CN109803751B - 高压均质器及使用该高压均质器制造石墨烯的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种高压均质器及使用该高压均质器制造石墨烯的方法，根据本发明的一个方面，提供一种高压均质器，该高压均质器包括通道模块，所述通道模块包括用于均质化的物体从其中通过的微通道，其中，所述微通道沿着物体通过的方向依次设有第一流动通道和第二流动通道，第一流动通道设有多个第一隔板，所述多个第一隔板设置成将微通道分隔为多个空间，所述第二流动通道设有多个第二隔板，所述多个第二隔板设置成将微通道分隔为多个空间，并且至少一个第一隔板设置成位于两个相邻的第二隔板之间。

Description

高压均质器及使用该高压均质器制造石墨烯的方法
技术领域
本发明涉及高压均质器及使用该高压均质器制造石墨烯的方法。
本申请要求2016年10月18日提交的韩国专利申请No.10-2016-0134895的优先权的权益，该韩国专利申请的全部公开内容通过引用并入本文中。
背景技术
石墨烯是一种半金属(metalloid)材料，其厚度相当于碳原子层，同时在二维上通过sp2键合形成以六边形连接的碳原子排列。近来，具有一个碳原子层的石墨烯片被报道为具有非常好的导电性。
由于石墨烯的优异性能，已经提出或研究了各种方法以从诸如石墨等碳基材料中更有效地大量生产石墨烯。具体地，已经对易于制造具有更薄厚度和更大面积的石墨烯片或石墨烯薄片的方法进行了各种研究。
图1是用于说明通过石墨(G)生产石墨烯薄片(GF)(或石墨烯)的工艺的示意图。
用作用于生产石墨烯的方法的高压均质器(HPH)是一种将高压施加到具有微米级直径的微通道并由此对通过的物质施加强剪切力的装置。具体地，当使用高压均质器使石墨剥离时，具有能够提高石墨烯产率的优点。
具体地，当使用高压均质器时，利用通过超高压推进的石墨分散液经过微通道的同时施加到石墨的剪切应力使石墨剥离，由此生产石墨烯。此时，石墨的厚度约为几百纳米，石墨烯的厚度约为2nm至30nm。
另一方面，对于石墨烯的剥离，重要的是在微通道中形成适当的流场，以便产生能够破坏层间结合力的程度的剪切应力。在使用高压均质器的石墨烯剥离工艺中，由于壁表面的粘结情况，在微通道内的壁表面附近，速度梯度增加，从而产生很大的剪切应力。然而，由于速度梯度在中心部分很小从而表现出低于剥离所需的临界剪切应力(critical shearstress)的很小的剪切应力，所以存在无法执行剥离的问题。
发明内容
技术问题
本发明要解决的问题是提供一种能够增加微通道内的剥离有效区域的高压均质器及使用该高压均质器制造石墨烯的方法。
另外，本发明要解决的另一个问题是提供一种能够使经过微通道的石墨烯颗粒受到的剪切应力的大小(magnitude)均匀化的高压均质器、以及使用该高压均质器制造石墨烯的方法。
技术方案
为了解决上述技术问题，根据本发明的一个方面，提供一种高压均质器，所述高压均质器包括具有微通道的通道模块，所均质化的物体通过所述微通道。
这里，微通道沿着物体通过的方向按顺序设有第一流动通道和第二流动通道。
另外，第一流动通道设有多个第一隔板，所述多个第一隔板设置成将微通道分隔为多个空间。
此外，所述第二流动通道设有多个第二隔板，所述多个第二隔板设置成将微通道分隔为多个空间。
此外，至少一个第一隔板设置成位于两个相邻的第二隔板之间。
根据本发明的另一个方面，还提供了一种高压均质器，所述高压均质器包括具有微通道的通道模块，所均质化的物体通过所述微通道，其中，所述微通道沿着物体通过的方向依次设有第一通道至第N通道(N>2，N是自然数)，通道模块包括流入通道和流出通道，物体在所述流入通道中被供给到微通道，通过微通道的物体被引入到流出通道，第一流动通道设有多个第一隔板，所述多个第一隔板布置成沿着宽度方向或高度方向将微通道分隔为多个空间，并且按顺序地，第N流动通道包括多个第N隔板，所述多个第N隔板布置成沿着宽度方向或高度方向将第N流动通道分隔为多个空间，并且，在微通道的N个区域中的两个相邻的区域中，基于微通道的流动截面，各个区域中设置的隔板针对每个区域以交错的状态布置。
