CN109785746B - 一种显示装置 - Google Patents
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Abstract
一种显示装置,包括:第一基板,包括相对的第一内表面与第一外表面、相邻的显示区和压焊区与多个薄膜晶体管,且该些薄膜晶体管设置于该内表面,且位置对应于该显示区;第二基板,与该显示区相对设置,包括相对的第二内表面与第二外表面、第一色阻和第二色阻,且该第一色阻与该第二色阻分别设置于该第二内表面;显示分子层,设置于该第一基板与该第二基板之间;该显示装置还包括:电性屏蔽层,设置于该第一基板的该第一外表面;其中,该电性屏蔽层包括第一屏蔽区与第二屏蔽区,该第一屏蔽区设置于对应于该第一色阻的位置,以及第二屏蔽区则位置对应于该压焊区。
Description
技术领域
本发明涉及一种显示装置,特别是涉及一种具有静电防护结构的显示装置。
背景技术
随着显示装置技术的发展,显示装置的清晰度越来越高,使得显示装置的薄膜晶体管点阵金属线路越来越细,越做越密,且电路设计可利用区域越来越小,因此必须作一些静电(ESD)防护电路的精简,导致薄膜晶体管点阵抗静电能力下降。当静电累积在基板表面时,不易消散,静电释放时使易造成静电击伤线路导致损坏。
目前iTP产品因触控功能要求,色阻层侧高阻抗静电膜有严格的阻值限制,要求在5×108~9×109欧姆之间,阻值大容易造成静电累积。
此外,由于防静电能力的下降,在进行合板后制程时,有许多手工处理制程和贴覆作业制程也会形成很高的静电,造成静电击伤线路。
发明内容
针对上述问题,本发明提出一种具备电性屏蔽层的显示装置,增强静电消散能力,以避免由于静电累积可能造成的静电释放击穿线路元件问题的出现。
具体来说,本发明之实施例提供一种显示装置,包括:第一基板,包括相对的第一内表面与第一外表面、相邻的显示区和压焊区与多个薄膜晶体管,且该些薄膜晶体管设置于该内表面,且位置对应于该显示区;第二基板,与该显示区相对设置,包括相对的第二内表面与第二外表面、第一色阻和第二色阻,且该第一色阻与该第二色阻分别设置于该第二内表面;显示分子层,设置于该第一基板与该第二基板之间;电性屏蔽层,设置于该第一外表面;其中,该电性屏蔽层包括第一屏蔽区与第二屏蔽区,该第一屏蔽区设置于对应于该第一色阻的位置,以及第二屏蔽区则位置对应于该压焊区。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该第一色阻的厚度大于该第二色阻的厚度。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该第一屏蔽区与该第一色阻在垂直投影于该第一基板的投影面积彼此重叠。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该第一色阻具有凸起结构,且该凸起结构与该第一色阻在垂直投影于该第一基板的投影面积彼此重叠。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该第一屏蔽区与该第二屏蔽区连接。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该第一色阻的颜色相异于该第二色阻的颜色。
本发明之实施例所述的显示装置,其中还包括:高阻抗静电层,设置于该第二外表面;以及第一触控金属层,设置于该第一内表面;第二触控金属层,设置于该第二内表面。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该高阻抗静电层的阻抗大于该电性屏蔽层。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该电性屏蔽层的阻抗值等于或小于1000欧姆。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该电性屏蔽层为透明导电材料,该透明导电材料包括ITO、IZO、有机导电材料。
本发明之实施例所述的显示装置,其特征在于,还包括:第一偏光片,设置于该第一外表面,且该电性遮蔽层位于该第一偏光片与该第一基板之间;以及第二偏光片,设置于该第二外表面,且该抗静电层位于该第二偏光片与该第二基板之间。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该第一遮蔽区为单一或多个条状结构。
