CN109835080A - 一种单涂层直接上机免处理ctp版 - Google Patents

一种单涂层直接上机免处理ctp版 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种单涂层直接上机免处理CTP版,该CTP版通过纳微米级的苯乙烯单体不仅具有表面效应、小尺寸效应和量子效应外,还具有较高的表面能量,使体系熔点降低,使涂层达到高感度,从而可降低制版机的激光功率,延长激光器的寿命,同时也防止了涂层由于交联度不够而导致耐印率降低的现象发生,通过憎水基团的接枝,可以有效提高涂层的柔韧性和抗溶剂性,通过分子修饰的方法对菁染料接枝上十一碳烯酸,对菁染料进行改性,防止与树脂膜混溶性差,或者相分离的现象发生,通过抗氧化剂的添加实现单涂层配方,不仅有效抑制空气中的氧、碱性物质对自由基的反应,从而有效保证了产品的保存期,而且单涂层使生产涂布工艺简捷,生产质量稳定。

Description

一种单涂层直接上机免处理CTP版
技术领域
本发明涉及印刷技术领域,具体涉及一种单涂层直接上机免处理CTP版。
背景技术
国内传统CTP版需要碱性显影液显影,这样就带来了废显影液排放以及显影冲洗水的排放所带来的环境污染的问题。目前很多城市已经禁止废显影液未经处理排放,必须经有资质的部门回收处理。这样就额外增加了使用成本。
当下欧美已成功的实现了免处理版的普及。免处理版有分为两种:一种是免化学处理版;一种是免冲洗版 。免化学处理版其中的免化学意为chemistry-free,即无需化学品处理,我们通俗的说是水显影型免处理版。免化学处理版还是需要显影,但由于显影液是水,无化学污染物,所以可以无处理排放,无环境污染问题。
免冲洗版就是没有显影冲洗环节,版材曝光后,无需显影,直接上印刷机,在显影液和油墨的作用下,显影成图像,显下来的部分被纸张带走。这样就免除了显影环节,当然也无需显影液,更不存在显影液的排放,更无环境污染问题。我们通常也将免冲洗版直接上机型免处理版。
免处理版按涂层的感光波长的不同,可分为热敏(830nm)免处理版,和光敏(405nm)紫激光版两种。
随着环保意识的逐步增强,以及印刷市场的的不断扩大,国内外市场对免处理版的需求越来越强,特别是国内市场,大部分需要高成本求购进口版,而少有的国内版由于技术的缺陷,市场表现差强人意,免处理版的感镀波动较大,同时耐印率较差。
发明内容
本发明的目的在于,针对上述现有技术的不足,提出一种单涂层直接上机免处理CTP版,具有稳定的高感度和较高的耐印率。
本发明提出一种单涂层直接上机免处理CTP版,包括一版基,以及设于所述版基一侧表面的感光层,所述感光层按质量份包括热塑微乳胶颗粒35-45份、红外吸收剂15-28份、热聚合引发剂5-12份和抗氧化剂5-9份。
进一步地,所述版基为铝版基。
进一步地,所述铝版基包含质量百分比为99.1-99.5%的铝、0.2-0.4%的铁、0.05-0.1%的硅、0.2-0.25%的镁、0.01-0.03%的锰、0.01-0.03%的铬和0.01-0.02%的锌。
进一步地,所述热塑微乳胶颗粒为纳微米级苯乙烯。
进一步地,所述苯乙烯接枝引入有憎水基团。
进一步地,所述憎水基团为烃基、-卤素、-NO2、-CH3、-(CH2)N中的一种或多种。
进一步地,所述苯乙烯共聚的聚合引发剂为过硫酸钾。
微胶乳颗粒的粒径之所以要达到纳微米,通常在10-200nm之间,是因为只有颗粒处于纳微米级,体系才处于分子簇和宏观物体交界的过渡区域,是一种典型的介观系统,它具有表面效应,小尺寸效应和宏观量子效应等特殊效应。就熔点而言,由于其具有较高的表面能量,造成超微粒子熔点下降,达到可以用激光能量产生的热达到的温度超过其熔点,发生热熔热塑反应。
采用苯乙烯单体,因为苯乙烯具有可热塑性好,玻璃化温度点适中。苯乙烯中含有不饱和键,可实现热聚合,还有必要通过接枝引入憎水基团来提高涂层的柔韧性和抗溶剂性能。共聚方式采用无规共聚,反应介质采用醇-水介质,共聚方式采用乳液聚合。共聚温度在60-90℃。聚合引发剂拟选用过硫酸盐,如过硫酸钾。加料方式采用部分原料滴加方式。本体系可以通过控制反应物的浓度和滴加时间来控制微粒粒径的大小。一般来讲,反应物浓度降低,滴加时间延长,颗粒度将变小。
