CN109806658B

CN109806658B - 显影液过滤系统及显影液的过滤方法

Info

Publication number: CN109806658B
Application number: CN201711159170.4A
Authority: CN
Inventors: 林子扬; 刘朕与; 张庆裕; 林进祥
Original assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Current assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date: 2017-11-20
Filing date: 2017-11-20
Publication date: 2021-10-12
Anticipated expiration: 2037-11-20
Also published as: CN109806658A

Abstract

一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，并被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

Description

显影液过滤系统及显影液的过滤方法

技术领域

本公开实施例涉及一种半导体制造技术，特别涉及一种过滤提供给光刻制程使用的显影液的过滤系统以及将显影液过滤的方法。

背景技术

近年来，半导体集成电路(semiconductor integrated circuits)经历了指数级的成长。在集成电路材料以及设计上的技术进步下，产生了多个世代的集成电路，其中每一世代较前一世代具有更小更复杂的电路。在集成电路发展的过程中，当几何尺寸(亦即，制程中所能产出的最小元件或者线)缩小时，功能密度(亦即，每一晶片区域所具有的互连装置的数目)通常会增加。一般而言，此种尺寸缩小的制程可以提供增加生产效率以及降低制造成本的好处，然而，此种尺寸缩小的制程亦会增加制造与生产集成电路的复杂度。

在半导体元件制造中，光刻制程(lithography)扮演了相当重要的角色，其用于在晶圆上形成所需的特定图案。光刻制程的基本步骤包括，形成光刻胶层于晶圆表面上，刻印或曝光例如具特定电路布局的图案于光刻胶层上，以及通过供应显影液至光刻胶层上以去除光刻胶层的不需要的部分，进而能在晶圆上形成所需的特定图案。

虽然现有的半导体制造机台(包括显影液过滤系统)已经可符合上述一般的目的，但这些半导体制造机台及过滤方法仍不能在各方面令人满意。

发明内容

本公开一些实施例提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。其中第二过滤器包含一高密度聚乙烯(High Density Polyethylene)过滤膜。

本公开实施例另提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块、一第二过滤器以及一冷却装置。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。冷却装置是连接第二过滤器，被配置以降低流经第二过滤器的显影液的温度。

本公开实施例提供一种显影液的过滤方法，包含提供一显影液至一循环回路。显影液的过滤方法还包含于循环回路中以一第一过滤器过滤显影液。再者，显影液的过滤方法还包含由循环回路输出显影液至一检测级。显影液的过滤方法还包含降低显影液的温度。另外，显影液的过滤方法还包含通过一第二过滤器过滤提供至循环回路前的显影液、循环回路中的显影液或循环回路输出的显影液。

附图说明

图1为本公开一些实施例的显影液过滤系统以及连接于显影液过滤系统的一检测级与一处理腔室的方块示意图。

图2为本公开一些实施例的处理腔室的示意图。

图3为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图。

图4为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图。

图5为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图

图6为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图

图7为本公开实施例中的显影液过滤系统中显影液的过滤方法的流程图。

附图标记说明：

100、100A、100B、100C、100D 显影液过滤系统

102 显影液供应槽

104 第一抽水泵

106 第一开关阀

108 第一热交换器

110 第二热交换器

112 第三热交换器

114 冷却装置

150 循环过滤模块

152 容置槽

154 第二抽水泵

156 第二开关阀

158 流体控制器

180 控制装置

200 检测级

300 处理腔室

301 喷嘴

302 旋转台

303 晶圆

304 储存槽

305 开关阀

306 外壳

3041 连通管路

3061 废液引道

DEP 显影液

FLT1 第一过滤器

FLT2 第二过滤器

TB1 第一管路

TB2 第二管路

TBC 循环回路

TBi 输入管路

S100、S102、S104、S106、S108 操作

具体实施方式

以下公开的实施方式或实施例是用于说明或完成本公开的多种不同技术特征，所描述的元件及配置方式的特定实施例是用于简化说明本公开，使公开得以更透彻且完整，以将本公开的范围完整地传达予本领域技术人员。当然，本公开也可以许多不同形式实施，而不局限于以下所述的实施例。