本发明之实施例还提供一种显示装置,包括:第一基板,包括相对的第一内表面与第一外表面、相邻的显示区和压焊区;第二基板,与该显示区相对设置;显示分子层,设置于该第一基板与该第二基板之间;多个薄膜晶体管,设置于该第一内表面,且该些薄膜晶体管位置对应于该显示区;电性屏蔽层,设置于该第一外表面;其中,该电性屏蔽层包括第一屏蔽区与第二屏蔽区,且该第一屏蔽区以单一或多个条状结构设置对应于该显示区,该第二屏蔽区则设置对应于该压焊区。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该第一电性屏蔽层与该第二屏蔽层连接。
本发明之实施例所述的显示装置,其中还包括:高阻抗静电层,设置于该第二外表面;以及第一触控金属层,设置于该第一内表面;第二触控金属层,设置于该第二内表面。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该高阻抗静电层的阻抗大于该电性屏蔽层。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该电性屏蔽层的阻抗值等于或小于1000欧姆。
本发明之实施例所述的显示装置,其中该电性屏蔽层为透明导电材料,该透明导电材料包括ITO、IZO、有机导电材料。
本发明之实施例所述的显示装置,其中还包括:第一偏光片,设置于该第一外表面,且该电性遮蔽层位于该第一偏光片与该第一基板之间;以及第二偏光片,设置于该第二外表面,且该抗静电层位于该第二偏光片与该第二基板之间。
附图说明
图1是本发明第一实施例的一种显示装置的局部剖面结构示意图。
图2是本发明第二实施例的一种显示装置的局部结构俯视图。
图3是本发明第二实施例的一种显示装置的沿A-A'剖面局部结构示意图。
图4是本发明第三实施例的一种显示装置的局部结构俯视图。
图5是本发明第四实施例的一种显示装置的局部结构俯视图。
图6是本发明第四实施例的一种显示装置的沿A-A'剖面局部结构示意图。
其中,附图标记:
1:高阻抗静电层 2:第二基板
3:胶框 4:显示分子层
5:第一基板 6:电性屏蔽层
7:第一偏光片 8:第二偏光片
21:第一色阻 22:第二色阻
211:色阻凸起 61:压焊区电性屏蔽层
62:显示区电性屏蔽层 63:电性屏蔽层连接线
OLB:压焊区 AA:显示区
A-A':剖面
具体实施方式
以下将以附图公开本发明的多个实施方式,为明确说明起见,许多实际上的细节将在以下叙述中一并说明。然而,应了解到,这些实际上的细节不应用以限制本发明。也就是说,在本发明部分实施方式中,这些实际上的细节是非必要的。此外,为简化附图起见,一些习知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式展示。
在附图中,为了清楚起见,放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中,相同的附图标记表示相同的元件。应当理解,当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时,其可以直接在另一元件上或与另一元件连接,或者中间元件可以也存在。相反地,当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时,不存在中间元件。如本文所使用的,“连接”可以指物理及/或电性连接。然而,电性连接为二个元件间存在其它元件。
应当理解,尽管术语“第一”与“第二”等在本文中可以用于描述各种元件、部件、区域、层及/或部分,但是这些元件、部件、区域、及/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一个元件、部件、区域、层或部分区分开。因此,下面讨论的“第一元件”、“部件”、“区域”、“层”、或“部分”可以被称为第二元件、部件、区域、层或部分而不脱离本文的教导。
这里使用的术语仅仅是为了描述特定实施例的目的,而不是限制性的。如本文所使用的,除非内容清楚地指示,否则单数形式“一”、“一个”和“该”旨在包括复数形式,包括“至少一个”。“或”表示“及/或”。如本文所使用的,术语“及/或”包括一个或多个相关所列项目的任何和所有组合。还应当理解,当在本说明书中使用时,术语“包括”及/或“包括”指定所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件的存在及/或部件,但不排除一个或多个其它特征、区域整体、步骤、操作、元件、部件及/或其组合的存在或添加。
