CN109789000A - 与气道发育疗法组合的牙齿正畸移动 - Google Patents

与气道发育疗法组合的牙齿正畸移动 Download PDF

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Abstract

公开了用于在牙科治疗和/或正畸治疗的同时重塑气道的系统、装置和方法。所述系统可以具有一系列两个或更多个口腔器械，其构造成在两个或更多个连续步骤中渐进地重新定位上颌牙齿和下颌牙齿。所述系列中的每个口腔器械可以具有一个或更多个上颌块、一个或更多个下颌块、上颌口腔托架和下颌口腔托架。一个或更多个上颌块可以被附接到上颌口腔托架或与上颌口腔托架集成。一个或更多个下颌块可以被附接到下颌口腔托架或与下颌口腔托架集成。上颌口腔托架和下颌口腔托架可以被构造成将一个或更多个牙齿从牙齿第一位置移动到牙齿第二位置。上颌块和下颌块可以被构造成彼此相互作用以治疗睡眠呼吸障碍。

Description

与气道发育疗法组合的牙齿正畸移动
相关申请的交叉引用
本申请要求于2016年9月21日提交的美国临时申请第62/397,749号的优先权，出于所有目的，所述美国临时申请通过引用以其整体并入本文。
背景
1.技术领域：
公开了用于重塑气道的系统、装置和方法。更具体地，公开了用于在牙科治疗和/或正畸治疗的同时重塑气道的系统、装置和方法。
2.背景技术：
气道障碍影响很大一部分群体，并且被视为具有多种病因学和治疗方式的多因素病况(multifactorial conditions)。正畸治疗可以帮助气道的发展，这是用于气道障碍的治疗方式，本发明允许正畸治疗方式和气道治疗方式的组合使用。
气道障碍影响着估计3％的儿童群体和10％的成人群体的显著群体。来自气道障碍的病状范围从精神和身体恶化到致残疾病或甚至死亡。在儿童中，身体和认知发展可能被延迟或阻碍发展。成人临床表现可以包括疲劳、嗜睡、记忆力丧失和睡眠障碍。气道通过各种颅面结构形成。因此，颅面结构的评估对于治疗气道障碍至关重要。正畸治疗可以操纵颅面结构来重塑和打开儿童和成人患者的气道。将口腔气道装置与正畸治疗相结合不仅可以有助于正畸问题，还可以有助于患者的整体健康。这种结合疗法的结果不仅通过操纵牙弓，还通过操纵软组织的褶皱来建立气道的大小、形状和容积。
阻塞性睡眠呼吸暂停(OSA)是各种口腔和牙科器械多年来一直在解决的主要健康风险。然而，这些器械仅仅解决了与OSA相关联的症状——它们本质上不是治疗性的。本公开通过结合正畸治疗和OSA治疗来解决这些缺陷。同时地用正畸治疗来治疗OSA可以有利地缓解与OSA相关联的症状，同时通过扩大或以其它方式重塑气道来获得气道病况的治疗结果。
综合的牙科治疗应该包括考虑所涉及的结构，包括气道。本发明允许牙科提供者将气道发育疗法、阻塞性睡眠呼吸暂停和正畸治疗结合起来，以一种被认为是美丽的微笑和日夜都具有畅通气道的结果来结束。本发明允许用于待用正畸矫正器同时治疗的OSA和气道发育的多种不同的治疗原理。这包括但不限于使用正畸矫正器的下颌推进式器械(mandibular advancement style appliances)、腭和下颌扩张器。通过操纵3D模型，矫正器既可以作为牙齿的正畸移动器，也可以作为颌打开气道的理想位置。
存在将正畸治疗和/或牙科治疗与OSA器械结合的需要。结合这些方式的优点包括：(1)由于正畸推进和/或牙弓的加宽而打开气道，以潜在地治愈疾病或至少减轻症状，(2)仅在晚上佩戴的OSA器械可以导致颞下颌关节功能障碍或肌筋膜疼痛功能障碍，这可通过本文公开的日间和夜间器械有利地解决，(3)现有OSA装置可以导致牙齿的早上错位和/或长期使用导致正畸问题，这通过设计可以用本文公开的口腔器械来预防或以其它方式减轻，(4)本文公开的口腔器械可以在一系列两个或更多个步骤上滴定，以用软件和/或不同的斜坡设计实现理想的下颌推进和/或打开，这可以促进真正的铰合旋转以及颞下颌关节的平移，和/或(5)本文公开的口腔器械可以允许下颌自由运动，同时如果患者需要期望的治疗或舒适，具有将关节维持在固定位置的能力。
发明简要概述
本公开总体上涉及牙齿的组合正畸移动和/或牙科治疗、气道发育和睡眠呼吸障碍的治疗。
更具体地，公开了正畸和/或牙科气道发育系统、设备及其使用方法。公开的气道发育系统和设备可以同时移动牙齿和重塑气道。公开的气道发育系统和设备可以同时推进下颌骨和重塑气道。公开的气道发育系统设备可以同时扩张硬腭和/或软腭并重塑气道。公开的气道发育系统和设备可以同时增白牙齿和重塑气道。公开的气道发育系统和设备可以同时清洁牙齿和重塑气道。公开的气道发育系统和设备可以同时移动牙齿、推进下颌骨、扩张硬腭和/或软腭、增白牙齿、实施卫生治疗、重塑气道或其任意组合。
气道发育系统和设备可以具有牙托架和/或正畸矫正器托架(orthodonticaligner tray)。气道发育系统和设备可以具有气道发育块。气道发育块可以被附接到一个或更多个托架或与一个或更多个托架集成。
公开了用于睡眠呼吸障碍的治疗的口腔器械。例如，公开了口腔器械，其可以具有一个或更多个上颌块。口腔器械可以具有一个或更多个下颌块。口腔器械可以具有上颌口腔托架。一个或更多个上颌块可以被附接到上颌口腔托架或与上颌口腔托架集成。口腔器械可以具有下颌口腔托架。一个或更多个下颌块可以被附接到下颌口腔托架或与下颌口腔托架集成。上颌口腔托架和下颌口腔托架构造成将一个或更多个牙齿从牙齿第一位置移动到牙齿第二位置。每个上颌块可以具有上颌块引导表面。每个下颌块可以具有下颌块引导表面。每个上颌块引导表面可以与至少一个下颌块引导表面相对并构造成与至少一个下颌块引导表面相互作用，以进行以下中的至少一个：移动一个或更多个牙齿、推进下颌骨、增加上颌牙列和下颌牙列之间的咬合间分离(interocclusal separation)以及扩张腭。
公开了用于睡眠呼吸障碍的治疗的系统。例如，公开了一种系统，该系统可以具有一系列两个或更多个口腔器械，其构造成在两个或更多个连续步骤中渐进地重新定位上颌牙齿和下颌牙齿。该系列中的每个口腔器械可以具有一个或更多个上颌块。该系列中的每个口腔器械可以具有一个或更多个下颌块。该系列中的每个口腔器械可以具有上颌口腔托架。一个或更多个上颌块可以被附接到上颌口腔托架或与上颌口腔托架集成。该系列中的每个口腔器械可以具有下颌口腔托架。一个或更多个下颌块可以被附接到下颌口腔托架或与下颌口腔托架集成。上颌口腔托架和下颌口腔托架可以被构造成将一个或更多个牙齿从牙齿第一位置移动到牙齿第二位置。每个上颌块可以具有上颌块引导表面。每个下颌块可以具有下颌块引导表面。每个上颌块引导表面可以与至少一个下颌块引导表面相对并构造成与至少一个下颌块引导表面相互作用，以进行以下中的至少一个：移动一个或更多个牙齿、推进下颌骨、增加上颌牙列和下颌牙列之间的咬合间分离以及扩张腭。
公开了治疗睡眠呼吸障碍的方法。例如，公开了一种方法，该方法可以包括提供一系列两个或更多个口腔器械，其构造成在两个或更多个连续步骤中渐进地重新定位上颌牙齿和下颌牙齿。该系列中的每个口腔器械可以具有一个或更多个上颌块。该系列中的每个口腔器械可以具有一个或更多个下颌块。该系列中的每个口腔器械可以具有上颌口腔托架。一个或更多个上颌块可以被附接到上颌口腔托架或与上颌口腔托架集成。该系列中的每个口腔器械可以具有下颌口腔托架。一个或更多个下颌块可以被附接到下颌口腔托架或与下颌口腔托架集成。上颌口腔托架和下颌口腔托架可以被构造成将一个或更多个牙齿从牙齿第一位置移动到牙齿第二位置。每个上颌块可以具有上颌块引导表面。每个下颌块可以具有下颌块引导表面。每个上颌块引导表面可以与至少一个下颌块引导表面相对并构造成与至少一个下颌块引导表面相互作用，以进行以下中的至少一个：移动一个或更多个牙齿、推进下颌骨、增加上颌牙列和下颌牙列之间的咬合间分离以及扩张腭。
附图简述
示出和描述的附图是示例性实施方案并且非限制性的。相同的附图标记始终表示相同的或功能上等同的特征。
图1示出了口腔器械的气道发育块的变型的等距视图。
图2示出了图1的口腔器械的顶部正视图。
图3示出了处于组装构型的图1的口腔器械在压缩状态下的侧视等距视图。
图4示出了牙齿上的矫正器的变型的示意图。
图5示出了具有气道发育块的变型的牙齿上的上颌矫正器的变型的示意图。
图6示出了每一个都具有气道发育块的变型的牙齿上的上颌矫正器和下颌矫正器的变型的示意图。
图7示出了一系列口腔器械的变型的示意图。
图8示出了用于制造口腔器械的变型的过程的变型。
详细描述
公开了可以同时重塑和/或维持气道、实施正畸治疗、实施牙科治疗或其任意组合的系统、装置和方法。公开的系统、装置和方法可以对任何颅面结构实施正畸治疗，包括牙列、腭、上颌骨、下颌骨或其任意组合。公开的系统、装置和方法可以对牙齿实施任何牙科治疗，包括增白治疗、清洁治疗、牙龈退缩治疗或其任意组合。例如，公开了可以同时移动一个或更多个牙齿、推进下颌骨、使下颌骨后移、扩张硬腭和/或软腭、增白牙齿、清洁牙齿、治疗牙龈线退缩、重塑气道、维持气道或其任意组合的系统、装置和方法。
公开的系统、装置和方法可以通过操纵一个或更多个颅面结构来正畸地重塑气道。通过加宽牙弓、通过增加上牙齿和下牙齿之间的咬合间距离和/或通过推进下颌，气道可以被重塑成更开放的构型。气道可以在例如牙齿错位、错牙合和/或牙弓狭窄的正畸治疗的同时被重塑。另外地或可替代地，气道可以在牙齿增白、清洁和/或牙龈退缩治疗的同时被重塑。
更具体地，公开了口腔器械，其可以重塑和/或维持气道以治疗诸如阻塞性睡眠呼吸暂停(OSA)的睡眠呼吸障碍(SBD)和打鼾。公开的口腔器械可以通过同时操纵一个或更多个颅面结构和移动牙齿、清洁牙齿、增白牙齿或其任意组合来重塑气道。公开的口腔器械可以用各种正畸治疗方式(例如下颌推进、腭扩张和/或下颌扩张)来治疗SBD和打鼾。公开的口腔器械可以同时提供正畸和SBD治疗，并导致更正确地对齐的牙齿和更开放的气道。公开的口腔器械可以结合SBD治疗同时地提供牙齿增白、牙齿清洁和/或牙龈退缩治疗，并导致牙齿更白、牙齿更洁净、牙龈更健康、呼吸更清新和呼吸道更开放。
系统和设备
SBD器械疗法可以与牙齿的正畸移动(例如正畸矫正器治疗)相结合。公开的SBD器械可以同时重新定位颌和正畸地移动牙齿，例如，通过它们与矫正器治疗的结合。然而，公开的系统不仅简单地允许它们的结合，该系统还有利地允许它们的治疗彼此相互协调。
图1示出了用于重塑和/或维持气道的可定制口腔器械10的变型。器械10可以具有一个或更多个上颌块12和一个或更多个下颌块14。例如，器械10可以具有1个至6个上颌块12和1个至6个下颌块14。上颌块12的数目可以小于、等于、或大于下颌块14的数目。例如，图1示出了器械10可以具有两个上颌块12和两个下颌块14。作为另一个示例，器械10可以具有一个上颌块12和两个下颌块14，或反之亦然。器械10可以具有比下颌块14多一个、两个、三个、四个或五个的上颌块12，或反之亦然。器械10可以具有一个或更多个上颌块12并且没有下颌块14，或一个或更多个下颌块14并且没有上颌块12。块12、14可以放置在人的口腔中。