在下文中所使用的空间相关用词，例如“在…下方”、“下方”、“较低的”、“上方”、“较高的”及类似的用词，是为了便于描述图示中一个元件或特征与另一个(些)元件或特征之间的关系。除了在附图中绘示的方位之外，这些空间相关用词也意欲包含使用中或操作中的装置的不同方位。例如，装置可能被转向不同方位(旋转90度或其他方位)，而在此所使用的空间相关用词也可依此相同解释。此外，若实施例中叙述了一第一特征形成于一第二特征之上或上方，即表示其可能包含上述第一特征与上述第二特征是直接接触的情况，亦可能包含了有附加特征形成于上述第一特征与上述第二特征之间，而使得上述第一特征与第二特征未直接接触的情况。

以下不同实施例中可能重复使用相同的元件标号及/或文字，这些重复是为了简化与清晰的目的，而非用以限定所讨论的不同实施例及/或结构之间有特定的关系。另外，在附图中，结构的形状或厚度可能扩大，以简化或便于标示。必须了解的是，未特别图示或描述的元件可以本领域技术人员所熟知的各种形式存在。

在半导体元件制造过程中，光刻制程用于在晶圆上形成所需的特定图案。在进行光刻制程之前，是将显影液通过例如一喷洒装置供应至晶圆的光刻胶层上。当晶圆经过光刻制程后，可能会通过电子显微镜发现晶圆上的图案具有缺陷。而造成缺陷的原因可能归因于显影液中含有微粒而通过喷洒而落在晶圆上，进而影响晶圆的图案化。

因此，在通过喷洒装置将显影液供应至晶圆的光刻胶层上之前，显影液会通过一过滤系统进行过滤，以过滤显影液中不合要求的微粒(例如是由溶液所产生的沉淀物)。当过滤完成后，再通过一连串的管路系统由过滤系统端输送至所述喷洒装置的一储存槽以进行暂存。

本公开实施例提供一种显影液过滤系统，用于供应半导体光刻制程所需的显影液。请先参考图1，图1为本公开一些实施例的显影液过滤系统100以及连接于显影液过滤系统100的一检测级200与一处理腔室300的方块示意图。在图1中，显影液DEP经过显影液过滤系统100过滤后，可经由一第一管路TB1输出至检测级200，并且在检测级200进行检验，以确认过滤后的显影液DEP是否符合预定规格。举例来说，检测级200是可检验显影液过滤系统100所提供的显影液DEP中是否含有过多的微粒，例如是否含有超过150个小于30纳米的微粒。当显影液DEP含有过多微粒时，便可能造成后续制程中晶圆的图形化的缺陷。于某些实施例中，微粒可能是环境中的灰尘或是显影液DEP中的沉淀物质等。

当检测级200检测后确认显影液DEP符合所设定的预定规格后(如小于30纳米的微粒少于150个时)，便可将显影液DEP进一步经由一第二管路TB2输出至处理腔室300。请参考图2，图2为本公开一些实施例的处理腔室300的示意图。如图2所示，处理腔室300内包含有一扁平状的喷嘴301以及一旋转台302，一晶圆303固定地设置于旋转台302上，例如可通过静电力吸附固定于旋转台302。喷嘴301是设置于晶圆303的上方，并且可将显影液DEP利用喷洒的方式供应至晶圆303上，使得晶圆303表面上的光刻胶层(图中未表示)被显影液所覆盖。接着，利用旋转台302旋转时所产生的离心力，可使得显影液DEP均匀分布在光刻胶层上，进而可通过显影液DEP来去除光刻胶层中不需要的部分。

再者，如图2所示，处理腔室300可还包括一储存槽304，用于储存经由第二管路TB2来自检测级200的显影液DEP，并且通过一连通管路3041连接至喷嘴301。连通管路3041上可设置有一开关阀305，例如为一气动阀或一电磁阀，用于选择性地停止在连通管路3041中显影液DEP的流通。当开关阀305开启时，喷嘴301可经由连通管路3041将储存槽304中的显影液DEP供应至晶圆303上。

上述显影技术为目前业界常使用的喷洒/混拌(spray/puddle)式显影方法。在一些其他实施例中，也可以采用其他显影技术，例如浸渍式或摇动式显影方法来对晶圆303表面上的光刻胶层进行显影。另外，处理腔室300可还包括一外壳306以及一废液引道3061，使得从晶圆303甩出或落下的显影液DEP可由外壳306所收集，并经由废液引道3061排放至一废液处理系统(图中未表示)以进行处理。