进一步地,所述红外吸收剂为菁染料,所述菁染料需进行分子修饰,通过酯化反应先接枝十一碳烯酸后,再进行聚合反应。
红外吸收剂也叫红外染料,其最大吸收波长范围是在780-1100nm。红外吸收剂将830激光的光能吸收,转换为热能从而引起热聚合反应。本发明选择菁染料,因为其最大吸收波长范围为760-1200nm。
由于红外吸收剂多为低分子,其结晶度高,与树脂膜混溶性差,易发生相分离,这种相分离松散结构破坏了膜的整体力学结构,导致版材耐印力变差。所以本发明采用十一碳酸烯酸进行酯化聚合,增加菁染料的分子结构,形成大分子,进而规避以上问题。
进一步地,所述热聚合引发剂为三嗪类化合物。三嗪类化合物具有高敏感性。
进一步地,所述抗氧化剂为丁羟甲苯、二丁基羟基甲苯、丁基羟基茴香醚、二丁基羟基茴香醚、茶多酚、特丁基对苯二酚和苯乙烯基苯酚中的一种或者多种。本发明提供的一种单涂层直接上机免处理CTP版,该CTP版通过纳微米级的苯乙烯单体不仅具有表面效应、小尺寸效应和量子效应外,还具有较高的表面能量,使体系熔点降低,使涂层达到高感度,从而可降低制版机的激光功率,延长激光器的寿命,同时也防止了涂层由于交联度不够而导致耐印率降低的现象发生,通过憎水基团的接枝,可以有效提高涂层的柔韧性和抗溶剂性,通过分子修饰的方法对菁染料接枝上十一碳烯酸,对菁染料进行改性,防止与树脂膜混溶性差,或者相分离的现象发生,通过抗氧化剂的添加实现单涂层配方,不仅有效抑制空气中的氧、碱性物质对自由基的反应,从而有效保证了产品的保存期,而且单涂层使生产涂布工艺简捷,生产质量稳定。
具体实施方式
为下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外,本领域技术人员对本发明所做的各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所要求保护的范围内。本发明实施例中的配比均为以重量计。
实施例1
版基处理:采用0.4mm的铝版基(表面粗糙度0.5um,无需电化学后续处理),先用浓度为18%的NaOH溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在35-45s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可);再采用浓度为20%硝酸溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在25-30s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可),最后进行烘干处理,烘干温度要为90-110℃,烘干时间45-55s。
版基涂布:对版基采用涂布机进行感光层的涂布,涂布量1.5-2.3g/m2,感光层按质量份包括纳微米级苯乙烯颗粒35份、菁染料15份、三嗪类化合物5份和二丁基羟基茴香醚5份;烘干、干燥后即得到一种单涂层直接上机免处理CTP版。
本发明具体实施例中采用的苯乙烯纳微米级颗粒枝引入有憎水基团-CH3;菁染料通过酯化反应先接枝十一碳烯酸后,再进行聚合反应,以实现分子修饰。
实施例2
版基处理:采用0.4mm的铝版基(表面粗糙度0.5um,无需电化学后续处理),先用浓度为18%的NaOH溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在35-45s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可);再采用浓度为20%硝酸溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在25-30s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可),最后进行烘干处理,烘干温度要为90-110℃,烘干时间45-55s。