图1示出了器械10可以具有第一上颌块12a和第二上颌块12b。解剖学上，上颌第一块12a可以是左块，并且上颌第二块12b可以是右块，或反之亦然。上颌第一块和上颌第二块12a、12b可以被构造成分别放置在上颌牙弓的横向左侧和右侧。器械10可以具有第一下颌块14a和第二下颌块14b。解剖学上，下颌第一块14a可以是左块，并且下颌第二块14b可以是右块，或反之亦然。下颌第一块和下颌第二块14a、14b可以被构造成分别放置在下颌牙弓的横向左侧和右侧。
图1示出了块12、14可以各自具有颊侧16、舌侧18、前部20、后部22和牙齿表面24。每个上颌块12可以具有上颌牙齿表面24a和/或下颌牙齿表面24b。每个下颌块14可以具有上颌牙齿表面24a和/或下颌牙齿表面24b。表面24可以与牙齿的表面一致和/或可以具有几何形状以将一个或更多个牙齿从一个位置正畸地移动到另一个位置。上颌块和下颌块的一个或更多个表面24可以被构造成在一个或更多个牙齿的一部分上具有摩擦配合。
上颌块12的上颌牙齿表面24a可以具有构造成将一个或更多个上颌牙齿从第一位置移动到第二位置的表面几何形状。上颌块12的下颌牙齿表面24b可以是平坦的(例如，如图1所示)，或可以具有构造成将一个或更多个下颌牙齿从第一位置移动到第二位置的表面几何形状。下颌块14的下颌牙齿表面24b可以具有构造成将一个或更多个下颌牙齿从第一位置移动到第二位置的表面几何形状。下颌块14的上颌牙齿表面24a可以是平坦的(例如，如图1所示)，或可以具有构造成将一个或更多个上颌牙齿从第一位置移动到第二位置的表面几何形状。
一系列块12、14可以被设计成在两个或更多个连续步骤中渐进地重新定位上颌牙齿和/或下颌牙齿，例如，如在PCT公布WO 2016/004415和美国申请第15/386,280号(公布为US 2017/0100214)中关于正畸托架所公开的，为了所有目的，这两个申请都通过引用以其整体并入本文。系列中的每个块12、14可以具有表面24，该表面24具有与旨在用于系列中的块12、14的中间牙齿或端部牙齿布置相对应的几何形状。块12、14可以是足够地弹性的，以适应或符合排列不整齐的牙齿，但是对排列不整齐的牙齿施加足够的力以根据特定治疗步骤的需要将牙齿重新定位到中间或端部布置。一系列块12、14可以具有选择为通过一个或更多个连续的中间布置渐进地将牙齿从第一布置重新定位到最终布置的几何形状。如下所述，系列中的每个块可以具有与系列中的一个或更多个其它块相同或不同的尺寸。一系列块12、14可以具有1个至100个上颌块12和1个至100个下颌块14，例如1个至55个上颌块12和1个至55个下颌块14、1个至50个上颌块12和1个至50个下颌块14、1个至45个上颌块12和1个至45个下颌块14、1个至40个上颌块12和1个至40个下颌块14、少于40个上颌块12和少于40个下颌块或其任意组合。例如，一系列块可以具有40个、41个、42个、43个、44个、45个、46个、47个、48个、49个或50个上颌块12和40个、41个、42个、43个、44个、45个、46个、47个、48个、49个或50个下颌块14。系列中上颌块12的数目可以与下颌块14的数目相同或不同。
图1示出了上颌块12可以各自具有一个或更多个上颌块引导表面26(例如，1个至6个或更多个上颌引导表面26)，并且下颌块14可以各自具有一个或更多个下颌块引导表面28(例如，1个至6个或更多个下颌引导表面28)。引导表面26、28在本文中被不同地称为斜坡、止动件、牙合分离(disclusion)表面、扩张表面、搁置表面和/或其它类似术语。引导表面26可以在块12、14的任何部分上或界定块12、14的任何表面，例如，上颌块和下颌块12、14的前部和/或后部20、22。
图1示出了上颌块12的前部20可以具有一个上颌引导表面26，并且下颌块14的后部22可以具有一个下颌引导表面28。例如，图1示出了上颌第一块和上颌第二块12a、12b可以分别具有上颌第一引导表面和上颌第二引导表面26a、26b，并且下颌第一块和下颌第二块14a、14b可以分别具有下颌第一引导表面和下颌第二引导表面28a、28b。引导表面26、28的确切数目和取向可以是可定制的，并且取决于人对块12、块14、颅面结构、牙齿布置、正在实施的正畸治疗、正在实施的牙科治疗或其任意组合的耐受性(tolerance)，每个因素对于块12、块14的设计都是关键的。系列中的每个块可以具有与系列中的一个或更多个其它块相同或不同数目和/或取向的引导表面28a、28b。
虽然图1示出了上颌块12的前部20和下颌块14的后部22具有引导表面26、28(例如，引导表面26a、26b、28a、28b)，但是除了或代替图1所示的引导表面26、28，每个上颌块和下颌块的前部20和/或后部22可以具有一个或更多个引导表面。例如，上颌块12的后部22可以具有引导表面和/或下颌块14的前部20可以具有引导表面。然而，上颌和/或下颌块12的前部和/或后部20、22不需要具有引导表面。例如，图1示出了上颌块12的后部22和下颌块14的前部20可以具有不具有引导表面的端部。图1示出了上颌块12的后部22和下颌块14的前部20的端部可以具有平坦的或弯曲的表面，该平坦的或弯曲的表面的一部分垂直于或几乎垂直于咬合平面。
每个引导表面(例如，引导表面26、28)可以与相对的(也称为协作的、相互作用的、接合的、接触的或干涉的)引导表面成对。例如，块12、14可以成对，使得它们相应的引导表面26、28形成一个或更多个相应的引导表面对26-28。引导表面对中的每个引导表面可以被构造成与其相对的引导表面相互作用。例如，引导表面对26-28的相对引导表面可以被构造成可滑动地接合或以其它方式相对于彼此移动和/或被构造成彼此抵靠或以其它方式抑制或预防相对于彼此的移动。每个引导表面的至少一部分(包括整个引导表面)可以被构造成接触其相对的引导表面的至少一部分(包括整个相对的引导表面)，使得任何部分100％或更少被理解。图1示出了两个左块12a、14a可以形成左引导表面对26a-28a，并且两个右块12b、14b可以形成右引导表面对26b-28b。左对26a-28a的上颌引导表面和下颌引导表面26a、28a可以被设计成彼此相互作用，并且右对26b-28b的上颌引导表面和下颌引导表面26b、28b可以被设计成彼此相互作用。每个引导表面26、28可以以自引导的方式与其相对的引导表面相互作用。当牙齿正畸地移动时，引导表面26、28可以将下颌骨定位在解剖学上正确的关节位置。
每个引导表面26、28可以是一个或更多个平面表面或具有一个或更多个平面表面(例如，1个至50个平面表面)。例如，图1示出了每个引导表面26、28可以具有一个平面表面。然而，引导表面26、28可以具有任何表面几何形状，包括平面的、弯曲的(例如，一个或更多个凹部和/或凸部)、多边形的(例如，两个或更多个平面的任意组合)、不规则的或其任意组合。因此，尽管引导表面26、28可以起到引导平面的作用并且在一般特性上可以是平面的，但是不需要严格符合与平面相关联的平面度(flatness)。
引导表面26、28可以成角度，使得它们界定一个或更多个倾斜的、水平的和/或下降的平面表面。引导表面26、28可以相对于例如参考平面、参考表面或参考轴成一个或更多个角度。图1示出了上颌引导表面26(例如，上颌第一引导表面和上颌第二引导表面26a、26b)可以各自处于上颌引导表面角度30。上颌引导表面角度30可以是在上颌引导表面26和参考平面、参考表面或参考轴(例如上颌牙齿表面24a(或咬合平面)、上颌正畸矫正器(未示出)或其任意组合)之间形成的角度。上颌引导表面角度30可以从约0度至约90度，或更宽地从约0度至约150度。对于大于90度的角度，上颌引导表面26可以朝向上颌牙列，与远离上颌牙列相反。例如，上颌引导表面角度30可以从约15度至约75度、从约40度至约50度、从约30度至约60度、从约20度至约70度、或从约10度至约80度，包括这些范围内的每1度增量；例如，上颌引导表面角度30可以是约0度、约5度、约10度、约15度、约20度、约25度、约30度、约35度、约40度、约45度、约50度、约55度、约60度、约65度、约70度、约75度、约80度、约85度、约90度、约130度、约135度、约140度、约145度或约150度。这些范围内的角度和/或具有这些值的角度可以有利地允许上颌块和下颌块12、14可滑动地接合或以其它方式相对于彼此移动和/或彼此抵靠或以其它方式抑制或预防相对于彼此的移动。这些范围内的角度和/或具有这些值的角度可以有利地允许上颌块和下颌块12、14彼此接触(例如，可滑动地接触)，以将下颌骨移动和/或维持在向前位置和/或增加和/或维持上颌牙弓和下颌牙弓之间的咬合间分离。因此，这些范围内的角度和/或具有这些值的角度可以有利地促进将气道重塑为更开放的构型(例如，从不太开放的第一构型到更开放的第二构型)。系列中的每个上颌块12可以具有与系列中的一个或更多个其它上颌块12相同或不同的上颌引导表面角度30。
图1示出了下颌引导表面28(例如，下颌第一引导表面和下颌第二引导表面28a、28b)可以各自处于下颌引导表面角度32。下颌引导表面角度32可以是在下颌引导表面28和参考平面、参考表面或参考轴(诸如下颌牙齿表面24b(或咬合平面)、下颌正畸矫正器(未示出)或其任意组合)之间形成的角度。下颌引导表面角度32可以从约0度至约90度，或更宽地从约0度至约150度。对于大于90度的角度，下颌引导表面28可以朝向下颌牙列，与远离下颌牙列相反。例如，下颌引导表面角度32可以从约15度至约75度、从约40度至约50度、从约30度至约60度、从约20度至约70度、或从约10度至约80度，包括这些范围内的每1度增量；例如，下颌引导表面角度32可以是约0度、约5度、约10度、约15度、约20度、约25度、约30度、约35度、约40度、约45度、约50度、约55度、约60度、约65度、约70度、约75度、约80度、约85度、约90度、约130度、约135度、约140度、约145度或约150度。这些范围内的角度和/或具有这些值的角度可以有利地允许上颌块和下颌块12、14可滑动地接合或以其它方式相对于彼此移动和/或彼此抵靠或以其它方式抑制或预防相对于彼此的移动。这些范围内的角度和/或具有这些值的角度可以有利地允许上颌块和下颌块12、14彼此接触(例如，可滑动地接触)，以将下颌骨移动和/或维持在向前位置和/或增加和/或维持上颌牙弓和下颌牙弓之间的咬合间分离。因此，这些范围内的角度和/或具有这些值的角度可以有利地促进将气道重塑为更开放的构型(例如，从不太开放的第一构型到更开放的第二构型)。系列中的每个下颌块14可以具有与系列中的一个或更多个其它下颌块相同或不同的下颌引导表面角度32。