根据一些实施例，晶圆303可由硅、锗或其他半导体材料所制成。根据一些实施例，晶圆303可由复合半导体所制成，如碳化硅(SiC)、砷化镓(GaAs)、砷化铟(InAs)或磷化铟(InP)。根据一些实施例，晶圆303可由合金半导体所制成，如硅锗(SiGe)、硅锗碳(SiGeC)、磷砷化镓(GaAsP)或磷化铟镓(GaInP)。根据一些实施例，晶圆303可包括一晶膜层。举例来说，晶圆303可具有一晶膜层覆盖于大型半导体(bulk semiconductor)上。根据一些实施例，晶圆303可为硅绝缘体(silicon-on-insulator；SOI)或锗绝缘体(germanium-on-insulator；GOI)基板。

根据一些实施例，显影液DEP的溶剂可包括水或有机溶剂，其中有机溶剂可选自醇类、酮类、酯类、醚类、烃类或及其混合物的溶剂。根据一些实施例，显影液为一负型显影液(negative tone developer，NTD)，其溶剂为乙酸丁酯，例如乙酸正丁酯(NBA)，并以90wt％-100wt％的比例存在于显影液中，例如为大于95wt％、大于98wt％、大于99wt％或100wt％，基于显影液的总重量。

根据一些实施例，显影液DEP的组成可包括碱性化合物，其可分为有机碱性化合物及无机碱性化合物，其中有机碱性化合物包括，例如氢氧化四甲基铵(TMAH)或氢氧化三甲基乙醇铵(trimethylmonoethyl ammonium hydroxide)，而无机碱性化合物包括，例如氢氧化钙(Ca(OH)₂)、氢氧化钠(NaOH)、氢氧化钾(KOH)、碳酸钠(Na₂CO₃)、及硅酸钠(Na₂SiO₃)等化合物的至少一种或两种以上的混合物。

根据一些实施例，显影液DEP的组成亦可包括界面活性剂，例如为聚环氧乙烯烷基醚(polyoxyethylene alkyl ether)、聚环氧乙烯烷基芳基醚(polyoxyethylenealkylphenyl ether)或聚环氧乙烯氧化丙烯共聚物(polyoxyethylene polyoxypropyleneether)等阴离子性界面活性剂。

根据一些实施例，显影液DEP的组成可包含乙醚(Diethyl ether)、四氢夫喃(Tetrahydrofuran)、乙酸乙酯(Ethyl acetate)、丁酸乙酯(Ethyl butyrate)、乙酰乙酸乙酯(ethyl acetoacetate)、2-己酮(2-Hexanone)、光刻胶稀释剂(OK73-thinner)等。

请再参考图1，如图1所示，显影液过滤系统100可包含有一显影液供应槽102、一输入管路TBi、一第一抽水泵104、一第一开关阀106以及一循环过滤模块150。显影液供应槽102储存有显影液DEP，并且通过输入管路TBi连通于循环过滤模块150，以提供显影液DEP至循环过滤模块150。第一抽水泵104与第一开关阀106是设置于输入管路TBi上，第一抽水泵104是被配置以驱使显影液DEP由显影液供应槽102流至循环过滤模块150，而第一开关阀106是控制显影液DEP于输入管路TBi内的流通。

于某些实施例中，循环过滤模块150可包含一容置槽152、一第二抽水泵154、一第二开关阀156、一循环回路TBC、至少一第一过滤器FLT1以及一流体控制器158。于图1的实施例中，循环过滤模块150是包含有两个第一过滤器FLT1，但其数量不限于此，于其他实施例中也可设置一或多个第一过滤器FLT1。

于某些实施例中，容置槽152是通过输入管路TBi连通显影液供应槽102以接收显影液DEP。第二抽水泵154、两个第一过滤器FLT1以及第二开关阀156是设置于循环回路TBC上。第二开关阀156是控制循环回路TBC中显影液DEP的流通，并且当第二开关阀156打开时，第二抽水泵154可驱使容置槽152内的显影液DEP流入循环回路TBC，使得第一过滤器FLT1可过滤循环过滤模块150的循环回路TBC中的显影液DEP。