版基涂布:对版基采用涂布机进行感光层的涂布,感光层按质量份包括纳微米级苯乙烯颗粒40份、菁染料21份、三嗪类化合物7份和二丁基羟基茴香醚7份;烘干、干燥后即得到一种单涂层直接上机免处理CTP版。
本发明具体实施例中采用的苯乙烯纳微米级颗粒枝引入有憎水基团-CH3;菁染料通过酯化反应先接枝十一碳烯酸后,再进行聚合反应,以实现分子修饰。
实施例3
版基处理:采用0.4mm的铝版基(表面粗糙度0.5um,无需电化学后续处理),先用浓度为18%的NaOH溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在35-45s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可);再采用浓度为20%硝酸溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在25-30s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可),最后进行烘干处理,烘干温度要为90-110℃,烘干时间45-55s。
版基涂布:对版基采用涂布机进行感光层的涂布,感光层按质量份包括纳微米级苯乙烯颗粒45份、菁染料28份、三嗪类化合物12份和二丁基羟基茴香醚9份;烘干、干燥后即得到一种单涂层直接上机免处理CTP版。
本发明具体实施例中采用的苯乙烯纳微米级颗粒枝引入有憎水基团-CH3;菁染料通过酯化反应先接枝十一碳烯酸后,再进行聚合反应,以实现分子修饰。
对比例
版基处理:采用0.4mm的铝版基(表面粗糙度0.5um,无需电化学后续处理),先用浓度为18%的NaOH溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在35-45s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可);再采用浓度为20%硝酸溶液对铝版基表面进行冲洗,冲洗时间控制在25-30s;冲洗后,用水对版基表面进行冲洗,冲洗至pH值为中性(用pH试纸检测即可),最后进行烘干处理,烘干温度要为90-110℃,烘干时间45-55s。
版基涂布:对版基采用涂布机进行感光层的涂布,感光层按质量份包括丙烯腈40份、菁染料21份、三嗪类化合物12份和二丁基羟基茴香醚7份;烘干、干燥后即得到一种单涂层直接上机免处理CTP版。
本发明具体实施例中采用的菁染料通过酯化反应先接枝十一碳烯酸后,再进行聚合反应,以实现分子修饰。
评价:
感度检测:感度为单位面积内感光层获取外界激发的能量,即感光层在该激发能量的辐射下发生热熔热塑交联反应,单位为mj/cm2,数值越小说明感度越高(感度过低,则需要制版机的激光功率过高,有损于激光器使用寿命;同时也容易造成因得到的能量达不到要求导致涂层交联度不够而导致耐印率降低),辐照面积(即版基有效面积)为100-400cm2,辐照源强度10-60W,检测时辐照强度为单一变量,呈递增式检测,并记录各样品感度;
耐印数量检测: 在规则的印刷质量范围内,印版所能到达的最大印数量;
稳定时效:即自然存在状态下,保证95%耐印数量下的最大保存时限;
采用Kodak trendsetter 800III型 CTP制版机。
将实施例1、实施例2、实施例3和对比例,以及市售Kodak Sonora XP版进行以上数据进行检测,检测结果见表1:
表1
通过表1可知,本发明中的实施例1、实施例2和实施例3与市售大品牌柯达XP版标准数据非常接近,并且在感度、耐印数量和稳定时效数据上有较大的优势,特别是稳定时效的差异,相比柯达版,本发明的产品要耐存放3个月,不仅降低了采购成本,同时也提高了产品质量的稳定性,本发明具有较强的国内品牌竞争力。
以上对本发明的实施例进行了示例性说明,但所述内容仅为本发明的较佳实施例,不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依据本发明申请范围的均等变化与改进等,均应归属于本发明的专利涵盖范围之内。