图1示出了上颌块对和下颌块对(例如，对12a-14a、对12b-14b)的上颌引导表面角度和下颌引导表面角度30、32可以是任何两个互补的或几乎互补的角度。例如，第一块对12a-14a和第二块对12b-14b可以具有约45-45度、40-50度、35-55度、30-60度、25-65度、20-70度、15-75度、10-80度、5-85度的角度对(以度为单位列为角度-角度)，或反之亦然——约45-45度、50-40度、55-35度、60-30度、65-25度、70-20度、75-15度、80-10度、85-5度。在每个角度-角度对中，上颌块12可以具有第一列出的互补角度，并且下颌块14可以具有第二列出的互补角度。在每个角度-角度对中，下颌块14可以具有第一列出的互补角度，并且上颌块12可以具有第二列出的互补角度。这样，上颌块和下颌块12、14可以形成如上文描述的协作块对12-14和引导表面26-28。然而，上颌引导表面角度和下颌引导表面角度30、32可以是非互补的，并且仍然使得引导表面26、28中的每一个的一个或更多个部分能够彼此协作。此外，引导表面26、28不需要形成表面角度30、32——这可以发生在例如引导表面是不规则的、弯曲的、多边形的或其任意组合的情况下，但是仍然有利地被构造成相互作用并用作引导表面。
图1示出了上颌第一块和上颌第二块12a、12b可以分别具有上颌第一引导表面角度和上颌第二引导表面角度30a、30b。上颌第一引导表面角度和上颌第二引导表面角度30a、30b可以彼此相同或不同。例如，上颌第一引导表面角度30a可以小于、等于或大于上颌第二引导表面角度30b。上颌第一引导表面角度30a可以大于或小于上颌第二引导表面角度30b从约1度至约90度、更窄地大于或小于上颌第二引导表面角度30b从约1度至约45度、但更窄地大于或小于上颌第二引导表面角度30b从约1度至约30度、仍更窄地大于或小于上颌第二引导表面角度30b从约1度至约15度、但仍更窄地大于或小于上颌第二引导表面角度30b从约1度至约5度，或反之亦然。
图1示出了下颌第一块和下颌第二块14a、14b可以分别具有下颌第一引导表面角度和下颌第二引导表面角度32a、32b。下颌第一引导表面角度和下颌第二引导表面角度32a、32b可以彼此相同或不同。例如，下颌第一引导表面角度32a可以小于、等于或大于下颌第二引导表面角度32b。下颌第一引导表面角度32a可以大于或小于下颌第二引导表面角度32b从约1度至约90度、更窄地大于或小于下颌第二引导表面角度32b从约1度至约45度、但更窄地大于或小于下颌第二引导表面角度32b从约1度至约30度、仍更窄地大于或小于下颌第二引导表面角度32b从约1度至约15度、但仍更窄地大于或小于下颌第二引导表面角度32b从约1度至约5度，或反之亦然。
图1示出了上颌引导表面26可以远离上颌牙列的咬合表面和/或远离上颌口腔托架(未示出，例如上颌正畸托架)延伸，例如朝向下颌骨延伸。下颌引导表面28可以远离下颌牙列的咬合表面和/或下颌口腔托架(未示出，例如下颌正畸托架)延伸，例如朝向上颌骨延伸。每个引导表面(例如，引导表面26、28)可以具有第一端和第二端。第一端和第二端可以是引导表面的基部，并且第二端可以是引导表面的顶部。上颌引导表面26的基部可以比上颌引导表面26的顶部更靠近上颌牙齿的表面和/或上颌口腔托架，并且下颌引导表面28的基部可以比下颌引导表面28的顶部更靠近下颌牙齿的表面和/或下颌口腔托架。例如，图1示出了上颌引导表面和下颌引导表面26、28的基部可以分别接近上颌咬合表面和下颌咬合表面并从上颌咬合表面和下颌咬合表面朝向相对的牙列延伸；然而，基部中的一个或更多个可以偏离咬合表面或口腔托架，使得偏离的基部与牙列或上颌或下颌口腔托架的表面分离约0.5mm至约50mm。顶部可以接近相对的牙列或与相对的牙列分离(例如，约0.5mm至约50mm)。图1示出了下颌引导表面28的顶部可以被构造成接近上颌牙列和/或口腔托架，并且上颌引导表面26的顶部可以被构造成与下颌牙列和/或口腔托架分离。
引导表面26、28可以沿着块的长度的任何部分延伸，例如，100％或更少、75％或更少、50％或更少、25％或更少。例如，图1示出了每个引导表面26、28可以沿着其各自的块的长度延伸约33％，从而有利地提供大的引导表面。沿着大于块的长度的约10％延伸的引导表面26、28可以有利地使治疗系列中的每个块12、14在使用者渐变(graduate)到下一块之前能够被用于更长的治疗周期。大于该10％阈值的引导表面可以减少治疗系列中所需的块12、14的数目。大于该10％阈值的引导表面可以提高使用者舒适度和用于使用者错误的耐受性。虽然未示出，但是每个上颌斜坡26可以沿着上颌块12的长度延伸约100％，例如，从上颌块第一端延伸至上颌块第二端，使得当从侧面观察时，上颌块12具有三角形楔形的形状。类似地，每个下颌斜坡28可以沿着下颌块14的长度延伸约100％，例如，从下颌块第一端延伸至下颌块第二端，使得当从侧面观察时，下颌块14具有三角形楔形的形状。
图1示出了上颌引导表面和下颌引导表面26、28可以纵向地倾斜，使得角度30、32是当引导表面26、28纵向地延伸穿过块12、14(例如，从块12、14的前部20延伸至后部22)时形成的角度。结果是，引导表面26、28可以形成一个或更多个纵向斜面。另外地或可替代地，上颌引导表面和下颌引导表面26、28可以横向地倾斜，使得角度30、32可以是当上颌引导表面26侧向地延伸穿过块(例如，从块12、14的第一侧面延伸至第二侧面(例如，从左至右和/或从右至左)，或从块12、14的纵向中心延伸至第一侧面和/或第二侧面)时形成的角度。结果是，引导表面26、28可以形成一个或更多个横向斜面。每个引导表面26、28可以具有纵向斜面和/或横向斜面。纵向引导表面和横向引导表面可以具有彼此相同或不同的斜面。例如，一个或更多个引导表面可以具有约35度的纵向斜面和约20度的横向斜面。一个或更多个纵向斜面可以通过推进下颌骨来重塑气道。一个或更多个横向斜面可以通过引起腭的扩张(例如通过在牙列上施加向外的力)来重塑气道。系列中的每个块可以具有与系列中的一个或更多个其它块相同或不同的纵向斜面和/或横向斜面。
图1示出了上颌块和下颌块12、14分别相对于上颌牙弓和下颌牙弓的相对位置。上颌块12(例如，上颌第一块和上颌第二块12a、12b)可以被构造成覆盖一个或更多个后牙和/或一个或更多个前牙。上颌块12可被构造成覆盖中切牙、侧切牙、犬齿、一个或更多个前臼齿、一个或更多个臼齿或其任意组合。图1示出了上颌第一块和上颌第二块12a、12b可以覆盖上颌牙弓的后端的一部分，例如第二臼齿和第三臼齿。下颌块14(例如，下颌第一块和下颌第二块14a、14b)可以被构造成覆盖一个或更多个后牙和/或一个或更多个前牙。下颌块14(例如，下颌第一块和下颌第二块14a、14b)可以被构造成覆盖中切牙、侧切牙、犬齿、一个或更多个前臼齿、一个或更多个臼齿或其任意组合。图1示出了下颌第一块和下颌第二块14a、14b可以覆盖下颌牙弓的后端和前部，例如第二前臼齿以及第一臼齿、第二臼齿和第三臼齿。系列中的每个块可以与系列中的一个或更多个其它块具有相同或不同的相对位置。
上颌块和/或下颌块12、14相对于牙列和/或彼此的位置可以由牙医、正畸医师、一个或更多个计算机算法或其组合来确定。例如，计算机程序可以用于从口腔数据采集装置(例如扫描仪、x射线装置、照相机)检索数据，以记录和测量正畸错牙合和牙齿错位。计算机程序可以用于从口腔数据采集装置检索数据，以记录和测量治疗期间错牙合和错位的正畸矫正。
图2和3示出了上颌块12(例如，上颌第一块和上颌第二块12a、12b)可以各自具有长度12L、宽度12W和高度12H。长度12L可以是从约1mm至约50mm，包括在约1mm和约50mm之间的每0.5mm的增量，例如约15.0mm。宽度12W可以是从约1mm至约30mm，包括在约1mm和约30mm之间的每0.5mm的增量，例如8.0mm。高度12H可以是从约1mm至约50mm，包括在约1mm和约50mm之间的每0.5mm的增量，例如18mm。系列中的每个上颌块12可以具有与系列中的一个或更多个其它上颌块12相同或不同的长度12L、宽度12W和/或高度12H。多个或连续的上颌块12的长度12L可以各自具有相同的长度或一个或更多个不同的长度12L。例如，多个或连续的上颌块12的长度12L可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，系列中的上颌块12的长度12L可以从约15.0mm增加至约20.0mm，反之亦然(例如，从约15.0mm减少至约10.0mm)，从约15.0mm增加至约18.0mm，并且然后减少至约16.5mm，或维持恒定在约15.0mm。多个或连续的上颌块12的宽度12W可以各自具有相同的宽度或一个或更多个不同的宽度12W。例如，多个或连续的上颌块12的宽度12W可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，系列中的上颌块12的宽度12W可以从约8.0mm增加至约13.0mm，反之亦然(例如，从约8.0mm减少至约3.0mm)，从约8.0mm增加至约11.0mm，并且然后减少至约10.0mm，或维持恒定在约8.0mm。多个或连续的上颌块12的高度12H可以各自具有相同的高度或一个或更多个不同的高度12H。高度12H可以是最大高度。例如，多个或连续的上颌块12的高度12H可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，系列中的上颌块12的高度12H可以从约10.0mm增加至约15.0mm，反之亦然(例如，从约15.0mm减少至约10.0mm)，从约8.0mm增加至约11.0mm，并且然后减少至约10.0mm，或维持恒定在约10.0mm。
图2和图3示出了下颌块14(例如，下颌第一块和下颌第二块14a、14b)可以各自具有长度14L、宽度14W和高度14H。长度14L可以是从约1mm至约50mm，包括在约1mm和约50mm之间的每0.5mm的增量，例如约35.0mm。宽度14W可以是从约1mm至约30mm，包括在约1mm和约30mm之间的每0.5mm的增量，例如8.0mm。高度12H可以是从约1mm至约50mm，包括在约1mm和约50mm之间的每0.5mm的增量，例如9mm。系列中的每个下颌块14可以具有与系列中的一个或更多个其它下颌块14相同或不同的长度14L、宽度14W和/或高度14H。多个或连续的下颌块14的长度14L可以各自具有相同的长度或一个或更多个不同的长度14L。例如，多个或连续的下颌块14的长度14L可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，系列中的下颌块14的长度14L可以从约35.0mm增加至约40.0mm，反之亦然(例如，从约35.0mm减少至约30.0mm)，从约35.0mm增加至约38.0mm，并且然后减少至约36.5mm，或维持恒定在约35.0mm。多个或连续的下颌块14的宽度14W可以各自具有相同的宽度或一个或更多个不同的宽度14W。例如，多个或连续的下颌块14的宽度14W可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，系列中的下颌块14的宽度14W可以从约8.0mm增加至约13.0mm，反之亦然(例如，从约8.0mm减少至约3.0mm)，从约8.0mm增加至约11.0mm，并且然后减少至约10.0mm，或维持恒定在约8.0mm。多个或连续的下颌块14的高度14H可以各自具有相同的高度或一个或更多个不同的高度14H。高度14H可以是最大高度。例如，多个或连续的下颌块14的高度14H可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，系列中的下颌块14的高度14H可以从约3.0mm增加至约8.0mm，反之亦然(例如，从约3.0mm减少至约0.5mm)，从约3.0mm增加至约6.0mm，并且然后减少至约4.5.0mm，或维持恒定在约3.0mm。