值得注意的是，于此实施例中，两个第一过滤器FLT1是以串连方式连接，并且可包含一聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene，PTFE)过滤膜。两个第一过滤器FLT1的过滤孔径可分别为20纳米与10纳米，或者两者的过滤孔径皆为10纳米。于其他实施例中，第一过滤器FLT1的过滤孔径的大小可为10纳米至20纳米之间，并且可根据实际需求而定。

再者，于另一实施例中，循环过滤模块150可包含单一第一过滤器FLT1或者是多于两个第一过滤器FLT1，并且多个第一过滤器FLT1是可以串联或并联方式实施。

如图1所示，流体控制器158可为一开关阀，设置于第一管路TB1上，并且可控制循环回路TBC与第一管路TB1之间的连通。当流体控制器158关闭时，容置槽152内的显影液DEP便可于循环回路TBC内进行过滤。再者，于此实施例中，显影液过滤系统100还可包含一控制装置180，控制装置180是可配置以控制显影液过滤系统100中的第一抽水泵104、第一开关阀106、第二抽水泵154、第二开关阀156及流体控制器158或其他元件的操作。

举例来说，控制装置180可控制第一开关阀106与第一抽水泵104开启，以将显影液DEP由显影液供应槽102输送至容置槽152。当要进行过滤时，控制装置180可控制第二开关阀156以及第二抽水泵154开启，并且控制流体控制器158关闭，使得容置槽152内的显影液DEP可于循环回路TBC内经由第一过滤器FLT1进行过滤。当过滤的次数达到预设次数时，控制装置180可控制第二开关阀156关闭并控制流体控制器158开启，使得过滤后的显影液DEP可输出至检测级200。在一实施例中，预设次数为8，但并不限定于此。在某些实施例中，预设次数可为大于8或小于8的正整数，并可依实际需求调整。

于某些实施例中，控制装置180可包含一处理器以及一储存电路(图中未表示)。所述处理器可为一微处理器或一中央处理器。所述储存电路可为一随机存取存储器(RandomAccess Memory，RAM)、快闪存储器(flash memory)、只读存储器(Read-Only Memory，ROM)、可抹除可规划只读存储器(EPROM)、电子抹除式可复写只读存储器(Electrically-Erasable Programmable Read-Only Memory，EEPROM)、暂存器、硬盘、便携式硬盘、光盘只读存储器(Compact Disc Read-Only Memory，CD-ROM)或在此领域现有技术中任何其它电脑可读取的储存媒体格式。其中，所述储存电路可被配置以储存用以控制显影液过滤系统100中各个元件的程序以及相关数据。

需注意的是，于某些实施例中，显影液过滤系统100可还包含一第二过滤器FLT2，其可设置于显影液供应槽102与容置槽152之间及/或设置于流体控制器158与检测级200之间。于此实施例中，显影液过滤系统100包含两个第二过滤器FLT2，而设置于显影液供应槽102与容置槽152之间的第二过滤器FLT2是被配置以过滤来自显影液供应槽102的显影液DEP，而设置于流体控制器158与检测级200之间的第二过滤器FLT2是被配置以过滤来自第一过滤器FLT1的显影液DEP。

于某些实施例中，第二过滤器FLT2可包含一高密度聚乙烯(High DensityPolyethylene，HDPE)过滤膜或一尼龙(Nylon)过滤膜，其材质是不同于第一过滤器FLT1的材质。再者，第二过滤器FLT2的过滤孔径可小于第一过滤器FLT1的过滤孔径，例如第二过滤器FLT2的过滤孔径可为1纳米到5纳米之间。

通过在输入管路TBi以及第一管路TB1上设置第二过滤器FLT2，可以进一步提高显影液过滤系统100的过滤能力，并且更可以缩短过滤所需的时间。另外，由于两个第二过滤器FLT2是分别设置在循环过滤模块150的输入端以及输出端，因此显影液DEP通过每个第二过滤器FLT2的次数为一次而非多次，进而可避免第二过滤器FLT2中的高密度聚乙烯过滤膜在显影液DEP中容易被显影液DEP中的溶液溶解的问题，例如会溶出正十二烷(C₁₂H₂₆)。于是，此实施例中第二过滤器FLT2的配置方式不仅可提高显影液过滤系统100的过滤能力，并且也可以延长第二过滤器FLT2的使用寿命。