此外,诸如“下”或“底部”和“上”或“顶部”的相对术语可在本文中用于描述一个元件与另一元件的关系,如图所示。应当理解,相对术语旨在包括除了图中所示的方位之外的装置的不同方位。例如,如果一个附图中的装置翻转,则被描述为在其他元件的“下”侧的元件将被定向在其他元件的“上”侧。因此,示例性术语“下”可以包括“下”和“上”的取向,取决于附图的特定取向。类似地,如果一个附图中的装置翻转,则被描述为在其它元件“下”或“下方”的元件将被定向为在其它元件“上方”。因此,示例性术语“下”或“下面”可以包括上方和下方的取向。
图1是本发明第一实施例的一种显示装置的局部剖面结构示意图。如图1所示,于本发明的第一实施例,提出一种显示装置,包括:第一基板5、第二基板2、显示分子层4、第一偏光片7和第二偏光片8,其中第一基板5包含相邻之显示区AA与压焊区OLB。于本实施例中,第一基板5为主动阵列基板,第二基板2为彩色滤光片基板,第一基板5与第二基板2相对设置,且第二基板2位置对应于第一基板5的显示区AA。第一偏光片7设置于第一基板5外表面(第一基板5背向第二基板2的一侧),第二偏光片8设置于第二基板2的外表面(第二基板2背向第一基板5的一侧),多个薄膜晶体管设置于第一基板5内表面(第一基板5朝向第二基板2的一侧)的显示区AA内,薄膜晶体管之间通过栅极线(gate line)与栅极驱动器(gatedriver)电性连接,并通过数据线(data line)与数据驱动器(data driver)电性连接,进而驱动控制薄膜晶体管的显示功能。多个色阻设置于第二基板2的内表面(第二基板2朝向第一基板5的一侧),为使图示清晰简洁,图1中未绘示薄膜晶体管和色阻。显示分子层4设置于第一基板5和第二基板2之间由胶框3封闭的空间中。本发明的第一实施例为触控显示装置,还具有触控结构,包括高阻抗静电膜1、触控金属层和触控线路,为清楚简洁的表达本发明所展示的发明内容,图1中对触控金属层和触控线路未予绘示,其中高阻抗静电膜1设置于第二基板2的外表面且处于第二偏光片8与第二基板2之间,触控金属层分别设置于设置于第二基板2的内表面或外表面,及设置于第一基板5的内表面或外表面,触控线路通常设置于第一基板5,触控金属层和触控线路也可以设置于显示装置上可以完成触控操作的其他位置,本发明并不以此为限。
本发明第一实施例的显示装置还包括电性屏蔽层6,电性屏蔽层6涂布于第一基板5外表面且处于第一偏光片7与第一基板5之间,相对于高阻抗静电膜1所具有的较高电阻值(5×108~9×109欧姆之间),电性屏蔽层6具有较低的电阻值,例如是小于等于1000欧姆,并通过与显示装置的其他部分的电性连接而接地。电性屏蔽层6可以为例如是ITO、IZO、有机导电材料的透明导电材料,本发明并不以此为限。可以根据静电消散的要求,将电性屏蔽层10涂布于整个第一基板5的外表面,也可以根据显示装置的光学、亮度、透光度等性能指标,将电性屏蔽层6进行规则性镂空几何图案溅镀,例如可以沿驱动线路进行规则性溅镀,也可以在可能发生静电累积的重点区域进行规则性溅镀,形成多个条状或对应形状的电性屏蔽层结构,本发明并不以此为限。于本实施例中,高阻抗静电膜1是用于触控作动所形成的静电,详言之,当手指接触或移动于第二基板2之外表面时,会产生静电累积而影响触控感应,因此,透过高阻抗静电膜1可用来减少静电而强化触控功能。电性屏蔽层6则适用于减小制程过程中的静电累积,举例而言,在制程过程中,机台设备、制程人员或环境接触于显示设备时,会将静电传递或留在显示设备的表面上,尤其时制程人员手持显示设备时,更容易将静电传递于显示设备的第一基板5的下下表面。因此,透过电性屏蔽层6可避免静电累积、助于静电消散或移除,进而增加良率。