长度12L可以大于、等于或小于长度14L。例如，图2示出了长度12L可以小于长度14L。宽度12W可以大于、等于或小于宽度14W。例如，图2示出了宽度12W可以约等于宽度14W。高度12H可以大于、等于或小于高度14H。例如，图2示出了高度12H可以小于高度14H。每个块12、14可以具有一个或更多个长度、宽度、高度或其任意组合。
图3示出了引导表面26(例如，引导表面26b)可以具有引导表面长度26L，并且引导表面28(例如，引导表面28b)可以具有引导表面长度28L。表面长度26L可以是从约1mm至约50mm，包括在约1mm和约50mm之间的每0.5mm的增量，例如约5mm、约6mm、约7mm、约8mm、约9mm、约10mm、约11mm、约12mm、约13mm、约14mm、约15mm、约16mm、约17mm、约18mm、约19mm、约20mm。表面长度28L可以是从约1mm至约50mm，包括在约1mm和约50mm之间的每0.5mm的增量，例如约5mm、约6mm、约7mm、约8mm、约9mm、约10mm、约11mm、约12mm、约13mm、约14mm、约15mm、约16mm、约17mm、约18mm、约19mm、约20mm。系列中的每个块可以具有与系列中的一个或更多个其它块相同或不同的引导表面长度26L。多个或连续的上颌块12的引导表面长度26L可以各自具有相同的长度或一个或更多个不同的长度26L。例如，多个或连续的上颌块12的引导表面长度26L可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，一系列中的上颌块12的引导表面长度26L可以从约10.0mm增加至约20.0mm，反之亦然(例如，从约10.0mm减少至约5.0mm)，从约10.0mm增加至约13.0mm，并且然后减少至约5.0mm，或维持恒定在约10.0mm。多个或连续的下颌块14的引导表面长度28L可以各自具有相同的长度或一个或更多个不同的长度28L。例如，多个或连续的下颌块12的引导表面长度28L可以渐进地变长、渐进地变短、遵循另一种渐进模式(例如，增加和/或减少)，或维持恒定。例如，系列中的下颌块12的引导表面长度26L可以从约10.0mm增加至约20.0mm，反之亦然(例如，从约10.0mm减少至约5.0mm)，从约10.0增加至约13.0mm，并且然后减少至约5.0mm，或维持恒定在约10.0mm。
图3示出了上颌块和下颌块12、14中的一个或更多个可以具有自由表面25(也称为悬挂表面)，该自由表面25定位成与牙齿表面24(例如，牙齿表面24a和/或24b)相对，该自由表面25被构造成不接触相对的块(例如，相对的块的任何表面)、相对的牙齿或正畸托架、相对的牙列或其任意组合。例如，图1示出了一个或更多个上颌块12可以具有自由表面25。上颌第一块12a可以具有上颌第一块悬挂表面25a和/或上颌第二块12b可以具有上颌第二块悬挂表面25b。悬挂表面25可以有利地为口腔中的舌头提供更多的空间，增加气道的大小，并帮助维持气道打开。另外地或可替代地，悬挂表面可以有利地抑制或预防块12、14触发人的呕反射，例如，通过减小位于口腔后面的口腔器械10的大小。
图3示出了可以在自由悬挂表面25(例如，上颌第二块悬挂表面25b)和相对的牙列(例如，下颌牙列)之间形成间隙。间隙可以是从约0mm至约50mm、更窄地从约1mm至约20mm、但更窄地从约1mm至约15mm、但仍更窄地从约1mm至约10mm，包括在这些范围内的每0.5mm的增量，例如，约5mm、约6mm、约7mm、约8mm、约9mm、约10mm。间隙可以是自由表面25和相对的牙托架、正畸托架或牙齿之间的最短距离。间隙可以是自由表面25和相对的牙托架、正畸托架或牙齿之间的最大距离。间隙可以在相对的牙托架、正畸托架或牙齿上的任何点至悬挂表面25上的任何点之间测量。悬挂表面上的点可能与离相对的牙托架、正畸托架或牙齿最近或最远的点相对应，或可能与离相对的牙托架、正畸托架或牙齿最近或最远的点不对应。
图3示出了当颌处于闭合位置时上颌块和下颌块12、14彼此相对位置的变化。图3示出了当颌完全闭合时，上颌块12(例如，上颌第一块和上颌第二块12a、12b)的后部22的至少一部分可以在下颌块14(例如，下颌第一块和下颌第二块14a、14b)的后部22的至少一部分之后，或反之亦然(例如，如果块12、14的位置颠倒，使得上颌块12被放置在下颌牙弓上其相同的相对位置，并且下颌块14被放置在上颌牙弓上其相同的相对位置)。例如，图3示出了上颌块12不在下颌块14的斜坡的顶部之前延伸，并且因此在下颌块14的剩余部分之后。
本文公开的块12、14的尺寸和相对位置将取决于例如，人的气道、牙齿和/或正畸需要、它们的解剖结构、系列中的块的数目、系列中的口腔托架的数目、或其任意组合，并且可以被定制以适应，例如，人的气道、牙齿和/或正畸需要、它们的解剖结构、系列中的块的数目、系列中的口腔托架的数目、或其任意组合；因此，尽管公开了各种位置、范围和值，但是所公开的位置、范围和值及其等同物的每一种变换(permutation)被认为对口腔器械10的总体设计至关重要，因为当尺寸和位置的每一种组合一起用于重新定位颌、调整咬合、和/或重塑和/或维持人的气道时，其对于提供所需的治疗是至关重要的。此外，系列中的每个块可以具有公开的尺寸和位置的任意组合，因为系列中的每个块的设计将取决于人的独特的牙列和其它颅面结构以及实现的正畸和/或SBD治疗计划。如果前述公开内容仍然不清楚，那么在所公开的范围和值内的块尺寸和位置的每一种变换都在此明确公开，例如，以0.1mm的增量，使得块尺寸和/或相对位置的任意组合都是要求保护的。
第一上颌块和第二上颌块12a、12b可以经由一个或更多个上颌连接器连接。上颌连接器可以是符合上颌牙弓的至少一部分的颊侧、舌侧和/或咬合表面、沿着上颌牙弓的至少一部分的颊侧、舌侧和/或咬合表面延伸、或包裹上颌牙弓的至少一部分的颊侧、舌侧和/或咬合表面的线、弹性线、聚合物线股、弹性聚合物线股、牙托架、正畸托架或其任意组合。上颌连接器的第一端可以被附接到上颌第一块或上颌第二块12a、12b的任何部分或与上颌第一块或上颌第二块12a、12b的任何部分集成，并且上颌连接器的第二端可以被附接到上颌第一块或上颌第二块12a、12b中的另一个的任何部分或与上颌第一块或上颌第二块12a、12b中的另一个的任何部分集成。上颌连接器可以用于稳定第一上颌块和第二上颌块12a、12b。上颌连接器可以被设计和/或被操纵(例如，在一系列治疗中渐近地操纵)以正畸地移动上颌牙齿。第一下颌块和第二下颌块14a、14b可以经由一个或更多个下颌连接器连接。下颌连接器可以是符合下颌牙弓的至少一部分的颊侧、舌侧和/或咬合表面、沿着下颌牙弓的至少一部分的颊侧、舌侧和/或咬合表面延伸、或包裹下颌牙弓的至少一部分的颊侧、舌侧和/或咬合表面的线、弹性线、聚合物线股、弹性聚合物线股、牙托架、正畸托架或其任意组合。下颌连接器的第一端可以被附接到下颌第一块或下颌第二块14a、14b的任何部分或与下颌第一块或下颌第二块14a、14b的任何部分集成，并且下颌连接器的第二端可以被附接到下颌第一块或下颌第二块14a、14b中的另一个的任何部分或与下颌第一块或下颌第二块14a、14b中的另一个的任何部分集成。下颌连接器可以用于稳定第一下颌块和第二下颌块14a、14b。下颌连接器可以被设计和/或操纵(例如，在一系列治疗中渐进地操纵)以正畸地移动下颌牙齿。正畸托架和牙托架在全文中被单独地和共同地称为口腔托架，使得口腔托架可以是正畸托架和/或牙托架，例如，矫正器(也称为正畸托架)、增白托架、或正畸牙齿增白矫正器(其被构造成移动和增白至少一个牙齿)。口腔托架在全文中也称为矫正器和矫正器部件。
块12、14可以被附接到上颌和/或下颌口腔托架或与上颌和/或下颌口腔托架集成。例如，上颌块12可以与上颌和/或下颌口腔托架集成，和/或下颌块14可以与上颌和/或下颌口腔托架集成。一系列口腔托架可以被设计成在两个或更多个连续步骤中渐进地重新定位上颌牙齿和/或下颌牙齿，例如，如在PCT公布WO 2016/004415和美国申请第15/386,280号(公布为US 2017/0100214)中公开的，为了所有目的，这两个申请都通过引用以其整体并入本文。系列中的每个口腔托架可以具有牙齿表面，该牙齿表面具有与旨在用于系列中的口腔托架的中间牙齿或端部牙齿布置相对应的几何形状。口腔托架可以是足够地弹性的，以适应或符合排列不整齐的牙齿，但是对排列不整齐的牙齿施加足够的力以根据特定治疗步骤的需要将牙齿重新定位到中间或端部布置。一系列口腔托架可以具有选择为通过一个或更多个连续的中间布置渐进地将牙齿从第一布置重新定位到最终布置的几何形状。一系列托架可以具有1个至100个上颌托架和1个至100个下颌托架，例如，1个至55个上颌托架和1个至55个下颌托架、1个至50个上颌托架和1个至50个下颌托架、1个至45个上颌托架和1个至45个下颌托架、1个至40个上颌托架和1个至40个下颌托架、少于40个上颌托架12和少于40个下颌托架，包括在这些范围内的每1个托架增量，或其任意组合。例如，一系列托架可以具有40个、41个、42个、43个、44个、45个、46个、47个、48个、49个或50个上颌托架和40个、41个、42个、43个、44个、45个、46个、47个、48个、49个或50个下颌托架。系列中上颌托架的数目可以与下颌托架的数目相同或不同。托架可以将牙齿正畸地移动到一个或更多个正确的生理位置。例如，托架可以将牙齿正畸地移动到生理上允许气道更开放的一个或更多个位置。