请参考图3，图3为本公开另一实施例的显影液过滤系统100A、检测级200与处理腔室300的方块示意图。相较于前述的显影液过滤系统100，显影液过滤系统100A可另包含至少一热交换器。于此实施例中，显影液过滤系统100A包含有两个热交换器(第一热交换器108与第二热交换器110)，分别设置于循环过滤模块150与显影液供应槽102之间以及循环过滤模块150与第二过滤器FLT2之间。第一热交换器108与第二热交换器110是用来降低流入第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度。

举例来说，第一热交换器108与第二热交换器110是可将显影液DEP的温度降低到低于室温，例如可控制显影液DEP降低至-10度C至25度C之间(显影液DEP的凝固点小于-10度C)。当显影液DEP的温度低于室温时，例如为0度C时，具有高密度聚乙烯过滤膜的第二过滤器FLT2于显影液DEP中溶出的正十二烷的溶出量可为在室温下溶出的正十二烷的溶出量的三分之一至四分之一。因此，在显影液过滤系统100A中，通过设置第一热交换器108与第二热交换器110，可以降低第二过滤器FLT2在显影液DEP中溶解的速率，进而可进一步延长第二过滤器FLT2的使用寿命。

请参考图4，图4为本公开另一实施例的显影液过滤系统100B、检测级200与处理腔室300的方块示意图。显影液过滤系统100B与显影液过滤系统100A相似，差异在于显影液过滤系统100B只设置一第二过滤器FLT2，位于循环过滤模块150与检测级200之间，并且显影液过滤系统100B还包含另一热交换器(第三热交换器112)，设置于循环回路TBC中。

通过设置热第一热交换器108、第二热交换器110与第三热交换器112，可以确保输入至容置槽152的显影液DEP、循环回路TBC中的显影液DEP以及输入至第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度维持在所需的温度(例如0度C)。因此，通过图4中的结构配置，不仅可以提高循环过滤模块150的过滤能力，更可以进一步延长具有高密度聚乙烯过滤膜的第二过滤器FLT2的使用寿命。

再者，于某些实施例中，循环过滤模块150中的两个第一过滤器FLT1也可包含高密度聚乙烯过滤膜，并且具有1纳米至5纳米的过滤孔径。由于循环回路TBC中的显影液DEP已被第一热交换器108与第三热交换器112降温至低于室温(例如0度C)，因此第一过滤器FLT1中的高密度聚乙烯过滤膜于显影液DEP的溶出量亦可以降低，使得第一过滤器FLT1的使用寿命也同样可以被延长。

请参考图5，图5为本公开另一实施例的显影液过滤系统100C、检测级200与处理腔室300的方块示意图。如图5所示，此实施例中的显影液过滤系统100C设置单一第二过滤器FLT2以及单一热交换器(第二热交换器110)，第二过滤器FLT2是设置于循环过滤模块150与检测级200之间，并且第二热交换器110是设置于循环过滤模块150的流体控制器158与第二过滤器FLT2之间，被配置以降低来自流体控制器158的显影液DEP的温度。

再者，于此实施例中，显影液过滤系统100C可还包含有一冷却装置114，连接于第二过滤器FLT2，被配置以降低流经第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度。于某些实施例中，冷却装置114可为一水冷式或一空冷式冷却器，可包覆或环绕于第二过滤器FLT2。通过设置第二热交换器110与冷却装置114，可以确保流经第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度可以维持在一所需的温度(低于室温，例如0度C)，以使第二过滤器FLT2的使用寿命可以进一步延长。

另外，于某些实施例中，第二过滤器FLT2、冷却装置114以及第二热交换器110亦可设置于显影液供应槽102与循环过滤模块150之间，并且第二热交换器110是设置于显影液供应槽102与第二过滤器FLT2之间，以使来自显影液供应槽102而流入第二过滤器FLT的显影液DEP的温度可以维持在低于室温的温度下，藉以延长第二过滤器FLT2的使用寿命。

