CN1098164C - 喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，使喷嘴片上的数喷嘴口与光罩上的数图案对齐，每个喷嘴口定义在二喷嘴对位标记间，喷嘴片上设有一厚膜，光罩上的数图案定义在二图案对位标记之间，其特点是：光罩上数个图案是喷嘴头墨水舱的图案；还包括下列步骤：在喷嘴片上选择二喷嘴对位标记，将该二喷嘴对位标记上局部区域的厚膜，以一化学药剂挖空；叠上该光罩；在二喷嘴对位标记与其相对应的二图案对位标记对齐时，完成对位。

Description

喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法
本发明涉及一种曝光对位的方法，尤其涉及一种应用于压电式喷墨打印机中，利用一化学药剂，选择二个喷嘴片厚膜对位标记的局部区域予以挖除，使得在光罩对位时，可以在对位机上，更容易进行对位工作的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法。
喷墨打印机一般可分为二种，一种是气泡式喷墨打印机，另一种为压电式喷墨打印机。在压电式喷墨打印机中，如何改善其喷嘴头制作中，关于具有厚膜的喷嘴片如何有效地与光罩进行曝光对位，是人们所关注的。
压电式喷墨打印机喷嘴头的结构中，墨水舱的制作是先在一喷嘴片上，以压膜机将七层的高分子材料堆压成一机械间距(Spacer)之後，再利用光罩蚀刻的方法，在该厚膜中，形成墨水舱的结构。其中，该喷嘴片上具有复数个喷嘴口(Nozzle)，而光罩上具有相对的复数个墨水舱的图案。在光罩蚀刻的时候，每个喷嘴口必需对应一个墨水舱，所以光罩上的墨水舱图案必需很准确的与喷嘴片上的复数个喷嘴口对齐。
为了对位的方便，在喷嘴片及光罩上各有喷嘴对位标记及图案对位标记，其中每四个喷嘴对位标记及每四个图案对位标记各定义一个喷嘴口及一个墨水舱图样，而喷嘴对位标记及图案对位标记均以″+″表示。亦即，每个喷嘴口是定义在喷嘴片上四个标记″+″之间，而每个墨水舱图样亦定义在光罩上四个标记″+″之间。工作人员只要在调整对位装置的工作平台上，使喷嘴片及光罩上的″+″标记重合即可。当然，只要选择其中二标记″+″进行对位即可，而为求精确，采用喷嘴片(光罩)上二距离最远的标记来进行，通常为斜对角的二标记。
请参见图1，在喷嘴片11上设有复数个喷嘴口111，每个喷嘴口有一个墨水舱17。墨水舱17的产生是经由光罩13上定义的墨水舱图案131，在进行对位后，即图案对位标记132与喷嘴对位标记112对齐后，对喷嘴片11上厚膜12(见图2)中的墨水舱图案131对应区113加以蚀刻而成。
请参见图2，经由光罩蚀刻之后的喷嘴片11(剖面)，在每个喷嘴口111上即形成一墨水舱17，非墨水舱的部份即为厚膜12未被蚀刻的部份。图2中可见，喷嘴片11的喷嘴对位标记112是位于厚膜12的下方，在对位的时候，是通过由厚膜12本身的透光性来进行。
请参见图3，由于惯用的厚膜12是由三层的高分子材料堆压而成，而该高分子材料是具透光性，所以在进行对位的时候，对位机上可清楚看到喷嘴片11的喷嘴对位标记112，因此对位并无困难。在进行对位的时候，必需将光罩13右移一距离d，使其上的图案对位标记″+″132与喷嘴片11的喷嘴对位标记″+″112重合，即完成对位的工作。
但是由于机械结构上的需要，当喷嘴片11上的厚膜12增加更多层(例如七层)时，则该厚膜12将使得喷嘴片11上的喷嘴对位标记112在对位机底下看不清楚。
请参见图4，七层的厚膜12，使得喷嘴片11上的喷嘴对位标记112，在对位机底下难以观察到，光罩13的图案对位标记132要对上喷嘴片11的喷嘴对位标记112显有困难，因此严重影响对位时候的工作效率。
本发明的目的在于提供一种喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，它能在光罩对位时，可以在对位机上，容易进行对位的工作，进而提高了工作效率。
本发明的目的是这样实现的：
一种喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，是用以使一喷嘴片上的数个喷嘴口与一光罩上的复数个图案对齐，每个喷嘴口是定义在二喷嘴对位标记之间，该喷嘴片上方设有一厚膜，该光罩上的数个图案是定义在二图案对位标记之间，
其特点是：
所述的光罩上数个图案是为喷嘴头墨水舱的图案；
还包括，进行下列步骤：
在所述的喷嘴片上选择二喷嘴对位标记，将该二喷嘴对位标记上局部区域的厚膜，以一化学药剂挖空；
叠上该光罩；以及
在所述的二喷嘴对位标记与其相对应的二图案对位标记对齐时，完成对位。
在上述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其中，所述的选择二喷嘴对位标记是选择喷嘴片上二距离最远的喷嘴对位标记。
在上述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其中，所述的厚膜是由七层的高分子材料堆压而成。
在上述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其中，所述的以化学药剂挖空的方法如下：
在所述的厚膜堆压至第四层及第七层时，分别在该局部区域的厚膜上，滴上该化学药剂，进行曝光显影浸蚀，以挖空该局部区域的厚膜。
在上述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其中，所述的以该化学药剂挖空的方法如下：
在所述的该厚膜堆压至第七层时，在该局部区域的厚膜上，滴上该化学药剂，进行曝光显影浸蚀，以挖空该局部区域的厚膜。
在上述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其中，所述的化学药剂为丙胴。
在上述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其中，所述的化学药剂为氢氧化钠。
本发明由于采用了上述的曝光对位的方法，即针对具多层的厚膜的喷嘴片，在光罩对位工作前，先将该厚膜12相对于喷嘴片11对位标记112的局部区域，用些微量化学药剂加以去除，使之增进了厚膜的透光度，在对位机下，可以清楚看到喷嘴片上的喷嘴对位标记，以使工作人员能更有效率地进行光罩对位，从而提高了工作效率。
通过以下对本发明喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法的一实施例结合其附图的描述，可以更进一步理解本发明的目的、结构特征和优点。其中，附图为：
图1是现有技术的光罩及喷嘴片对位的示意图。
图2是现有技术的厚膜形成墨水舱。
图3是现有技术的三层式厚膜对位示意图。
图4七层式厚膜的示意图。
图5是依据本发明提出的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法中七层式厚膜对位的分解示意图。
图6是依据本发明提出的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法中七层式厚膜二阶段挖除对位标记厚膜之后的形状示意图。
上述的对位机、工作平台、氢氧化钠、丙胴、滴管、高分子材料、曝光显影浸蚀的方法、光罩等是现有技术，可由熟悉该项技术者据以实施，故本发明不多加赘述，而欲待详加说明的是其构造及原理等。
请参见图5所示，首先以厚膜压膜机(图中未显示)，将七层厚膜12压制在喷嘴片11上。接着，在喷嘴片11上选择二个喷嘴对位标记112，将其局部区域15，用滴管滴上些微量的化学药剂14(如丙胴或氢氧化钠)，利用曝光显影浸蚀的方法即可将厚膜12的二局部区域加以挖除(只要挖除二个喷嘴对位标记112上的厚膜即可，而不必每个标记都挖除其上的厚膜)。再将光罩13置于厚膜12上，使得厚膜12的透光度在对位机下可以清楚看见。如此，工作人员即可有效率的进行光罩13的对位工作。
为了更准确挖除喷嘴对位标记112上局部区域的厚膜，可分二阶段来进行。在压膜到第七层时，喷嘴对位标记112可能已无法辨视，工作人员仍可依经验，把二个喷嘴对位标记局部区域的厚膜挖除(因为所挖除的局部区域通常位于喷嘴片11斜对角的二点)，但是这并不科学。因此，可以在压完前四层厚膜即进行第一次局部挖除的动作，再压上后3层厚膜，然后再进行第二次局部挖除，即可得到第六图的形状。
综上所述，本发明针对具多层的厚膜12的喷嘴片11，在制作墨水舱17之前的光罩对位工作，将该厚膜12相对于喷嘴片11对位标记112的局部区域，用些微量的丙胴或氢氧化钠加以浸蚀去除，由此，增进了厚膜12的透光度，在对位机下，可以清楚看到喷嘴片11上的喷嘴对位标记112，以使工作人员能更有效率地进行光罩对位，进而提高工作效率。