系列中的每个托架可以被构造成移动一个或更多个牙齿，或系列中的一个或更多个托架可以被构造成不移动任何牙齿。例如，在下颌牙齿处于期望的对齐但上颌牙齿的位置仍需要调整的情况下，下颌托架可以被构造成维持下颌牙齿的位置，并且上颌托架可以被构造成移动一个或更多个上颌牙齿。块12、14可以是模块化的，使得它们可以可移除地被附接到上颌和/或下颌口腔托架，例如，附接到正畸托架和/或牙托架(即，没有正畸功能的任何托架)。可以用一个或多个附接机构(也称为锚件)将块12、14附接到一个或多个口腔托架，该附接机构诸如扣环、夹子、钩、弹性钩、倒钩、刺、紧固件或其任意组合。另外地或可替代地，块12、14可以用摩擦配合和/或卡扣配合(snap fit)装配在口腔托架的一部分上。例如，口腔托架可以具有脊部，块12、14可以咬在该脊部上。脊部可以至少部分地沿着口腔托架的表面延伸。每个上颌块12的第一端(例如，基部)可以锚定到上颌口腔托架。每个上颌块12的第二端(例如，顶部部分)可以锚定到下颌口腔托架。每个下颌块14的第一端(例如，基部)可以锚定到下颌口腔托架。每个下颌块14的第二端(例如，顶部部分)可以锚定到上颌口腔托架。如在WO 2016/004415中公开的，一系列正畸托架被设计的情况下，模块化的块设计可以是特别有利的，因为模块化设计可以允许块12、14沿着上颌和/或下颌牙列的弓在单个矫正器或多个连续的矫正器上重复使用和/或重新定位。模块化设计可以有利地允许一个或更多个块12、14从口腔托架上的第一位置重新定位到口腔托架上的不同于第一位置的一个或更多个其它位置。例如，模块化设计可以允许在一个或多个口腔托架上对系列中的每个块(例如，块12和/或14)重新定位1次至100次，包括在1次和100次之间的每个1次的增量。模块化设计还可以有利地允许一系列块与口腔托架系列中的每个口腔托架混合和匹配。
引导表面对26-28(例如，对26a-28a和/或对26b-28b)中的一个或两个引导表面可以具有涂层，或以其它方式包括许可在第一方向上在两个相对的引导表面之间的相对运动并且阻止在与第一方向相反的第二方向上在两个相对的引导表面之间的相对运动的材料。例如，下颌块14可以被构造成在两个相对的上颌块和下颌块12、14之间施加压缩力时(例如，在从打开位置闭合颌时或通过其它方式在“咬住”块12、14上时)，接合上颌块12并且沿着上颌块12的引导表面26向前滑动。作为另一个示例，下颌块14可以被构造成当颌松弛或主动打开并且然后松弛时，接合上颌块12并且在第一方向上沿着上颌块12的引导表面26向前滑动，并且预防或抑制下颌块14在与第一方向相反的第二方向上沿着引导表面26滑动。引导表面(例如，引导表面26和/或28)可以具有与下颌块12在第一方向上的移动相关联的第一摩擦系数和与下颌块12在与第一方向相反的第二方向上的移动相关联的第二摩擦系数。第二摩擦系数可以大于第一摩擦系数。第一摩擦系数和第二摩擦系数可以是静态摩擦系数μs。第一摩擦系数和第二摩擦系数可以是动态摩擦系数μk。
引导表面对26-28(例如，对26a-28a和/或对26b-28b)中的一个或两个引导表面可以具有涂层，或以其它方式包括当两个相对的引导表面相互作用时抑制它们之间相对运动的材料(例如，粘合剂或铁磁材料)。另外地或可替代地，一个或更多个磁体可以放置在块12、13中，使得上颌块12磁性地吸引下颌块14，或反之亦然。
上颌块和下颌块12、14可以包括热塑性材料。上颌块和下颌块12、14可以借助于计算机算法热成形。上颌矫正器和下颌矫正器可以包括热塑性材料。上颌矫正器和下颌矫正器可以借助计算机程序热成形。上颌块12和上颌矫正器可以被附接到彼此、彼此集成、或彼此一体地形成。下颌块14和下颌矫正器可以附接到彼此、彼此集成、或彼此一体地形成。
上颌块和下颌块12、14可以是刚性的，使得它们抵抗压力下的变形，或是半刚性的，使得它们许可压力下的变形和/或柔性。半刚性和/或柔性材料可以有利地增加使用者的舒适度，并预防、抑制或限制睡眠磨牙症。
块12、14可以是实心的或空心的。例如，块12、14可以具有一个或更多个气道通道(例如，1个至10个或更多个气道通道)。气道通道可以至少部分地侧向地和/或至少部分地纵向地延伸通过块12、14。气道通道可以从颊侧16到舌侧18延伸通过块12、14。气道通道可以从前侧到后侧延伸通过块12、14。上颌块12的一个或更多个气道通道可以与下颌块14的一个或更多个通道至少部分地对齐(例如，部分地或完全地共线)。每个通道可以具有前端和后端。前块(例如，图1中的下颌块14)的通道的后端可以与后块(例如，图1中的上颌块12)的通道的前端完全地或部分地重叠。后块(例如，图1中的上颌块12)的气道通道的后端可以指向咽部，以促进吸入和呼出。后块(例如，图1中的上颌块12)中的气道通道的后部可以弯曲，使得后块的后端指向咽部或舌头的基部。气道通道可以是直的、弯曲的、锥形的或其任意组合。
协作的块对12-14可以具有1个至10个或更多个气道通道。例如，协作的块对12a-14a和12b-14b可以各自具有一个上颌气道通道和两个下颌气道通道，它们至少部分地纵向地和/或侧向地延伸通过块12a、12b、14a、14b。下颌气道通道中的一个可以至少部分地与上颌气道通道对齐。三个气道通道(一个上颌通道和两个下颌通道)由此可以有利地形成从口腔器械10的前部到口腔器械10的后部的两个气道通道。口腔器械10中的一个或更多个气道通道可以借助于通过允许空气流动通过块12、14增加可用于通过口腔的气流的口腔的尺寸来减少口腔中的死腔的量。通过增加口腔中可用于气流的容积，一个或更多个气道通道可以有利地减少吸入和呼出所需的呼吸运作(respiratory effort)的量和/或降低空气穿过口腔的速度，并且因此可以反过来预防、抑制和/或减少SBD事件和/或打鼾发生的可能性。一个或更多个气道通道可以和/或可以帮助预防、抑制和/或减少SBD和/或打鼾。
共同地或单独地，气道通道可以是与块基本上相同的大小，或任何更小的大小。例如，气道通道的横向和/或纵向横截面面积可以是块12、14的横向和/或纵向横截面面积的约1％至约100％，更窄地，从约1％至约95％，仍更窄地，从约1％至约90％，包括这些范围内的每1％的增量，例如约25％、50％、75％、90％或95％。气道通道的长度可以是块12、14的长度的约1％至约100％，更窄地，从约1％至约90％，仍更窄地，从约1％至约80％，包括这些范围内的每1％的增量，例如约25％、50％、75％或95％。气道通道可以侧向地延伸穿过块12、14，使得气道通道延伸穿过块的宽度的约1％至约100％，更窄地，从约1％至约90％，仍更窄地，从约1％至约80％，包括这些范围内的每1％的增量，例如约25％、50％、75％或95％。
一个或更多个传感器可以定位在一个或多个气道通道中、集成在一个或多个气道通道的壁中、集成或定位在一个或多个块12、14的外表面上、集成在一个或多个块12、14中、集成或定位在一个或更多个口腔托架上或其任意组合。一个或更多个传感器可以是流量传感器、压力传感器、温度传感器或其任意组合。传感器可以与控制器通信，该控制器配置成当检测到阻碍时，例如当流量传感器检测到超过时间间隔阈值的流量停止或减少时，当压力传感器检测到超过压降阈值的压降时，当温度传感器检测到超过温度阈值的呼出或口腔空气的温度升高时，或其任意组合时，激活警报。警报可以是听觉的和/或触觉的(例如振动)，并且可以从警报机构(包括，例如控制器)发出。控制器可以与口腔装置10集成或与其无线通信。控制器可以被配置成向智能手机或其它计算装置传达警报信号，智能手机或其它计算装置可以处理该信号并发出听觉的和/或触觉的警报。警报可以被配置成将人从潜在地危险的SBD事件中唤醒。一个或更多个传感器(例如，一个或更多个压力传感器)可以与控制器通信，以检测口腔器械10是正确地定位还是不正确地定位。控制器可以被配置成如果口腔器械10不正确地定位，例如，如果它在人睡觉时移位(例如，如果一个或更多个压力传感器检测到超过压降阈值的压降)，则激活警报。
使用方法
口腔器械10或一系列口腔器械10可以放置在口腔中，如图3所示。
块12、14可以促进或以其它方式鼓励人张开他们的嘴和/或向前移动他们的下颌骨，例如，归因于块12、14的大小和/或形状，和/或归因于当人张开他们的嘴和/或在口腔中放置口腔器械之后咬住块时块12、14之间的相互作用。块12、14的大小可以使人将他们的嘴张开至少与块12、14的最小厚度(例如，块的长度、宽度和/或高度)一样宽，以适应块12、14在口腔中的放置。
块12、14的大小和/或形状可被构造成鼓励人在咬住或不咬住块12、14时向前移动他们的下颌骨。例如，当人咬住块12、14时，块12、14可以相互作用以向前移动下颌骨。然而，人可以在向前移动或不向前移动他们的下颌骨时使用块12、14。块12、14的大小和/或形状可以被构造成推进人的下颌骨。块12、14的大小和/或形状可以被构造成不推进人的下颌骨。
块12、14的大小和/或形状可以使下颌骨从后移位置、中立位置或推进位置推进。块12、14的大小和/或形状可以预防、抑制或限制相对于下颌骨的后移位置、中立位置或推进位置的下颌后移，无论这种位置是人的自然位置，还是其由块12、14引起。以这种方式，块12、14可以被构造成彼此相互作用以重塑和/或维持气道，并且预防、抑制或限制气道部分地和/或整体地闭合以治疗SBD，例如从部分地或整体地开放的构型。这种布置可以通过重新定位颌和/或通过打开气道有利地提供SBD治疗。
如上文描述的，一个或更多个上颌块12可以与一个或更多个下颌块14协作，以重新定位颌、调整咬合、和/或重塑和/或维持气道。图3示出了块12、14可以彼此协作以向前移动下颌骨。图3还示出了块12、14可以彼此协作(例如通过增加上颌牙列和下颌牙列之间的咬合间分离)以将气道重塑为一个或更多个开放的构型。块12、14可以被设计成当块12、14彼此接合时将下颌骨维持在一个或更多个向前的位置。块12、14还可以被设计成将气道维持在一个或更多个开放的构型，包括至少部分地由块12、14的相互作用引起的一个或更多个重塑的构型。块12、14可以彼此相互作用，以通过相对于上颌骨重新定位(也称为移置)下颌骨来重塑气道。例如，块12、14可以被构造成当块12、14彼此相互作用时，向前移动下颌骨和/或增加上颌牙弓和下颌牙弓之间的咬合间分离。这种移置可以有利地重新定位颌、调整咬合、和/或重塑气道，并且使气道变得更加开放——从而提供SBD治疗。
块12、14可以彼此相互作用，以通过维持下颌骨相对于上颌骨的中立位置(例如，非推进位置)或移置位置(例如，推进位置)来调节咬合。块12、14还可以彼此相互作用，以通过维持下颌骨相对于上颌骨的中立位置(例如，非推进位置)或移置位置(例如，推进位置)来维持开放的气道。例如，当下颌骨处于中立位置和/或移置位置时，块12、14可以预防、抑制或限制下颌骨的后移和/或咬合间距离的减小。这种下颌支撑可以通过训练颌回到新的、或修改的中立位置来有利地治疗SBD。这种下颌支撑还可以有利地预防、抑制或限制舌头后退并使气道塌陷。中立位置被认为是任何自然咬合位置。移置位置被认为是任何非移置位置，例如，任何推进位置和/或后移位置(自然的或强加的)。块12、14可以使移置的下颌位置变成新的自然咬合位置，例如，通过随时间正畸地操纵(例如，用一系列托架和/或块渐进地操纵)颅面结构，使得下颌骨和相关结构获得新的平衡(例如，中立)位置。