请参考图6，图6为本公开另一实施例的显影液过滤系统100D、检测级200与处理腔室300的方块示意图。于此实施例中，显影液过滤系统100D包含有两个第二过滤器FLT2以及三个热交换器。两个第二过滤器FLT2是分别设置于显影液供应槽102与循环过滤模块150之间以及设置于循环过滤模块150与检测级200之间。第一热交换器108是设置于显影液供应槽102与第二过滤器FLT之间，第二热交换器110是设置于流体控制器158与另一第二过滤器FLT2之间，并且第三热交换器112是设置于循环回路TBC中，前述三个热交换器是被配置以降低来自显影液供应槽102、来自流体控制器158以及循环回路TBC中的显影液DEP的温度。

再者，显影液过滤系统100D还包含两个冷却装置114，分别连接于第二过滤器FLT2，被配置以降低流经第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度。通过显影液过滤系统100D中前述元件的配置，可以确保流经第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度可以维持在一所需的温度(低于室温，例如0度C)，以使第二过滤器FLT2的使用寿命可以进一步延长。

另外，于此实施例中，循环过滤模块150中的两个第一过滤器FLT1也可包含高密度聚乙烯过滤膜，并且具有1纳米至5纳米的过滤孔径。

请参考图7，图7为本公开实施例中的显影液过滤系统中显影液的过滤方法的流程图。在操作S100中，由显影液供应槽102提供显影液DEP至一循环回路TBC。在操作S102中，于循环回路TBC中提供一第一过滤器FLT1以过滤显影液DEP。接着，在操作S104中，由循环过滤模块150的循环回路TBC输出显影液DEP至一检测级200，以在检测级200中检验输出的显影液DEP是否符合规格需求。在操作S106中，通过至少一冷却装置114降低显影液DEP的温度，藉以降低第二过滤器FLT2中的过滤膜溶解于显影液DEP的溶出量。冷却装置114例如是可将显影液DEP的温度降低至一低于室温的温度，例如0度C。在操作S108中，通过一第二过滤器FLT2过滤提供至循环回路TBC前的显影液DEP或由循环回路TBC输出的显影液DEP。其中，第一过滤器FLT1与第二过滤器FLT2可具有相同或不同的过滤膜。要注意的是，前述操作不限于此实施例，操作的顺序可以变化或修正，或加上额外的操作。举例来说，操作S106可在操作S100之前，或者也可在操作S102之前。

本公开实施例提供一种显影液过滤系统，被配置以过滤提供给后续光刻制程的显影液DEP，使显影液DEP中的微粒可通过显影液过滤系统中的过滤器去除，以避免在后续制程中造成晶圆的缺陷(defect)。在某些实施例中，显影液过滤系统中的第二过滤器FLT2是包含一高密度聚乙烯过滤膜，设置于循环过滤模块150的输入端或输出端。因此，显影液DEP通过第二过滤器FLT2的次数为一次而非多次，进而可避免第二过滤器FLT2中的高密度聚乙烯过滤膜在显影液DEP中容易溶解的问题。通过本公开实施例的结构配置，不仅可提高显影液过滤系统的过滤能力，并且也可以延长第二过滤器FLT2的使用寿命。

在某些实施例中，显影液过滤系统可进一步包含一或多个热交换器，设置于第二过滤器FLT2之前，以降低流入第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度。由于低温下第二过滤器FLT2于显影液DEP中溶出的正十二烷的溶出量可为在室温下的三分之一至四分之一，因此于显影液过滤系统中设置热交换器可以进一步延长第二过滤器FLT2的使用寿命。

在某些实施例中，显影液过滤系统还包含有一冷却装置114，连接于第二过滤器FLT2，以确保流经第二过滤器FLT2的显影液DEP的温度可以维持在所需的温度，以使第二过滤器FLT2的使用寿命可以进一步延长。

本公开一些实施例提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。其中第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

根据一些实施例，显影液包含醚类、酮类或酯类溶剂。

根据一些实施例，显影液过滤系统还包括至少一热交换器，设置于循环过滤模块与显影液供应槽之间、循环回路中或循环过滤模块与第二过滤器之间，并被配置以降低显影液的温度。

根据一些实施例，第一过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

根据一些实施例，第一过滤器的材质不同于第二过滤器的材质，且第二过滤器的过滤孔径小于第二过滤器的过滤孔径。

本公开一些实施例另提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块、一第二过滤器以及一冷却装置。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。冷却装置是连接第二过滤器，被配置以降低流经第二过滤器的显影液的温度。

