧化钛颗粒以匹配1.6的折射率(在下文中HC1.6)。
将减反射涂层的层沉积在测试镜片的后面上，而无需通过真空下蒸发(蒸发源：电子枪)加热基材。
沉积框架是配备有用于蒸发氧化物的电子枪(ESV14(8kV))的Leybold 1104机器，并设置有离子枪(Commonwealth Mark II)用于使用氩离子(IPC)准备基材表面的初步阶段。
层的厚度是使用石英微量天平来控制的。光谱测量在带有URA附件(通用反射率附件)的可变入射分光光度计Perkin-Elmer Lambda 850上实现。
B)测试程序
用于制造光学制品的方法包括将涂覆有抗磨损和耐划伤涂层的基材引入真空沉积室中的步骤，抽气直至获得高真空的步骤，通过氩离子束(阳极电流：1A，阳极电压：100V，中和电流：130mA)活化基材的后面、关闭离子照射、通过在后面上相继蒸发形成减反射涂层的各个层的步骤，以及最后的通风步骤。
为了比较，已经重现了文件US 2016/0003982的实例1至3。
C)结果
C1.对比实例(US 2016/0003982的实例1至3)
表1
因此，如以上在表1上所示出的，此文件的例示的减反射涂层并不能够在UVA-UVB-辐射范围内以及在NIR区中均获得低反射，尤其是对于30°或45°的入射角。
C2.本发明的AR(表2和图1至图6)
下文中详述了在实例1至6中获得的光学镜片1至6的结构特征和光学性能。这些镜片1至6在280与780nm之间以0°、15°、和35°的入射角的反射图展示在图1至图6上。
光学值是后面的光学值。针对15°、35°和45°的入射角、标准光源D65和标准观察者(角度10°)提供反射光的系数Rv、Rm NIR、Ruv和Rm B。
根据本发明的测试镜片1至6具有以下结构：基材/薄HI层/第三LI层/第三HI层/薄LI层/厚HI层/任选的第四LI层/任选的第四HI层(抗静电层)/LI外层。
/>
表2
从这些实例1至6可以观察到，尤其与现有技术的实例1至3相比，根据本发明并且包括6、7或9个HI层和LI层的交替层的AR涂层使得能够同时地获得在范围为从UV范围至NIR区的宽光谱内的低反射。

Claims (15)

1.一种光学制品，其包括具有前主面和后主面的基材，所述后主面涂覆有多层减反射涂层，所述多层减反射涂层包括至少两个具有大于或等于1.55的折射率的定义为“HI层”的层和至少两个具有小于1.55的折射率的定义为LI层的层的堆叠体，
其特征在于，所述多层减反射涂层是使得：
-在35°的入射角下，在近红外(NIR)区中的平均反射系数Rm NIR小于或等于8％，并且
-在35°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射系数RUV(280-380nm)等于或小于5％。
2.根据权利要求1所述的光学制品，其中，对于至少等于或小于15°的入射角，所述多层减反射涂层在可见光区中的平均光反射系数Rv小于或等于1.5％、优选1.0％。
3.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述多层减反射涂层是使得：
-在35°的入射角下，在近红外(NIR)区中的所述平均反射系数Rm NIR小于或等于7％、优选6.5％，并且
-在35°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的在280nm与380nm之间的所述平均反射系数RUV等于或小于4.0％、优选3.5％。
4.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述多层减反射涂层是使得：
-在45°的入射角下，在近红外(NIR)区中的所述平均反射系数Rm NIR小于或等于10％、优选7.5％，并且
-在45°的入射角下，由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的所述平均反射系数RUV(280-380nm)等于或小于4％、优选3.5％。
5.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述多层减反射涂层是使得：
-在35°的入射角下或者在45°的入射角下，波长范围为从420至450nm的蓝光的平均反射系数Rm B具有等于或小于3.0％、优选2.5％的值Rm B。
6.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述至少两个HI层中的一个——定义为“厚HI层”——具有大于120nm的物理厚度，并且其中，其他LI层和一个或多个HI层中的每一个具有小于或等于120nm的物理厚度。
7.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述厚HI层在远离所述基材的方向上处于所述多层减反射涂层的所有所述HI层之中的最后或倒数第二的位置。
8.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，在所述至少两个HI层之中的定义为“薄HI层”的另一HI层具有等于或小于30nm、优选等于或小于25nm的物理厚度。
9.根据权利要求8所述的光学制品，其中，所述薄HI层是在所述多层减反射涂层的所有所述HI层之中并且优选地在所述多层减反射涂层的所有所述LI层和所述HI层之中离所述基材最近的层。
10.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述至少两个LI层中的一个——定义为“薄LI层”——具有小于或等于25nm、优选小于或等于20nm并且特别是小于或等于15nm的厚度，并且在远离所述基材的方向上定位于所述厚HI层下方并且优选地与所述厚HI层直接接触。
11.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述减反射涂层的定义为“外层”的离所述基材最远的层是具有范围为从50至105nm、优选从60至95nm的物理厚度的LI层。
12.根据前述权利要求1至11中任一项所述的光学制品，其中，所述多层减反射涂层包括定义为“第三LI层”的另一个LI层，所述第三LI层是在远离所述基材的方向上在所有所述LI层之中离所述基材最近的，并且具有范围为从10至50nm、优选从15至40nm的物理厚度。
13.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述多层减反射涂层包括定义为“第三HI层”的另一个HI层，所述第三HI层是在远离所述基材的方向上在所有所述HI层之中自所述基材的第二个HI层，并且具有范围为从25至70nm、优选从30至60nm的物理厚度。
14.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述多层减反射涂层具有小于或等于600nm、更优选小于或等于550nm并且甚至更优选小于或等于400nm的总厚度。
15.根据前述权利要求6至14中任一项所述的光学制品，其中，所述多层减反射涂层在远离所述基材的方向上包括：
-所述“薄HI”层，其具有小于或等于30nm、优选范围为从5至30nm的物理厚度；
-任选的LI层，其是在所有所述LI层之中离所述基材最近的，具有范围为从10至50nm的物理厚度；
-任选的HI层，其是在所有所述HI层之中自所述基材的第二个HI层，具有范围为从25至70nm的物理厚度；
-所述“薄LI层”，其具有小于或等于25nm、优选范围为从3至25nm的物理厚度；
-所述“厚HI层”，其具有等于或大于150nm、优选范围为从150至200nm的物理厚度；
-任选的LI层，其具有范围为从10至40nm的物理厚度；
-任选的导电层，其具有范围为从3至10nm的物理厚度；
-所述“LI外层”，其具有范围为从50至105nm的物理厚度。
CN202180085703.7A 2020-12-21 2021-12-20 在其后主面上具有多层减反射涂层的光学制品 Pending CN116601531A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP20306630.3 2020-12-21
EP20306630 2020-12-21
PCT/EP2021/086889 WO2022136320A1 (en) 2020-12-21 2021-12-20 Optical article having a multilayered antireflective coating on its rear main face