块12、14可以彼此相互作用，以加宽上颌(也称为上(superior)或上(upper))牙弓和/或下颌(也称为下(inferior)或下(lower))牙弓。例如，块12、14可以具有一个或更多个横向斜面，这些斜面可以彼此相互作用以加宽硬腭和/或软腭。这种加宽可以有利地重塑气道，并使其变得更加开放。加宽下颌牙弓可以增加舌下空间的大小，并减少舌头在口腔中造成的阻碍的量。加宽上颌牙弓可以导致腭扩张，并从而增加口腔的大小。
块12、14可以相互作用以暂时地或永久地向前移动下颌骨。块12、14还可以相互作用以使气道暂时地或永久地发展更开放的构型。块12、14可以被构造成暂时地或永久地操纵颅面结构。
口腔器械10的一个或更多个引导表面对26-28(例如，对26a-28a和/或对26b-28b)可以以这样的方式相互作用，以预防、抑制或限制下颌骨和相关结构(例如，舌头)的向后移动，例如SBD。上颌引导表面和下颌引导表面26、28可以被构造成在整个治疗过程中或仅在治疗的一部分期间彼此相互作用或以其它方式彼此接触。如上文描述的，块12、14可以被构造成以自引导的方式相互作用。
图3示出了一对协作的引导表面26b、28b可以相互作用以将下颌骨推进到向前位置(也称为推进位置)。图3还示出了这种推进可以增加牙弓之间的咬合间距离，但是SBD器械10也可以推进下颌骨而不增加咬合间距离。当咬合间距离增加时，所得的咬合间距离可以大于自然咬合间距离，如果不使用引导表面26、28而简单地推进颌，弓之间会以其它方式导致这种自然咬合间距离。例如，所得的咬合间距离可以大于自然咬合间分离，当紧咬时向前推进下颌骨时，前牙的对齐会导致这种自然咬合间分离。当在下颌骨推进时前牙不会产生自然牙合分离的情况下，由此所得的咬合间距离可以当下颌骨推进时仅仅归因于一对或更多对协作的引导表面26、28。
图3示出了用一对协作的引导表面26、28闭合颌可以将下颌骨向前推进推进距离34。推进距离34可以从约0mm至约30mm、更窄地从约0mm至约20mm、但更窄地从约0mm至约10mm、但仍更窄地从约5mm至约10mm，包括在这些范围内的每0.25mm的增量，例如，约5mm、约6mm、约7mm、约8mm、约9mm、约10mm、约11mm、约12mm、约13mm、约14mm、约15mm、约16mm、约17mm、约18mm、约19mm、约20mm。图3示出了一对协作的引导表面26、28可以将下颌骨向前推进足够的推进距离34，以人工地创建反颌(也称为III类错牙合)。例如，一对协作的引导表面26、28可以向前推进下颌骨，使得上颌切牙在下颌切牙的前周界(相对于臼齿所在的后周界)内，例如在从约0.5mm至约5.0mm，包括在该范围内的每0.25mm的增量。
用一对协作的引导表面26、28闭合颌可以将牙弓之间的咬合间距离36从约0mm增加至约60mm、更窄地从约0mm增加至约50mm、更窄地从约0mm增加至约40mm、但更窄地从约0mm增加至约30mm、但仍更窄地从约0mm增加至约20mm、但仍更窄地从约0mm至约10mm，包括在这些范围内的每0.25mm的增量，例如，约30mm、约31mm、约32mm、约33mm、约34mm、约35mm、约36mm、约37mm、约38mm、约39mm、约40mm。自然牙合分离的范围可以在从约0mm至约10mm的范围，包括在这个范围内的每0.25mm的增量。咬合间距离36可以是上颌块12的高度12H、下颌块14的高度14H或其组合。
当颌闭合时，例如从开放的构型至闭合的(或更不开放的)构型，每一对协作的引导表面26、28(例如，引导表面26b、28b)的至少一部分可以彼此接触。每一对相对的引导表面26、28的至少一部分可以可滑动地彼此接触，使得当颌闭合时，例如从开放的构型至更不开放的构型，引导表面26、28的至少一部分滑过彼此以推进下颌骨并增加咬合间距离。协作的引导表面可以具有从不接触时的0mm至接触时的约1mm至约30mm的范围的接触长度，包括在该范围内的每0.5mm的增量。当下颌骨抵靠上颌骨闭合时，或等效地，当下颌牙列抵靠上颌牙列闭合时，接触长度可以从0mm增加至最大接触长度。图3示出了协作的引导表面26、28可以具有约3mm至约15mm的最大接触长度，包括在该范围内的每0.5mm的增量，例如12mm。最大接触长度可以是协作的引导表面26、28中的一个或两个的整个长度或仅部分长度。图3示出了最大接触长度可以是上颌引导表面26的长度。可替代地或另外地，每一对相对的引导表面26、28的至少一部分可被构造成不可滑动地彼此接触，而是仅在颌开放时彼此抵靠，以预防、抑制或限制下颌骨的后移。
例如，当颌部分地或完全地闭合时，每一对协作的引导表面26、28(例如，引导表面26b、28b)的至少一部分可以接触其相对的引导表面，使得引导表面26、28中的至少一个预防、抑制或限制下颌骨的向后移动。例如，图3示出了上颌第二引导表面26b可以干扰(例如，预防、抑制或限制)下颌第二引导表面28b的任何向后移动，从而干扰下颌第二块14b和下颌骨的任何向后移动。
上颌块和下颌块12、14可以协作以允许下颌骨在颌处于完全闭合位置时在多个方向上移动，例如，从一侧到另一侧、从前向后和/或向上和向下(或在任何三个相互正交的参考平面中)。例如，块12、14可以具有沿三个或更少参考平面/轴线的约1mm至约5mm的移动公差(例如，包括在该范围内的每0.25mm的增量)，以有利地最大化舒适度，降低SBD装置10引起新SBD问题的可能性，最小化睡眠磨牙症，和/或抑制块12、14在同时治疗SBD和/或打鼾时移位。后-前引导表面对的后引导表面可以例如抵抗但允许前引导表面的向后移动。后引导表面和前引导表面可以是任何两个相对的表面，例如上颌第二引导表面26b和下颌第二引导表面28b对，其中上颌第二引导表面26b在下颌第二引导表面28b的后面。可替代地或另外地，后引导表面可以自由地允许前引导表面在公差范围内的向后移动，并且然后开始阻止进一步的向后移动。例如，后引导表面和前引导表面(例如，后引导表面26和前引导表面28)可以部分地或整体地涂覆有上文描述的涂层。上颌引导表面角度和下颌引导表面角度30、32可以具有这样的角度，当下颌骨向后移动时，该角度自引导下颌骨返回到更向前的位置。上颌块和下颌块12、14可以协作以允许下颌骨当颌被打开和闭合时具有六个自由度。当下颌骨处于推进位置时，上颌块和下颌块12、14可以锁定在一起，并且上颌块和下颌块12、14可以允许在公差范围内在一个、二个、三个、四个、五个和/或六个自由度内移动。
可替代地或另外地，本文公开的口腔器械10可以允许自由的下颌运动，除了当它们处于彼此相互作用的位置时通过两个相对的引导表面对26、28预防、抑制或限制的后移。
如上文描述的，一系列块12、14可以被设计和应用，或随着时间推移被使用，以移动一个或更多个牙齿、推进和/或维持下颌骨的位置、增加咬合间距离36和/或在一系列的两个或更多个连续步骤中加宽硬腭和/或软腭。下文公开了示例性的尺寸变化，但是这些决不是限制性的，因为本文公开的尺寸和相对位置的每一种变换都被理解，例如，包括本文公开的尺寸范围内的每0.25mm的增量或0.5％的增量。连续的尺寸变化可以有利地在系列中的每个步骤中实现期望的治疗。系列中的每个块12、14可以具有引导表面角度30、32，该引导表面角度30、32对应于旨在用于系列中的块12、14的中间或端部下颌骨推进位置或咬合间距离。系列中的每个块12、14可以具有块长度、宽度和高度12L、14L、12W、14W、12H、14H，其对应于旨在用于系列中的块12、14的中间或端部下颌骨推进位置或咬合间距离。系列中的每个块12、14可以具有引导表面长度26L、28L，其对应于旨在用于系列中的块12、14的中间或端部下颌骨推进位置或咬合间距离。系列中的每个块12、14可以被构造成接触相对的块的引导表面的不同部分或长度。系列中的每个块12、14可以具有纵向和/或横向斜面，其对应于旨在用于系列中的块12、14的中间或端部下颌骨推进位置或咬合间距离。从一个治疗步骤到下一个治疗步骤，公开的一个或更多个尺寸可以增加、减小或保持不变(即，一个或更多个尺寸可以在两个治疗步骤之间保持不变)。例如，在两个治疗步骤之间(例如，在第一治疗步骤和第二治疗步骤之间，其中第一和第二治疗步骤之间没有治疗步骤，或在任何两个治疗步骤之间)，一个或更多个尺寸可以从第一尺寸增加到第二尺寸和/或从第一尺寸减少到第二尺寸，使得在第一治疗步骤中比在第二(例如，随后的)治疗步骤中第二尺寸比第一尺寸的值大或小约0.5mm至约40mm，例如，在0.5mm和40mm之间的每0.25mm的增量(例如，0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm、2.5mm、3.0mm、3.5mm、4.0mm、4.5mm、5.0mm等等)。例如，在两个治疗步骤之间(例如，在第一治疗步骤和第二治疗步骤之间，其中第一和第二治疗步骤之间没有治疗步骤，或在任何两个治疗步骤之间)，一个或更多个尺寸可以从第一尺寸增加到第二尺寸和/或从第一尺寸减少到第二尺寸，使得在第一治疗步骤中比在第二(例如，随后的)治疗步骤中第二尺寸比第一尺寸的值大或小约1％至约500％，例如，在1％和500％之间的每1％的增量(例如，1％、5％、10％、15％、20％、25％、30％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％、95％、100％、125％、150％、175％等等)。
在治疗系列中，块12、14可以根据需要在系列中的一个或更多个治疗步骤中移动一个或更多个牙齿、重新定位下颌骨、调整咬合、调整咬合间距离、和/或将硬腭和/或软腭加宽到中间或端部布置。块12、14可以渐进地移动牙齿、增加和/或减少推进距离34、增加和/或减少咬合间距离36、加宽硬腭和/或软腭、调整咬合或其任意组合。例如，系列中的块12、14可以将推进距离34从第一距离渐进地增加到大于第二距离的第二距离。系列中的块12、14可以将推进距离34从第二距离渐进地减小到小于第二距离并且大于第一距离的第三距离。作为另一个示例，系列中的块12、14可以将咬合间距离36从第一距离渐进地增加到大于第一距离的第二距离。系列中的块12、14可以将咬合间距离36从第二距离渐进地减小到小于第二距离并且大于第一距离的第三距离。作为另一个示例，系列中的块12、14可以将腭的宽度从第一宽度渐进地增加到大于第一宽度的第二宽度。一系列块的设计可以有利地减少由块12、14潜在地引起的对受影响的颅面(例如，下颌骨、牙弓、气道、腭)结构的治疗的初始冲击，并且因此使得治疗更加舒适。下文公开了示例性的尺寸变化，但是这些决不是限制性的，因为本文公开的尺寸和相对位置的每一种变换都被理解，例如，包括本文公开的尺寸范围内的每0.25mm的增量或0.5％的增量。从一个治疗步骤到下一个治疗步骤，公开的一个或更多个尺寸可以增加、减小或维持不变(即，一个或更多个尺寸可以在两个治疗步骤之间维持不变)。在两个治疗步骤之间(例如，在第一治疗步骤和第二治疗步骤之间，其中第一和第二治疗步骤之间没有治疗步骤，或在任何两个治疗步骤之间)，这种颅面尺寸(例如，尺寸34和尺寸36)可以从第一尺寸增加到第二尺寸和/或从第一尺寸减少到第二尺寸，使得在第一治疗步骤中比在第二(例如，随后的)治疗步骤中第二尺寸比第一尺寸的值大或小约0.5mm至约40mm，例如，在0.5mm和40mm之间的每0.5mm的增量(例如，0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm、2.5mm、3.0mm、3.5mm、4.0mm、4.5mm、5.0mm等等)。在两个治疗步骤之间(例如，在第一治疗步骤和第二治疗步骤之间，其中第一和第二治疗步骤之间没有治疗步骤，或在任何两个治疗步骤之间)，这种颅面尺寸(例如，尺寸34和尺寸36)可以从第一尺寸增加到第二尺寸和/或从第一尺寸减少到第二尺寸，使得在第一治疗步骤中比在第二(例如，随后的)治疗步骤中第二尺寸比第一尺寸的值大或小约1％至约500％，例如，在1％和500％之间的每1％的增量(例如，1％、5％、10％、15％、20％、25％、30％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％、95％、100％、125％、150％、175％等等)。