根据本发明的另一个方面，提供一种使用高压均质器制造石墨烯的方法，所述方法包括以下步骤：向通道模块供给含有石墨的溶液；以及向通道模块施加100至3000巴的压力以使含有石墨的溶液通过。
有益效果
如上所述，与本发明的至少一个实施例有关的高压均质器和使用该高压均质器制造石墨烯的方法具有以下效果。
根据本发明，在使用高压均质器使石墨烯单层从石墨中剥离的工艺中，可以增大微通道中的剥离有效区域，从而提高生产率。
具体地，在微通道中设置一个或多个隔板，从而增大被施加石墨烯剥离所需的临界剪切应力(例如105l/s)以上的剪切应力(剪切速率)的区域。通过利用隔板分隔微通道的内部，能够增大壁面积，并且能够增大表现出较大剪切应力的剥离有效区域。
另外，通过在微通道的第一流动通道中沿着宽度方向或高度方向以预定间隔布置多个第一隔板，能够增大剥离有效区域；通过在第二流动通道中沿着宽度方向或高度方向以预定间隔布置多个第二隔板，能够增大剥离有效区域；并且通过将多个第一隔板和多个第二隔板以交错的状态进行布置，能够保持通过微通道的石墨烯颗粒受到的剪切应力的大小均匀。
附图说明
图1是用于说明通过石墨生产石墨烯薄片的工艺的示意图。
图2是示出与本发明有关的高压均质器的示意图。
图3至图5是示出与本发明的一个示例有关的高压均质器的通道模块的立体图。
图6是示出与对比例有关的高压均质器的立体图。
图7示出了使用图6中所示高压均质器的模拟结果。
图8分别示出了使用图5中所示高压均质器的模拟结果。
图9是用于说明本发明的效果的图。
具体实施方式
下文将参照附图详细描述根据本发明一个实施例的高压均质器以及使用该高压均质器制造石墨烯的方法。
此外，相同或相似的附图标记表示相同或相应的组件而不管附图标记如何，将省略关于附图标记的多余解释，并且为了便于解释，可以放大或缩小所示的每个构成部件的尺寸和形状。
图2是示出与本发明的一个示例有关的高压均质器(100)的示意图，图3至图5是示出与本发明的一个示例有关的高压均质器的通道模块(200)的立体图。
参照图2，高压均质器(100)是指将高压施加到具有微米级直径的微通道(210)并由此对通过微通道的物质(石墨分散液)施加强剪切力的装置。剪切应力用于对通过微通道(210)的物质进行粉碎和分散，并产生高分散的材料。
另一方面，由于高压均质器(100)设计和制造成用于通过强剪切应力物质的粉碎和破碎，因此通常使用非常短的微通道。然而，根据高压均质器(100)的用途，长度短的微通道可能是缺点。
特别是，像本发明一样，在通过利用高压均质器(100)剥离石墨(G)来制造石墨烯的情况下，当使用长度短的微通道时，为了产生薄的和均匀的石墨烯，必须增大微通道的通过次数，所以具有生产率降低的问题。此外，如果微通道的长度短，则流体通过微通道的速度变快，并且流体与流出部(103)的壁面碰撞的能量变高。由于这样的碰撞，因此存在由于石墨烯本身被粉碎因而所生产的石墨烯的尺寸减小的问题。因此，本发明提供一种高压均质器，其能够在施加石墨剥离所需的剪切应力的范围内减少微通道的通过次数，而不使石墨烯本身粉碎。
参照图2，高压均质器(100)包括通道模块(200)，通道模块(200)包括用于均质化的物体从其中通过的微通道。物体是上述的石墨(G)。高压均质器(100)包括流入部(101)和流出部(103)，物体经由流入部(101)向通道模块(200)供给，通过通道模块(200)的物体经由流出部(103)流出。在图2中，附图标记10表示含有石墨(G)分散液的容器，附图标记20表示含有从流出部(103)回收的石墨烯(GF)的容器。此外，高压均质器(100)包括泵，泵(100)产生用于推动物体使其通过通道模块(200)的压力。当物体利用由泵产生的压力通过微通道(210)时，实现均质化。
另一方面，通道模块(200)包括流入通道(201)和流出通道(202)，物体在流入通道(201)中被供给到微通道(210)，通过微通道(201)的物体从流出通道(202)中排出。此时，流入通道(201)设置成使得流动面积的至少一部分沿着物体的移动方向变小，流出通道(202)设置成使得流动面积的至少一部分沿着物体的移动方向增大。此外，微通道(210)可以设置成沿着物体的移动方向具有恒定的流动面积(截面面积)。