Claims (10)

1.一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:包括一版基,以及设于所述版基一侧表面的感光层,所述感光层按质量份包括热塑微乳胶颗粒35-45份、红外吸收剂15-28份、热聚合引发剂5-12份和抗氧化剂5-9份。
2.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述版基为铝版基。
3.如权利要求2所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述铝版基包含质量百分比为99.1-99.5%的铝、0.2-0.4%的铁、0.05-0.1%的硅、0.2-0.25%的镁、0.01-0.03%的锰、0.01-0.03%的铬和0.01-0.02%的锌。
4.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述热塑微乳胶颗粒为纳微米级苯乙烯。
5.如权利要求4所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述苯乙烯接枝引入有憎水基团。
6.如权利要求5所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述憎水基团为烃基、-卤素、-NO2、-CH3、-(CH2)N中的一种或多种。
7.如权利要求4所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述苯乙烯共聚的聚合引发剂为过硫酸钾。
8.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述红外吸收剂为菁染料,所述菁染料需进行分子修饰,通过酯化反应先接枝十一碳烯酸后,再进行聚合反应。
9.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述热聚合引发剂为三嗪类化合物。
10.如权利要求1所述的一种单涂层直接上机免处理CTP版,其特征在于:所述抗氧化剂为丁羟甲苯、二丁基羟基甲苯、丁基羟基茴香醚、二丁基羟基茴香醚、茶多酚、特丁基对苯二酚和苯乙烯基苯酚中的一种或者多种。
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1452731A (zh) * 2000-09-06 2003-10-29 加里·滕钢辉 热敏性平版在印刷机上显影
EP1674928A2 (en) * 2004-12-27 2006-06-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
JP2010234586A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
CN102285269A (zh) * 2011-05-25 2011-12-21 乐凯华光印刷科技有限公司 光聚合型平版印刷版本体
CN102504137A (zh) * 2011-11-11 2012-06-20 乐凯华光印刷科技有限公司 一种热塑性纳微米颗粒
CN102582312A (zh) * 2011-12-23 2012-07-18 乐凯华光印刷科技有限公司 一种低化学处理紫激光光聚合型平版印刷版
CN103881034A (zh) * 2012-12-21 2014-06-25 乐凯华光印刷科技有限公司 一种激光热塑性纳微米颗粒及其合成方法与用其制作的平印版
CN103917919A (zh) * 2011-08-31 2014-07-09 伊斯曼柯达公司 用于在机显影的平版印版前体
CN104730865A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图免处理平印版
CN104730862A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组合物及用该组合物制成的热敏板
CN106459760A (zh) * 2014-06-20 2017-02-22 米兰集团 包括具有交联表面的辐射敏感可成像层的平版印刷板前体

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1452731A (zh) * 2000-09-06 2003-10-29 加里·滕钢辉 热敏性平版在印刷机上显影
EP1674928A2 (en) * 2004-12-27 2006-06-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
JP2010234586A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
CN102285269A (zh) * 2011-05-25 2011-12-21 乐凯华光印刷科技有限公司 光聚合型平版印刷版本体
CN103917919A (zh) * 2011-08-31 2014-07-09 伊斯曼柯达公司 用于在机显影的平版印版前体
CN102504137A (zh) * 2011-11-11 2012-06-20 乐凯华光印刷科技有限公司 一种热塑性纳微米颗粒
CN102582312A (zh) * 2011-12-23 2012-07-18 乐凯华光印刷科技有限公司 一种低化学处理紫激光光聚合型平版印刷版
CN103881034A (zh) * 2012-12-21 2014-06-25 乐凯华光印刷科技有限公司 一种激光热塑性纳微米颗粒及其合成方法与用其制作的平印版
CN104730865A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图免处理平印版
CN104730862A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组合物及用该组合物制成的热敏板
CN106459760A (zh) * 2014-06-20 2017-02-22 米兰集团 包括具有交联表面的辐射敏感可成像层的平版印刷板前体

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