图2是本发明第二实施例的一种显示装置的局部结构俯视图,而图3是本发明第二实施例的一种显示装置的沿A-A'剖面局部结构示意图。如图3所示,与图2相对应,于本发明的第二实施例,第二基板2的色阻分为第一色阻21和第二色阻22,其中第一色阻21与第二色阻22的颜色相异,由于材料和/或工艺的原因,第一色阻21的厚度稍大于第二色阻22的厚度。具体而言,在制作色阻的制程中,可能会因照光仪器结构的因素,使得显示区AA的部分区域出现重复照光的问题,进而使得对应形成的光阻厚度较大。对应图3之实施例来看,第一色阻21的厚度大于其他色阻(如第二色阻22)。举例而言,第一色阻21可为蓝色色阻,而第二色阻22可为红色色阻与绿色色阻,进而形成蓝色色阻、红色色阻与绿色色阻的周期性排列,其中,蓝色色阻的厚度大于红色色阻或绿色色阻,但本发明不以此为限。第一色阻21可为蓝色色阻,而第二色阻22可为红色色阻、绿色色阻与蓝色色阻,进而形成蓝色色阻、红色色阻与绿色色阻的周期性排列,其中部分蓝色色阻(如第一色阻21)的厚度大于另一部分蓝色色阻(如第二色阻22)、红色色阻或绿色色阻。但本发明不以上述举例为限,可依不同显示质量的需求,而有不同颜色色组的组成与排列,图2所绘示的实施例是要表达受到工艺制程的影响,使得部分色阻(如第一色阻21)的厚度会大于其他色阻(如第二色阻22)。为清楚简洁的表达本发明所展示的发明内容,图3中对高阻抗静电层、显示分子层、第一偏光片和第二偏光片未予绘示。
请同时参阅图2与图3,于本实施例中,显示区电性屏蔽层62与第一色阻21在垂直投影于第一基板5的投影面积彼此重叠。具体而言,电性屏蔽层根据涂布的区域分为压焊区电性屏蔽层61和显示区电性屏蔽层62,其中压焊区电性屏蔽层61涂布整个压焊区OLB,显示区电性屏蔽层62仅涂布于对应第一色阻21的区域。当色阻厚度不均匀,如图3所示,第一色阻21的厚度大于其他色阻时,就会使显示装置在显示时产生影像缺陷(如:lens mura)。因此,将电性屏蔽层6对应设置于第一色阻21,即可利用电性遮蔽层6的光学特性来遮蔽此区域的背光亮度,进而降低影像缺陷的问题。如此一来,电性遮蔽层6能够达到减少制程所产生的静电外,亦可降低影像缺陷的不良率,进而提升制程良率与影像质量。
于通常情况下(即受到上述之工艺设备的影响),第一色阻21在第二基板2上为条状结构,换言之,影像缺陷(如:lens mura)为条状成形,因此,对应于第一色阻21的显示区电性屏蔽层62也为条状结构。但本发明不以此为限,当第一色阻21为其他形状结构或其他方向的条状结构时,例如是水平方向延伸的条状结构,则对应于第一色阻21的显示区电性屏蔽层62也为对应形状结构或对应方向的条状结构;或存在多条第一色阻21,则对应于第一色阻21的显示区电性屏蔽层62也为多条状结构,以覆盖第一色阻21投影于第一基板5上的区域。
图4是本发明第三实施例的一种显示装置的局部结构俯视图。如图4所示,于本发明的第三实施例,与图2之实施例的差异在于:为进一步增强静电消散的效率,将压焊区电性屏蔽层61和显示区电性屏蔽层62通过电性屏蔽层连接线63电性连接,相当于在不增加显示区电性屏蔽层62的涂布范围的条件下,扩大了显示区电性屏蔽层62的屏蔽面积,增强了电性屏蔽层的静电消散能力。
图5是本发明第四实施例的一种显示装置的局部结构俯视图,而图6是本发明第四实施例的一种显示装置的沿A-A'剖面局部结构示意图。如图6所示,与图5相对应,于本发明的第四实施例,第二基板2的色阻分为第一色阻21和第二色阻22,其中第一色阻21与第二色阻22的颜色相异。本实施例与图3之实施例的主要差异在于:由于材料和/或工艺的原因,导致部分色阻出现类似牛角的色阻凸起,例如是第一色阻21上的色阻凸起211。举例而言,第一色阻21可为蓝色色阻,而第二色阻22可为红色色阻与绿色色阻,或第二色阻22为红色色阻、绿色色阻与蓝色色阻,与第二实施例相同,故此处不再赘述。为清楚简洁的表达本发明所展示的发明内容,图6中对高阻抗静电层、显示分子层、第一偏光片和第二偏光片未予绘示。
请同时参阅图5与图6,于本实施例中,显示区电性屏蔽层62与第一色阻21的色阻凸起211在垂直投影于第一基板5的投影面积彼此重叠,从而可利用电性遮蔽层6的光学特性来遮蔽此区域的背光亮度,进而降低影像缺陷的问题。如此一来,电性遮蔽层6能够达到减少制程所产生的静电外,亦可降低影像缺陷的不良率,进而提升制程良率与影像质量。
于本实施例中,压焊区电性屏蔽层61与显示区电性屏蔽层62可以无连接(如图2所示),也可以通过电性屏蔽层连接线63电性连接(如图5所示),以在不增加显示区电性屏蔽层62的涂布范围的条件下,扩大显示区电性屏蔽层62的屏蔽面积,增强电性屏蔽层的静电消散能力。
虽然本发明已以实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明,任何所属技术领域中的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,可以做出若干完善和改进,故本发明的保护范围当以其权利要求所界定范围为准。
Claims (18)
1.一种显示装置,包括:
第一基板,包括相对的第一内表面与第一外表面、相邻的显示区和压焊区与多个薄膜晶体管,且该薄膜晶体管设置于该第一内表面,且位置对应于该显示区;
第二基板,与该显示区相对设置,包括相对的第二内表面与第二外表面、第一色阻和第二色阻,且该第一色阻与该第二色阻分别设置于该第二内表面,该第一色阻的厚度大于该第二色阻的厚度;
显示分子层,设置于该第一基板与该第二基板之间;
触控结构,包括:第一触控金属层,设置于该第一内表面;以及第二触控金属层,设置于该第二内表面;
其特征在于,还包括:
电性屏蔽层,设置于该第一外表面;其中,该电性屏蔽层包括第一屏蔽区与第二屏蔽区,该第一屏蔽区设置于对应于该第一色阻的位置,以及第二屏蔽区则位置对应于该压焊区。
2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一屏蔽区与该第一色阻在垂直投影于该第一基板的投影面积彼此重叠。
3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一色阻具有凸起结构,且该第一屏蔽区与该凸起结构在垂直投影于该第一基板的投影面积彼此重叠。
4.如权利要求2或3所述的显示装置,其特征在于,该第一屏蔽区与该第二屏蔽区连接。
5.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一色阻的颜色相异于该第二色阻的颜色。
6.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该触控结构还包括:
高阻抗静电层,设置于该第二外表面。
7.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于,该高阻抗静电层的阻抗大于该电性屏蔽层。
8.如权利要求7所述的显示装置,其特征在于,该电性屏蔽层的阻抗值等于或小于1000欧姆。
9.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该电性屏蔽层为透明导电材料,该透明导电材料包括ITO、IZO、有机导电材料。
10.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于,还包括:
第一偏光片,设置于该第一外表面,且该电性遮蔽层位于该第一偏光片与该第一基板之间;以及
第二偏光片,设置于该第二外表面,且该高阻抗静电层位于该第二偏光片与该第二基板之间。
11.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一屏蔽区为单一或多个条状结构。
12.一种显示装置,包括:
第一基板,包括相对的第一内表面与第一外表面、相邻的显示区和压焊区;
第二基板,与该显示区相对设置,包括第一色阻和第二色阻,该第一色阻的厚度大于该第二色阻的厚度;
显示分子层,设置于该第一基板与该第二基板之间;
多个薄膜晶体管,设置于该第一内表面,且该薄膜晶体管位置对应于该显示区;
触控结构,包括:第一触控金属层,设置于该第一内表面;以及第二触控金属层,设置于该第二基板的内表面;
其特征在于,还包括:
电性屏蔽层,设置于该第一外表面;
其中,该电性屏蔽层包括第一屏蔽区与第二屏蔽区,且该第一屏蔽区以单一或多个条状结构设置对应于该显示区,且该第一屏蔽区与该第一色阻或该第一色阻的凸起结构在垂直投影于该第一基板的投影面积彼此重叠,该第二屏蔽区则设置对应于该压焊区。
13.如权利要求12所述的显示装置,其特征在于,该第一屏蔽区与该第二屏蔽区连接。
14.如权利要求12所述的显示装置,其特征在于,该触控结构还包括:
高阻抗静电层,设置于该第二基板的外表面。
15.如权利要求14所述的显示装置,其特征在于,该高阻抗静电层的阻抗大于该电性屏蔽层。
16.如权利要求15所述的显示装置,其特征在于,该电性屏蔽层的阻抗值等于或小于1000欧姆。
17.如权利要求12所述的显示装置,其特征在于,该电性屏蔽层为透明导电材料,该透明导电材料包括ITO、IZO、有机导电材料。
18.如权利要求14所述的显示装置,其特征在于,还包括:
第一偏光片,设置于该第一外表面,且该电性遮蔽层位于该第一偏光片与该第一基板之间;以及
第二偏光片,设置于该第二基板的外表面,且该高阻抗静电层位于该第二偏光片与该第二基板之间。
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