在本发明中，物体是石墨(G)，石墨(G)在微通道(210)中通过强剪切应力(剪切速率)被剥离以生产石墨烯(GF)。此时，优选地，微通道的长度2mm至1000mm，以便被施加石墨剥离所需的剪切力，并且此时，被施加剪切力的部分加长，同时通过微通道(210)的流体与流出部(103)的壁面碰撞的能量减小，因而石墨烯本身不会粉碎。更优选地，微通道的长度可以为2mm至60mm。
根据通过流场模拟来分析高压均质器(100)内部的流动的结果，已经证实的是，高压均质器中所示的能量消耗分成微通道入口处的能量损失(二次损失)、微通道内部的能量损失(直观损失)和微通道出口处的能量损失(二次损失)。具体地，已经证实的是，能量消耗很大，同时流动面积(通道截面面积)在微通道入口(第一流动通道侧)和微通道出口(第二流动通道侧)变化，并且微通道内部的能量消耗在整个能量消耗的约5％内。基于这点，已经证实的是，即使微通道(210)的长度增加，造成的能量消耗和流速的降低很微小，并且石墨烯剥离所需的剪切应力施加于微通道(210)的整个长度上。
另外，已经证实的是，微通道(210)的长度为30mm或更长的情况与在微通道(210)中具有2mm的长度的高压均质器中重复石墨烯剥离工艺15次的情况具有相同的效果。因此，通过增大微通道(210)的长度，能够减小通过微通道的次数，从而提高生产率。
微通道(210)可以具有截面A(通道截面)，截面A与用于均质化的物体的移动方向垂直，并且截面A为矩形形状。另外，微通道(210)可以具有宽度(w)大于高度(h)的矩形形状的截面。此外，优选地，微通道(210)的宽度与高度之比为2：1或更大，具体地，微通道(210)可以形成为其宽度与高度之比为2：1至10：1。此外，矩形的宽度(width)和幅度(breadth)可以分别为10μm至50000μm。在传统的高压均质器中，微通道的截面是圆形，但在本发明中采用比圆形形状具有更大的表面面积的矩形形状，由此流动通道的截面面积可以增大。另外，微通道可以具有1.0×102μm2至1.0×108μm2的截面面积。
在使用高压均质器100制造石墨烯的方法中，制造石墨烯的方法还包括向通道模块(200)供给含有石墨(G)的溶液的步骤以及向通道模块(200)施加压力以使含有石墨(G)的溶液通过的步骤。所施加的压力可以为100至3000巴。此外，可以从流出部(103)回收石墨烯(GF)分散液，然后将石墨烯(GF)分散液再引入到流入部(101)。再引入工艺可以重复2至30次。也可以使用单个高压均质器或依次使用多个高压均质器重复再引入工艺。
此外，制造石墨烯的方法可以包括从回收的石墨烯(GF)分散液中回收和干燥石墨烯的步骤。可以通过离心分离、在减小的压力下的过滤或压力过滤来进行回收步骤。可以通过真空干燥或温度为约30至200℃下的普通干燥来进行干燥步骤。此外，根据本发明所生产的石墨烯由于其尺寸大且均匀，所以具有利于展示石墨烯固有特性的优点。
参照图5，在该示例中，高压均质器(100)包括通道模块(200)，通道模块(200)包括用于均质化的物体通过的微通道(210)。在微通道(210)中，沿着物体从其中通过的方向依次设有第一流动通道(210a)和第二流动通道(210b)。此时，微通道能够保持流动面积(截面面积)沿着物体的移动方向恒定，并且第一流动通道(210a)和第二流动通道(210b)的流动截面面积能够沿着物体的移动方向保持恒定。
另外，第一流动通道(210a)可以是沿着物体的流出方向与通道模块(200)的前端部相对应的前端流动通道，第二流动通道(210b)可以是与通道模块(200)的后端部相对应的前端流动通道。此外，第一流动通道(210a)可以是沿着物体的流出方向比第二流动通道(210b)更靠近通道模块(200)的前端部的流动通道，第二流动通道(210b)可以是比第一流动通道(210a)更靠近通道模块(200)的后端部的流动通道。此外，第一流动通道(210a)和第二流动通道(210b)也可以称为彼此相邻且连续设置的两个区域，并且第一流动通道(210a)和第二流动通道(210b)也可以称为以预定间隔分开设置的两个区域。
第一流动通道(210a)设有多个第一隔板(230)，多个第一隔板(230)设置成将微通道(210)分隔为多个空间。第二流动通道(210b)设有多个第二隔板(240)，第二隔板(240)设置成将微通道(210)分隔为多个空间。