图4示出了牙齿上的矫正器38的变型。矫正器38可以具有本文描述的口腔托架的性质。例如，矫正器38可以是上颌牙列矫正器38a或下颌牙列矫正器38b。矫正器38可以具有内表面和外表面。内表面可以界定牙齿接收腔。内表面可以被构造成接触一个或更多个牙齿。内表面可以具有构造成例如通过在一个或更多个牙齿上施加力(例如，从构造成移动一个或更多个牙齿的干涉配合)将一个或更多个上颌牙齿或下颌牙齿从第一位置移动到第二位置的几何形状。矫正器38可以安装在上颌牙列和/或下颌牙列中的全部或一部分牙齿上。
一系列矫正器38(例如，上颌矫正器和/或下颌矫正器38a、38b)可以被设计和应用，或随着时间推移被使用，以便在两个或更多个连续步骤中重新定位一个或更多个上颌牙齿和/或下颌牙齿，例如，如在PCT公布WO 2016/004415和美国申请第15/386,280号(公布为US 2017/0100214)中公开的，为了所有目的，这两个申请都通过引以其整体并入本文。如上文描述的，系列中的每个矫正器38可以具有内表面，该内表面具有对应于旨在用于系列中的每个矫正器38的中间或端部牙齿布置的几何形状。矫正器38可以是足够地弹性的，以适应或符合排列不整齐的牙齿，但是对排列不整齐的牙齿施加足够的力以根据特定治疗步骤的需要将牙齿重新定位到中间或端部布置。一系列矫正器38可以具有选择为通过一个或更多个连续的中间布置渐进地将牙齿从第一布置重新定位到最终布置的几何形状。
SBD器械疗法可以与如上文描述的正畸矫正器治疗相结合，例如，与矫正器38(例如，上颌矫正器和/或下颌矫正器38a、38b)相结合。如上文进一步描述的，一个或更多个气道发育块12和/或14(也称为引导件)可以直接地或间接地被附接到矫正器38(例如，上颌矫正器和/或下颌矫正器38a、38b)或与矫正器38(例如，上颌矫正器和/或下颌矫正器38a、38b)集成。一个或更多个上颌块12可以与上颌矫正器38a一体地形成。一个或更多个下颌块14可以与下颌矫正器38a一体地形成。
图5示出了上颌矫正器38a可以具有上颌引导件12，该引导件12具有引导表面26。引导件12可以位于上颌矫正器38a的前部或后部。例如，图5示出了引导件12可以位于矫正器38a的前部。引导件12可以是上文参照图1-3描述的块12、14中的一个，并且可以与矫正器38a集成，如图5所示。
图6示出了引导件12可以位于矫正器38a的后部。矫正器38a可以例如通过与下颌矫正器38b相互作用有利地在治疗SBD的同时正畸地移动牙齿。例如，图6示出了处于闭合位置的颌，该颌具有上颌矫正器38a和下颌矫正器38b以及后引导件12、14，其中后引导件12、14相互作用以将颌保持在闭合位置，与另外没有后引导件12、14出现的情况相比，上牙列和下牙列之间有更多的空间。引导件12、14可以是上文参考图1-3描述的块12、14，并且可以分别与校准器38a、38b集成，如图6所示。
图1-3、图5和图6分别示出了包括成角度的表面和牙合分离斜坡例如气道发育块12、14的装置部件，气道发育块12、14可以与图4中的矫正器38结合，以同时地提供SBD治疗以及牙齿的正畸移动。然而，所有类型的SBD器械疗法都可以与图4所示的正畸矫正器治疗相结合，包括其它下颌推进器械(例如Herbst器械、弹性下颌推进(EMA)器械)，以及例如稳定夹板(例如，夜间(nightguards)、日间(day guards))、去绘图仪(deprogrammer)(例如，前去绘图仪)、平坦平面和具有前引导的全接触夹板。例如，矫正器38可以与这些其它类型的装置组合、被附接到这些其它类型的装置、被可移除地附接到这些其它类型的装置、或与这些其它类型的装置集成。矫正器38可以替换这些其它类型的SBD装置/部件的牙齿(例如咬合)接合部分，使得除了提供SBD治疗之外，每个器械10还可以提供正畸治疗(例如正畸地移动牙齿)。这种正畸/SBD器械可以有利地在用SBD器械治疗SBD期间将牙齿正畸地移动到用于颅面肌肉组织的生理上正确的位置。这些口腔器械10的上颌和下颌矫正器部件和/或SBD部件可以包括热塑性材料，所述热塑性材料可以例如借助于计算机程序热成形。
上颌部件(例如，上颌块12a和/或上颌矫正器38a)可以例如经由附接机构被附接到下颌部件(例如，下颌块12b和/或下颌矫正器38b)。附接机构可以是干涉配合(也称为摩擦配合)、卡扣配合、系绳、带、弹性带、钩、弹性钩或其任意组合。例如，上颌块12和/或上颌矫正器38a可以具有阳部件(例如，突起)，并且下颌块14和/或下颌矫正器38b可以具有阴部件(例如，凹部或孔)，该阴部件被构造成经由干涉配合或卡扣配合接收突起，或反之亦然。阳部件可以具有比阴部件稍大的形状因数，以产生干涉配合。例如，突起可以具有比凹部或孔稍大的形状因数，使得当突起插入凹部或孔中时产生干涉配合。阳部件可以具有比阴部件稍小的形状因数，以产生干涉配合。例如，突起可以具有比凹部或孔稍小的形状因数，使得当突起插入凹部或孔中时产生干涉配合。上颌块12a可以经由附接机构被附接到下颌块12b和/或下颌矫正器38b。上颌矫正器38a可以经由附接机构被附接到下颌块12b和/或下颌矫正器38b。
装置10可具有一个或更多个附接机构，例如用于左上颌部件和左下颌部件的第一附接机构和/或用于右上颌部件和右下颌部件的第二附接机构。附接机构可以具有一个、两个、三个、四个、五个和/或六个自由度。附接机构可以部分地或完全地限制颌在一个或更多个自由度上的移动。附接机构可以帮助将颌保持在期望的布置中，例如，期望的开放的和/或闭合的位置以治疗SBD。由附接机构允许的移动自由度合意地使装置10能够治疗SBD，并且同时预防或抑制颞下颌关节功能障碍(TMD)的发作。TMD可以通过将颌锁定在一个位置或以其它方式限制颌的移动而引起。当装置10在使用中时，上颌部件(例如，上颌块12和/或上颌矫正器38a)和下颌部件(例如，下颌块14和/或下颌矫正器38b)之间通过附接机构的附接所允许的颌运动可以帮助预防或以其它方式抑制使用者的颞下颌关节出现问题。可替代地或另外地，附接机构可以具有零自由度，并且完全地限制下颌的运动。
当处于附接构型时，系列中的不同块12和/或矫正器38可以具有不同的自由度。在用系列中的不同器械10进行治疗期间改变由颌许可的运动可以合意地预防或抑制使用者发展TMD。系列中的器械10可以不同于一个或更多个前面的器械10和/或不同于一个或更多个随后的器械10来限制下颌的移动。对于系列中的每个器械10，或系列中的每2-50个器械10，包括该范围内的每1个器械的增量(例如，每5个器械10)，移动的量或自由度可以改变。
当上颌部件和下颌部件处于附接构型时，附接机构可以预防颌移动(例如，垂直地打开或闭合或从一侧移动到另一侧)，和/或可以例如通过预防或限制矫正器38之间和/或器械10的SBD装置或部件的一个或更多个方面之间的相对移动的量来限制下颌能够移动的量。当上颌部件和下颌部件被附接到彼此时，附接机构可以预防下颌的所有移动(例如，通过预防矫正器38之间的所有相对移动)。当上颌部件和下颌部件被附接到彼此时，附接机构可以允许下颌具有一个、两个、三个、四个、五个或六个自由度，使得下颌沿着一个、两个和/或三个轴线(例如，沿着和/或围绕一个、两个和/或三个相互垂直的轴线，例如x、y和/或z笛卡尔轴线)可平移和/或围绕一个、两个和/或三个轴线可旋转。为了许可下颌移动，附接机构可以许可矫正器38之间和/或器械10的SBD装置或部件的一个或更多个方面之间的相对移动。例如，当上颌部件和下颌部件处于附接构型时，附接机构可以许可下颌沿一个、两个或三个轴线从约0.5mm平移至约5mm，包括在该范围内的每0.5mm的增量，例如约2.0mm。例如，当上颌部件和下颌部件处于附接构型时，附接机构可以许可下颌围绕一个、两个或三个轴线从约1度旋转至约30度，包括在该范围内的每1度的增量，例如约10度。
一旦从中立位置移开(例如，平移和/或旋转)，附接机构可以向下颌施加恢复力以返回中立位置(例如，期望的位置)。另外地或可替代地，附接机构可以包括远离附接机构的一个或更多个弹性带和/或引导表面，以施加恢复力或以其它方式促使返回到中立位置。
本文描述的矫正器可以与牙列形成摩擦配合。摩擦配合可以不均匀地散布在矫正器上，以对不同的牙齿施加不同的力，从而使得不同的牙齿能够以不同的量正畸地移动，该量与施加在牙列上的各种(例如，不同的)力成比例。
对于治疗的每个阶段可以制造两套口腔器械10：一个用于日间使用，并且一个用于夜间使用。日间口腔器械10可以在有或没有SBD治疗的情况下正畸地移动牙齿。例如，日间口腔器械10可以具有比夜间口腔器械10小的SBD部件，或日间口腔器械10可以完全省略SBD部件。夜间口腔器械10可以同时地治疗SBD和正畸地移动牙齿。夜间口腔器械可以具有SBD部件。系列中的每个日间口腔器械10可以被设计成比系列中相应的夜间口腔器械10更少地打开和/或推进下颌，或根本不打开和/或推进下颌。日间器械和夜间器械可以具有相同的正畸治疗的相应阶段。正畸治疗的日间阶段可以比正畸治疗的夜间阶段不那么具有侵略性(例如，对牙齿施加更小的力)。可替代地或另外地，对于治疗的每个步骤，仅仅只能制造一个系列的口腔器械10(与两个平行系列的器械相反——一个用于白天使用，并且一个用于晚上使用)。例如，在一系列的每个步骤中，器械10的一个或更多个锁定构型可以用于日间使用，并且在一系列的每个步骤中，器械10的一个或更多个锁定构型可以用于夜间使用。