Claims (7)

1.一种喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，是用以使一喷嘴片上的数个喷嘴口与一光罩上的数个图案对齐，每个喷嘴口是定义在二喷嘴对位标记之间，该喷嘴片上方设有一厚膜，该光罩上的数个图案是定义在二图案对位标记之间，
其特征在于：
所述的光罩上数个图案是为喷嘴头墨水舱的图案；
还包括，进行下列步骤：
在所述的喷嘴片上选择二喷嘴对位标记，将该二喷嘴对位标记上局部区域的厚膜，以一化学药剂挖空；
叠上该光罩；以及
在所述的二喷嘴对位标记与其相对应的二图案对位标记对齐时，完成对位。
2.如权利要求1所述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其特征在于：所述的选择二喷嘴对位标记是选择喷嘴片上二距离最远的喷嘴对位标记。
3.如权利要求1所述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其特征在于：所述的厚膜是由七层的高分子材料堆压而成。
4.如权利要求3所述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其特征在于：所述的以化学药剂挖空的方法如下：
在所述的厚膜堆压至第四层及第七层时，分别在该局部区域的厚膜上，滴上该化学药剂，进行曝光显影浸蚀，以挖空该局部区域的厚膜。
5.如权利要求3所述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其特征在于：所述的以该化学药剂挖空的方法如下：
在所述的该厚膜堆压至第七层时，在该局部区域的厚膜上，滴上该化学药剂，进行曝光显影浸蚀，以挖空该局部区域的厚膜。
6.如权利要求1所述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其特征在于：所述的化学药剂为丙胴。
7.如权利要求1所述的喷嘴头墨水舱厚膜曝光对位的方法，其特征在于：所述的化学药剂为氢氧化钠。
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