此时，多个第一隔板(230)可以沿着微通道的宽度方向或高度方向布置。类似地，多个第二隔板(240)可以沿着微通道的宽度方向或高度方向布置。
例如，当多个第一隔板(230)沿着微通道的宽度方向布置时，多个第二隔板(240)可以沿着微通道的宽度方向布置。或者，当多个第一隔板(230)沿着微通道的宽度方向布置时，多个第二隔板(240)可以沿着微通道的高度方向布置。或者，当多个第一隔板(230)沿着微通道的高度方向布置时，多个第二隔板(240)可以沿着微通道的高度方向布置。或者，当多个第一隔板(230)沿着微通道的高度方向布置时，多个第二隔板(240)可以沿着微通道的宽度方向布置。
此时，至少一个第一隔板(230)设置成位于两个相邻的第二隔板(240)之间。基于微通道(210)的流动截面，多个第一隔板(230)和多个第二隔板(240)以交错的状态布置。也就是说，基于微通道(210)的流动截面，至少一个第一隔板(230)设置成位于两个相邻的第二隔板(240)之间。
例如，当多个第一隔板(230)沿着微通道的宽度方向布置并且多个第二隔板(240)沿着微通道的宽度方向布置时，基于微通道(210)的流动截面，至少一个第一隔板(230)设置成沿着微通道的宽度方向位于两个相邻的第二隔板(240)之间。
另外，当多个第一隔板(230)沿着微通道的高度方向布置并且多个第二隔板(240)沿着微通道的高度方向布置时，基于微通道(210)的流动截面，至少一个第一隔板(230)设置成沿着微通道的高度方向位于两个相邻的第二隔板(240)之间。
此外，通道模块(200)包括：流入通道(201)，物体在流入通道(201)中被供给到微通道(210)：流出通道(202)，通过微通道(210)的物体被引入到流出通道(202)；多个第一隔板(230)，多个第一隔板(230)布置成沿着宽度方向(w)或高度方向(h)将第一流动通道(210a)分隔为多个空间；以及多个第二隔板(240)，多个第二隔板(240)布置成沿着宽度方向(w)或高度方向(h)将第二流动通道(210b)分隔为多个空间。
此外，第一隔板和第二隔板(230，240)设置成沿着宽度方向(w)或高度方向(h)将微通道(210)分隔为两个空间。为了便于说明，下文将以示例形式来说明沿着宽度方向将微通道分隔为多个空间的情况。例如，通道模块(200)设置成使得物体通过被第一隔板和第二隔板(230，240)分隔的各个空间(例如B)。
两个相邻的第一隔板(230)之间的间隔可以等于两个相邻的第二隔板(240)之间的间隔。具体地，第一隔板(230)所分隔的空间的流动截面面积和第二隔板(240)所分隔的空间的流动截面面积可以相等。也就是说，当石墨烯通过第一流动通道(210a)时，所分隔的空间(B)的流动截面面积可以等于石墨烯通过第二流动通道(210b)时所分隔的空间的流动截面面积。或者，两个相邻的第一隔板(230)之间的间隔可以与两个相邻的第二隔板(240)之间的间隔不同。具体地，第一隔板(230)所分隔的空间的流动截面面积与第二隔板(240)所分隔的空间的流动截面面积可以彼此不同。也就是说，当石墨烯通过第一流动通道(210a)时，所分隔的空间(B)的流动截面面积可以与石墨烯通过第二流动通道(210b)时所分隔的空间的流动截面面积不同。
另外，第一隔板(230)的长度也可以与第二隔板(240)的长度相同，第一隔板(230)的长度与第二隔板(240)的长度也可以彼此不同。
此外，石墨烯剥离所需的临界剪切应力(剪切速率)基于105l/s，并且图4中的区域A的总截面面积和图5中的区域B的总截面面积相同。然而，在图5中的区域B中，三个第一隔板(230)在宽度方向(w)上以相等的间隔设置在微通道(210)中，并且微通道(210)中的流动截面区域分隔为四个。
为了证实剥离有效区域通过第一隔板(230)被增大，在相同的流速条件下，使用流过微通道(210)的相同石墨分散液分别对未设置第一隔板和第二隔板的区域A(参见图4)以及设有三个第一隔板的区域B(参见图5)进行试验。然而，为了满足该相同的流速条件，施加到图5中所示的微通道的压力(泵压力)(约9.3巴)大于施加到图4中所示的微通道的压力(约6巴)。