图7示出了口腔器械10的系列200的变型的示意图。口腔器械系列200可以具有日间系列200D中的ND日间佩戴口腔器械10和/或可以具有夜间系列200N中的NN夜间佩戴口腔器械10，其中ND和NN各自可以在1个和100个之间，包括在该范围内的每1个的增量。ND可以与NN相同或不同。系列200的每个步骤中的日间口腔器械和夜间口腔器械10的尺寸可以彼此相同或不同。系列200的每个步骤中的日间口腔器械和夜间口腔器械10可以如上文描述地推进颌，例如推进相同的量。例如，图7示出了系列200的步骤1-4中的每一个可以分别向前渐进地移动颌约1.0mm、移动约0.5mm、移动约0.5mm和移动约1.0mm，这在图7中分别由箭头201、202、203和204表示。图7示出了上颌矫正器和SBD部件(例如，矫正器38a和SBD部件12)相对于下颌矫正器和SBD部件(例如，矫正器38b和SBD部件14)的相对位置。
制造方法
图8示出了制造口腔器械10的过程100的变型。计算机程序可以用于从数据采集装置(例如口腔扫描仪、x射线装置、照相机)检索数据，以记录和测量正畸错牙合和牙齿错位。步骤102示出了在获得牙列的数字模型之后，用于下牙弓和上牙弓的数字模型可以被加载到例如计算机中。步骤104示出了可以设置咬合登记并且可以创建器械10的模型。在步骤106中，可以模拟期望的治疗，包括例如下颌推进、腭扩展、牙齿移动或其任意组合。在步骤108中可以检查TMJ颞骨、盘(disc)和下颌头的关系，例如，当在步骤106中模拟下颌推进时。如果检查令人满意，则该过程可以前进到步骤110，否则该过程可以返回到步骤106并且运行一个或更多个另外的模拟。至少部分地基于步骤106和步骤108中的模拟和检查，算法可以被配置成在步骤110中设计SBD部件(例如，引导表面26、28)的一个或更多个方面，以产生期望的下颌推进。步骤112示出了块12、14和/或口腔托架可以被设计成具有在步骤110中设计的引导表面26、28。步骤112还示出了可选的弹性钩可以被设计成当人睡觉时预防颌打开并远离上颌块12移动。步骤114示出了在步骤112中设计的块12、14和/或口腔托架可以基于至少部分地由算法确定的新的牙弓关系将一个或更多个牙齿移动到新的牙弓咬合。过程100可以用于创建一个口腔器械10或一系列口腔器械10。
软件可以用于操纵牙弓的数字印模(扫描)，以递增地移动牙齿以及设计用于日间和/或夜间使用的3D打印模型的功能应用，以用于利用传统真空形式技术制造器械或直接打印器械。
使用图8中的过程100，口腔器械10和/或一系列口腔器械10可以通过基于数据的计算机算法来设计，所述数据是算法从可以单独地或共同地形成口腔及其中的牙列的数字印模的一个或多个数据采集装置(例如扫描仪、X射线装置、照相机)接收和处理的。例如，在每个步骤中，口腔器械10的尺寸，包括SBD部件(例如上颌块和下颌块12、14，或其一个或更多个方面，包括口腔托架)和/或矫正器部件(例如上颌矫正器和下颌矫正器38a、38b)，可以由从数据采集装置接收的数据来确定。过程100中的算法可以将正畸矫正器与多种不同的学科SBD治疗相结合，例如，以调整咬合、修复一些或全部的牙齿，并将牙齿移动到更理想的位置。
例如，从数据采集装置检索的数据可以用于测量正畸错牙合、确定用于错牙合的正畸矫正同时同时地治疗SBD，例如，通过设计一系列口腔器械10，所述口腔器械10可以在牙齿的渐进的正畸移动的同时渐进地治疗SBD(或SBD症状)。计算机软件可以用于在一系列的一个或更多个步骤中确定牙齿的正畸移动。计算机软件可以用于设计器械10。计算机软件可以用于制造3D模型或直接地打印器械10。器械10的模型可以通过使用计算机软件递增地计数地移动牙齿并且然后打印从其可以制造正畸矫正器的3D模型来创建。可替代地或另外地，矫正器可以使用计算机软件直接用3D打印机来制造。正畸矫正器可以在咬合表面上被改变或以其它方式被修改，以在正畸移动同时发生时创建期望的SBD治疗器械10。经由将从一个或更多个数据采集装置接收的数据转换成一系列连续的正畸/SBD器械10的计算机程序，赋予牙医或正畸医师在牙齿的正畸移动的同时治疗SBD的能力，可以有利地为牙医和正畸医师开发许多新的治疗方案，以用于服务他们的患者。
权利要求不限于附图中示出的示例性实施方案，而是可以要求保护作为一个整体在本公开中公开的或预期的任何特征。本文描述的为单数的任何元件都可以是复数的(即，描述为“一个”的任何元件都可以多于一个)。类元件(genus element)的任何种元件可以具有该类的任何其它种元件的特征或元件。出于说明清楚的原因，个别图中可能缺少一些元件。用于实施本公开的上述构造、元件或完整组件和方法及其元件，以及本公开的方面的变型可以以任何组合彼此组合和修改。本文描述的所有装置、设备、系统和方法可以用于医疗(例如诊断、治疗或康复)或非医疗目的。

Claims (20)

1.一种口腔器械，用于睡眠呼吸障碍的治疗，所述口腔器械包括：
一个或更多个上颌块；
一个或更多个下颌块；
上颌口腔托架，其中所述一个或更多个上颌块被附接到所述上颌口腔托架或与所述上颌口腔托架集成；以及
下颌口腔托架，其中所述一个或更多个下颌块被附接到所述下颌口腔托架或与所述下颌口腔托架集成，
其中所述上颌口腔托架和所述下颌口腔托架被构造成将一个或更多个牙齿从牙齿第一位置移动到牙齿第二位置，
其中每个上颌块具有上颌块引导表面，其中每个下颌块具有下颌块引导表面，并且其中每个上颌块引导表面与至少一个下颌块引导表面相对并且构造成与至少一个下颌块引导表面相互作用，以进行以下中的至少一个：移动一个或更多个牙齿、推进下颌骨、增加上颌牙列和下颌牙列之间的咬合间分离、以及扩张腭。
2.如权利要求1所述的口腔器械，其中，所述上颌块引导表面和所述下颌块引导表面被构造成相互作用，以将气道从不太开放的构型重塑为更开放的构型。
3.如权利要求1所述的口腔器械，其中，所述上颌块引导表面和所述下颌块引导表面被构造成相互作用，以抑制气道从开放的构型部分地或完全地闭合。
4.如权利要求1所述的口腔器械，其中，每个上颌引导表面和每个下颌引导表面沿着每个各自的块的长度延伸约30％或更多。
5.如权利要求1所述的口腔器械，其中，每个上颌块引导表面能够相对于所述上颌牙列的咬合表面的一部分成约15度至约75度的上颌引导表面角度。
6.如权利要求1所述的口腔器械，其中，每个下颌块引导表面能够相对于所述下颌牙列的咬合表面的一部分成约15度至约75度的下颌引导表面角度。
7.如权利要求1所述的口腔器械，其中，每个上颌块引导表面和下颌块引导表面界定相对于其各自的块的纵向轴线的纵向斜面和/或相对于其各自的块的横向轴线的横向斜面中的至少一个。
8.一种用于睡眠呼吸障碍的治疗的系统，所述系统包括：
一系列两个或更多个口腔器械，所述一系列两个或更多个口腔器械被构造成在两个或更多个连续步骤中渐进地重新定位上颌牙齿和下颌牙齿，其中所述系列中的每个口腔器械包括：
一个或更多个上颌块；
一个或更多个下颌块；
上颌口腔托架，其中所述一个或更多个上颌块被附接到所述上颌口腔托架或与所述上颌口腔托架集成；以及
下颌口腔托架，其中所述一个或更多个下颌块被附接到所述下颌口腔托架或与所述下颌口腔托架集成，
其中所述上颌口腔托架和所述下颌口腔托架被构造成将一个或更多个牙齿从牙齿第一位置移动到牙齿第二位置，
其中每个上颌块具有上颌块引导表面，其中每个下颌块具有下颌块引导表面，并且其中每个上颌块引导表面与至少一个下颌块引导表面相对并且构造成与至少一个下颌块引导表面相互作用，以进行以下中的至少一个：移动一个或更多个牙齿、推进下颌骨、增加上颌牙列和下颌牙列之间的咬合间分离、以及扩张腭。
9.如权利要求8所述的系统，其中，所述系列中的每个口腔器械的所述上颌块引导表面和所述下颌块引导表面被构造成相互作用，以抑制气道从开放的构型部分地或完全地闭合。
10.如权利要求8所述的系统，其中，所述系列中的所述口腔器械中的至少一个口腔器械的至少一个上颌引导表面和至少一个下颌引导表面沿着其相关联的块的长度延伸约30％或更多。
11.如权利要求8所述的系统，其中，所述系列中的所述上颌块引导表面中的至少一个能够相对于所述上颌牙列的咬合表面的一部分成约15度至约75度的上颌引导表面角度。
12.如权利要求8所述的系统，其中，所述系列中的所述下颌块引导表面中的至少一个能够相对于所述下颌牙列的咬合表面的一部分成约15度至约75度的下颌引导表面角度。
13.如权利要求8所述的系统，其中，所述系列中的每个上颌块引导表面和下颌块引导表面界定相对于其各自的块的纵向轴线的纵向斜面和/或相对于其各自的块的横向轴线的横向斜面中的至少一个。
14.如权利要求8所述的系统，其中，所述一系列两个或更多个口腔器械包括具有第一口腔器械尺寸的第一口腔器械和具有第二口腔器械尺寸的第二口腔器械，其中，所述第二口腔器械尺寸中的一个或更多个第二口腔器械尺寸大于或小于所述第一口腔器械尺寸中的一个或更多个第一口腔器械尺寸。
15.如权利要求14所述的系统，其中，大于或小于所述一个或更多个第一口腔器械尺寸的所述一个或更多个第二口腔器械尺寸包括上颌块或下颌块长度、高度或宽度和/或上颌块引导表面角度或下颌块引导表面角度中的至少一个。
16.如权利要求15所述的系统，其中，所述第二口腔器械尺寸中的一个或更多个第二口腔器械尺寸比所述第一口腔器械尺寸中的一个或更多个第一口腔器械尺寸大或小约1％至约500％。
17.一种治疗睡眠呼吸障碍的方法，所述方法包括：
提供一系列两个或更多个口腔器械，所述一系列两个或更多个口腔器械被构造成在两个或更多个连续步骤中渐进地重新定位上颌牙齿和下颌牙齿，其中所述系列中的每个口腔器械包括：
一个或更多个上颌块；
一个或更多个下颌块；
上颌口腔托架，其中所述一个或更多个上颌块被附接到所述上颌口腔托架或与所述上颌口腔托架集成；以及
下颌口腔托架，其中所述一个或更多个下颌块被附接到所述下颌口腔托架或与所述下颌口腔托架集成，
其中所述上颌口腔托架和所述下颌口腔托架被构造成将一个或更多个牙齿从牙齿第一位置移动到牙齿第二位置，
其中每个上颌块具有上颌块引导表面，其中每个下颌块具有下颌块引导表面，并且其中每个上颌块引导表面与至少一个下颌块引导表面相对并且构造成与至少一个下颌块引导表面相互作用，以进行以下中的至少一个：移动一个或更多个牙齿、推进下颌骨、增加上颌牙列和下颌牙列之间的咬合间分离、以及扩张腭。
18.如权利要求17所述的方法，其中，所述一系列两个或更多个口腔器械包括具有第一口腔器械尺寸的第一口腔器械和具有第二口腔器械尺寸的第二口腔器械，其中，所述第二口腔器械尺寸中的一个或更多个第二口腔器械尺寸大于或小于所述第一口腔器械尺寸中的一个或更多个第一口腔器械尺寸。
19.如权利要求18所述的方法，其中，大于或小于所述一个或更多个第一口腔器械尺寸的所述一个或更多个第二口腔器械尺寸包括上颌块或下颌块长度、高度或宽度和/或上颌块引导表面角度或下颌块引导表面角度中的至少一个。
20.如权利要求19所述的方法，其中，所述第二口腔器械尺寸中的一个或更多个第二口腔器械尺寸比所述第一口腔器械尺寸中的一个或更多个第一口腔器械尺寸大或小约1％至约500％。
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