根据一些实施例，第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜，且显影液包含醚类、酮类或酯类溶剂。

根据一些实施例，显影液过滤系统还包括至少一热交换器，设置于显影液供应槽与第二过滤器之间及/或流体控制器与第二过滤器之间，被配置以降低来自显影液供应槽及/或流体控制器的显影液的温度。

本公开实施例提供一种显影液的过滤方法，包含提供一显影液至一循环回路。显影液的过滤方法还包含于循环回路中以一第一过滤器过滤显影液。再者，显影液的过滤方法还包含由循环回路输出显影液至一检测级。显影液的过滤方法还包含降低显影液的温度。另外，显影液的过滤方法还包含通过一第二过滤器过滤提供至循环回路前的显影液循环回路输出的显影液。

根据一些实施例，第二过滤器的过滤孔径小于第一过滤器的过滤孔径。

以上虽然详细描述了实施例及它们的优势，但应该理解，在不背离所附权利要求限定的本公开的精神和范围的情况下，对本公开可作出各种变化、替代和修改。此外，本申请的范围不旨在限制于说明书中所述的制程、机器、制造、物质组成、工具、方法和步骤的特定实施例。作为本领域的普通技术人员将容易地从本公开中理解，根据本公开，可以利用现有的或今后将被开发的、执行与在本公开所述的对应实施例基本相同的功能或实现基本相同的结果的制程、机器、制造、物质组成、工具、方法或步骤。因此，所附权利要求旨在将这些制程、机器、制造、物质组成、工具、方法或步骤包括它们的范围内。此外，每一个权利要求构成一个单独的实施例，且不同权利要求和实施例的组合都在本公开的范围内。

Claims

1.一种显影液过滤系统，包含：

一循环过滤模块，包含：

一容置槽，选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自该显影液供应槽的一显影液；

至少一第一过滤器，被配置以过滤该循环过滤模块的一循环回路中的该显影液；以及

一流体控制器，被配置以选择地输出来自该第一过滤器的该显影液至一检测级；以及

一第二过滤器，设置于该显影液供应槽与该容置槽之间或设置于该流体控制器与该检测级之间，并设置于该循环回路外，被配置以过滤来自该显影液供应槽或来自该第一过滤器的该显影液，其中该第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

2.如权利要求1所述的显影液过滤系统，其中该显影液包含醚类、酮类或酯类溶剂。

3.如权利要求1所述的显影液过滤系统，其中该第一过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

4.如权利要求1所述的显影液过滤系统，其中该第一过滤器的材质不同于该第二过滤器的材质，且该第二过滤器的过滤孔径小于该第一过滤器的过滤孔径。

5.如权利要求1、2、3或4所述的显影液过滤系统，还包括至少一热交换器，设置于该循环过滤模块与该显影液供应槽之间、该循环回路中或该循环过滤模块与该第二过滤器之间，并被配置以降低该显影液的温度。

6.一种显影液过滤系统，包含：

一循环过滤模块，包含：

一流体控制器，被配置以选择地输出来自该第一过滤器的该显影液至一检测级；

一第二过滤器，设置于该显影液供应槽与该容置槽之间或设置于该流体控制器与该检测级之间，设置于该循环回路外，被配置以过滤来自该显影液供应槽或来自该第一过滤器的该显影液；以及

一冷却装置，连接该第二过滤器，被配置以降低流经该第二过滤器的该显影液的温度。

7.如权利要求6所述的显影液过滤系统，其中该第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜，且该显影液包含醚类、酮类或酯类溶剂。

8.如权利要求6或7所述的显影液过滤系统，还包括至少一热交换器，设置于该显影液供应槽与该第二过滤器之间及/或该流体控制器与该第二过滤器之间，并被配置以降低来自该显影液供应槽及/或该流体控制器的该显影液的温度。

9.一种显影液的过滤方法，包含：

提供一显影液至一循环回路；

于该循环回路中以一第一过滤器过滤该显影液；

由该循环回路输出该显影液至一检测级；

降低该显影液的温度；以及

通过一第二过滤器过滤提供至该循环回路前的该显影液或由该循环回路输出的该显影液，其中该第二过滤器设置于该循环回路外。

10.如权利要求9所述的显影液的过滤方法，其中该第二过滤器的过滤孔径小于该第一过滤器的过滤孔径。