作为试验的结果，在微通道中未安装任何隔板的区域A的情况中，证实了被施加石墨烯剥离所需的临界剪切应力(例如，105l/s)以上的剪切应力(剪切速率)的区域增大。剥离有效区域表示产生了大于临界剪切应力(剪切速率，105l/s)的剪切应力的区域。
或者，在图5中的区域B的情况中，可以证实的是，剥离有效区域(蓝色区域)增大(约23％)。
也就是说，如果在微通道(210)中设置一个或多个隔板(230，240)，则可以证实被施加石墨烯剥离所需的临界剪切应力(例如105l/s)以上的剪切应力(剪切速率)的区域增大。通过利用第一隔板和第二隔板(230，240)对微通道(210)的内部进行分隔，能够增大壁面积，并且能够增大较大的剪切应力出现的剥离有效区域。
另外，虽然已基于第一隔板(230)和第二隔板(240)对本发明进行了说明，但是本发明不限于此。例如，在微通道中，第一流动通道和第N流动通道(N>2，N是自然数)可以沿着物体通过的方向依次设置。也就是说，微通道可以沿着物体的流出方向分隔为N个区域。此时，第一流动通道可以设有设置为将微通道分隔为多个空间的多个第一隔板，并且按顺序地，第N流动通道可以设有设置为将微通道分隔为多个空间的多个第N隔板。此时，在沿着物体的流出方向的微通道的N个区域中的两个相邻区域中，各个区域中设置的隔板可以针对每个区域以交错的状态设置。也就是说，当石墨烯颗粒多次通过交错的隔板时，石墨烯剥离的均匀性变高。
图6是示出与对比例有关的高压均质器的立体图。
图6所示的高压均质器与本发明的一个示例的不同之处在于，高压均质器具有微通道仅通过第一隔板(230)分隔的结构。
图7示出了使用图6所示高压均质器的模拟结果，图8示出了使用图5中所示的高压均质器的模拟结果。
另外，图9是用于说明本发明的效果的图。
参照图7和图8的模拟结果，在每个通道模块中，微通道(210)具有2mm的长度、320μm的宽度和100μm的高度。
参照图7，其使用图6所示对比例进行模拟，附图标记C表示较大剪切应力出现的壁的附近，附图标记D表示流动通道的具有较小剪切应力的中央部(壁面与壁面之间的中央部)。基于流动截面面积，部分D对应于中央部。
或者，参照图8，微通道(210)被划分为第一流动通道(210a)和第二流动通道(210b)，并且多个第一隔板(230)和多个第二隔板(240)以交错的状态设置，使得在第一流动通道(210a)中具有较小剪切应力的流动通道中央部中流动的石墨烯颗粒的流动靠近第二流动通道(210b)中具有较大剪切应力的壁进行流动。也可以证实的是，靠近第一流动通道(210a)中具有较大剪切应力的壁流动的石墨烯颗粒的流动向第二流动通道(210b)中具有较小剪切应力的流动通道中央部流动。
因而，当第一流动通道(210a)和第二流动通道210b上的石墨烯颗粒受到的剪切应力的水平(剥离水平)变得均匀时，石墨烯厚度偏差减小。具体地，石墨颗粒在微通道(210)中受到多大的剪切应力决定石墨烯的厚度(剥离程度)。此外，当石墨烯颗粒在微通道(210)中受到的剪切应力均匀化时，石墨烯厚度偏差减小。
另外，剪切应力积分值可以用来定量比较石墨烯颗粒在微通道中受到的剪切应力。剪切应力积分值是通过对流动模拟结果中流体颗粒沿着流体颗粒的移动路径受到的剪切应力求积分而得到的值，其中，剪切应力积分值越大，所受到的剪切应力越大，因此可以将其视为高水平的剥离。
参照图9，可以证实的是，与对比例(图6所示的高压均质器)相比，示例(图5所示的高压均质器)中剪切应力积分值的分布变得较窄。也就是说，可以证实的是，颗粒受到的剪切应力的差减小，并且石墨烯厚度变得均匀。
本发明如上所述的优选实施例是出于说明的目的而公开的，其可以由本领域技术人员在本发明的思想和范围内进行修改、变化和补充，并且将认为这种修改、变化和补充落入所附权利要求内。
工业适用性
根据本发明，在使用高压均质器从石墨中剥离石墨烯单层的工艺中，微通道中的剥离有效区域可得以增加，从而提高了生产率。

Claims (16)

1.一种高压均质器，包括具有微通道的通道模块，所述微通道具有微米级直径，均质化的石墨烯颗粒通过所述微通道，
其中，所述微通道沿着所述石墨烯颗粒通过的方向按顺序设有第一流动通道和第二流动通道，
所述第一流动通道设有多个第一隔板，所述多个第一隔板设置成将所述微通道分隔为多个空间，
所述第二流动通道设有多个第二隔板，所述多个第二隔板设置成将所述微通道分隔为多个空间，并且
至少一个第一隔板设置成位于相邻的两个第二隔板之间，使得能够保持通过所述微通道的所述石墨烯颗粒受到的剪切应力的大小均匀。
2.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，所述第一隔板和所述第二隔板中的每一个设置成在宽度方向或高度方向上将所述微通道分隔为两个空间。
3.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，相邻的两个第一隔板之间的间隔等于相邻的两个第二隔板之间的间隔。
4.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，相邻的两个第一隔板之间的间隔与相邻的两个第二隔板之间的间隔不同。
5.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，所述第一隔板的长度与所述第二隔板的长度相同。
6.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，所述第一隔板的长度与所述第二隔板的长度不同。
7.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，所述通道模块设置成使得所述石墨烯颗粒通过由所述第一隔板和所述第二隔板分隔的各个空间。
8.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，所述微通道具有2mm至1000mm的长度。
9.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，在所述石墨烯颗粒的移动方向上，所述微通道的所述第一流动通道和所述第二流动通道具有恒定的流动面积。
10.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，所述微通道具有与均质化的所述石墨烯颗粒的移动方向垂直的矩形横截面。
11.根据权利要求10所述的高压均质器，
其中，所述微通道的所述横截面为宽度大于高度的矩形形状。
12.根据权利要求11所述的高压均质器，
其中，所述微通道的宽度与高度之比为2：1至10：1。
13.根据权利要求1所述的高压均质器，
其中，所述微通道具有1.0×102μm2至1.0×108μm2的横截面面积。
14.一种使用权利要求1至13中的任一项所述的高压均质器制造石墨烯的方法，包括以下步骤：
向所述通道模块供应含有石墨的溶液；以及
对所述通道模块施加100巴至3000巴的压力以使含有石墨的所述溶液通过。
15.一种高压均质器，包括具有微通道的通道模块，所述微通道具有微米级直径，均质化的石墨烯颗粒通过所述微通道，
其中，所述微通道沿着所述石墨烯颗粒通过的方向依次设有第一流动通道至第N流动通道，其中，N>2，
所述通道模块包括流入通道和流出通道，所述石墨烯颗粒在所述流入通道中被供应到所述微通道，通过所述微通道的所述石墨烯颗粒被引入到所述流出通道，
所述第一流动通道设有多个第一隔板，所述多个第一隔板设置成在宽度方向或高度方向上将所述第一流动通道分隔为多个空间，并且按顺序地，所述第N流动通道包括多个第N隔板，所述多个第N隔板设置成在宽度方向或高度方向上将所述第N流动通道分隔为多个空间，并且
在所述微通道的N个区域中的相邻的两个区域中，设置在各个区域中的隔板针对每个区域基于所述微通道的流动截面以交错的状态设置，使得能够保持通过所述微通道的所述石墨烯颗粒受到的剪切应力的大小均匀。
16.根据权利要求15所述的高压均质器，
其中，所述流入通道设置成使得流动面积的至少一部分沿着所述石墨烯颗粒的移动方向变小，并且所述流出通道设置成使得流动面积的至少一部分沿着所述石墨烯颗粒的移动方向增大。
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