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN116601531A true CN116601531A (zh) 2023-08-15

Family

ID=74184382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180085703.7A Pending CN116601531A (zh) 2020-12-21 2021-12-20 在其后主面上具有多层减反射涂层的光学制品

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20240061155A1 (zh)
EP (1) EP4264335A1 (zh)
CN (1) CN116601531A (zh)
WO (1) WO2022136320A1 (zh)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53111336A (en) 1977-03-11 1978-09-28 Toray Ind Inc Coating composition
JPH0642002B2 (ja) 1983-07-29 1994-06-01 セイコーエプソン株式会社 プラスチックレンズ
FR2702486B1 (fr) 1993-03-08 1995-04-21 Essilor Int Compositions de revêtement antiabrasion à base d'hydrolysats de silanes et de composés de l'aluminium, et articles revêtus correspondants résistants à l'abrasion et aux chocs.
FR2943798B1 (fr) 2009-03-27 2011-05-27 Essilor Int Article d'optique revetu d'un revetement antireflet ou reflechissant comprenant une couche electriquement conductrice a base d'oxyde d'etain et procede de fabrication
FR2954832A1 (fr) 2009-12-31 2011-07-01 Essilor Int Article d'optique comportant un revetement antibuee temporaire ayant une durabilite amelioree
FR2968774B1 (fr) 2010-12-10 2013-02-08 Essilor Int Article d'optique comportant un revetement antireflet a faible reflexion dans le domaine ultraviolet et le domaine visible
US9291746B2 (en) 2014-02-25 2016-03-22 iCoat Company, LLC Visible spectrum anti-reflective coatings with reduced reflections in ultraviolet and infrared spectral bands
EP3282292B1 (en) * 2016-08-09 2021-07-07 Essilor International Optical article comprising an interferential coating with a high reflection in the near infrared region (nir)
EP3301488A1 (en) * 2016-09-29 2018-04-04 Essilor International Optical lens comprising an antireflective coating with multiangular efficiency
DE102016120122C5 (de) 2016-10-21 2020-03-12 Carl Zeiss Vision International Gmbh Brillenglas mit Beschichtung, Verfahren zum Herstellen eines Brillenglases sowie computerimplementiertes oder experimentelles Verfahren zur Auslegung eines Brillenglases
EP3627194A1 (en) * 2018-09-20 2020-03-25 Essilor International An optical device with reduced reflection in deep red, near infrared and visible ranges

Also Published As

Publication number Publication date
EP4264335A1 (en) 2023-10-25
WO2022136320A1 (en) 2022-06-30
US20240061155A1 (en) 2024-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109844573B (zh) 在近红外区和蓝光区具有高反射的光学制品
JP7266510B2 (ja) 紫外領域及び可視領域の両方において低い反射性を持つ反射防止膜を有する光学部品
CN109073785B (zh) 包括在近红外区(nir)中具有高反射的减反射涂层的光学制品
KR102077552B1 (ko) 안과용 렌즈
JP6470274B2 (ja) 可視領域において非常に低い反射を有する反射防止被覆を含む光学物品
CN116601531A (zh) 在其后主面上具有多层减反射涂层的光学制品
CN116457705A (zh) 为使用眼睛追踪装置的装置提供视觉矫正的光学制品

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination