CN109772821B - 一种ito表面特性均一化装置 - Google Patents
一种ito表面特性均一化装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109772821B CN109772821B CN201910222037.1A CN201910222037A CN109772821B CN 109772821 B CN109772821 B CN 109772821B CN 201910222037 A CN201910222037 A CN 201910222037A CN 109772821 B CN109772821 B CN 109772821B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- plate
- transverse
- vacuum chamber
- side wall
- longitudinal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
本发明涉及一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体、送料机构、移动机构与等离子体表面处理机，所述真空箱体内从下往上依次安装有送料机构与移动机构，送料机构上方布置有等离子体表面处理机，等离子体表面处理机安装在移动机构上，且真空箱体左侧开设有进料口，真空箱体右侧开设有出料口，送料机构包括封闭筒、旋转辊、旋转电机、伸缩板、连接架、滑动架、固定架与伸缩架，移动机构包括直线导轨、移动架、横向移动支链与纵向移动支链。本发明可以解决目前ITO表面特性均一化过程中存在的不能连续对ITO进行表面处理、工作效率低、使用等离子体处理时气密性无法得到保证与表面处理均匀性差等难题。
Description
技术领域
本发明涉及ITO加工设备领域，具体的说是一种ITO表面特性均一化装置。
背景技术
ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡(俗称ITO)膜加工制作成的。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行清洁处理处理，以得到更均匀的显示控制。
基板在清洗后都需要经过等离子清洗设备，等离子清洗设备喷出的等离子体与基板表面的有机物结合，将有机物氧化分解成水和二氧化碳等以除去基板表面的有机物，以提高ITO表面特性的均一性。因此，等离子清洗设备的清洗效果直接影响基板的品质。
现有的等离子清洗设备在工作时无法连续对ITO进行处理，需要待一块ITO玻璃清洗完毕将其取出后，再将下一块ITO放置在清洗设备内，清洗效率低，无法满足生产需要，且在使用等离子清洗设备时，需要保证清洗室的密闭性，频繁对ITO进行放置与拿取，势必会降低清洗室的密闭性，影响清洗效果。
为了改善上述问题，提高ITO表面特性的均一性，本发明提供了一种ITO表面特性均一化装置。
发明内容
为了弥补现有技术的不足，本发明提供了一种ITO表面特性均一化装置，可以解决目前ITO表面特性均一化过程中存在的不能连续对ITO进行表面处理、工作效率低、使用等离子体处理时气密性无法得到保证与表面处理均匀性差等难题。
本发明所要解决其技术问题所采用以下技术方案来实现：一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体、送料机构、移动机构与等离子体表面处理机，所述真空箱体内从下往上依次安装有送料机构与移动机构，送料机构上方布置有等离子体表面处理机，等离子体表面处理机安装在移动机构上，且真空箱体左侧开设有进料口，真空箱体右侧开设有出料口；其中：
所述送料机构包括封闭筒、旋转辊、旋转电机、伸缩板、连接架、滑动架、固定架与伸缩架，封闭筒安装在真空箱体内壁上，封闭筒侧壁上沿其周向方向均匀开有方口，相邻方口之间开设有通槽：
-封闭筒内布置有旋转辊，旋转辊通过轴承安装在真空箱体侧壁上，且旋转辊后端通过联轴器与旋转电机输出轴相连接，旋转电机通过电机座安装在真空箱体侧壁上，旋转辊侧壁上沿其周向方向均匀安装有伸缩板，伸缩板位置与方口位置一一对应，伸缩板为上下可伸缩结构，伸缩板侧壁上安装有连接架，连接架上端安装有滑动架，滑动架侧壁通过滑动配合方式与封闭筒内壁相连接，滑动架中部开设有方槽，方槽上端布置有固定架，固定架与滑动架之间连接有伸缩架，伸缩架为上下可伸缩结构，且固定架下端与伸缩板顶端相连接；旋转电机的结构、原理及控制方法均为现有技术，将伸缩板长度调节适当后，使得固定架能够伸出进料口，以便通过现有设备将待处理的ITO玻璃固定在固定架上，再通过旋转电机带动旋转辊进行转动，从而达到带动ITO玻璃依次经过进料口、等离子体表面处理机下方与出料口的目的，能够连续地对ITO玻璃进行表面处理，提高了处理效率，且在转动过程中，滑动架在封闭筒内壁上滑动，能够阻止过多空气进入真空箱体，保证了真空箱体内的密闭性。
所述移动机构包括直线导轨、移动架、横向移动支链与纵向移动支链，直线导轨数量为二，两个直线导轨左右对称安装在真空箱体内壁上，直线导轨下端通过滑动配合方式与移动架侧壁相连接，移动架为U型结构，移动架上开设有横向槽，横向槽内布置有横向移动支链，移动架后端与纵向移动支链侧壁相连接；在直线导轨的导向作用下，横向移动支链与纵向移动支链能够带动等离子体表面处理机进行匀速横向运动与纵向运动，保证ITO玻璃每一处都能够被等离子体所照射，提高了处理的均匀性。
作为本发明的一种优选技术方案，所述固定架包括固定板、压紧板、压紧气缸与真空吸盘，固定板安装在伸缩板顶端，固定板中部开设有凹槽，凹槽前后两侧通过滑动配合方式对称安装有压紧板，压紧板外侧与压紧气缸顶端相连接，压紧气缸底端安装在固定板侧壁上，且凹槽侧壁上均匀开设有通气孔，通气孔外侧安装有真空吸盘；压紧气缸的结构、原理及控制方法均为现有技术，通过现有设备将ITO玻璃移动至适当位置，使得ITO玻璃下端紧贴在固定板上，将真空吸盘外接真空设备后，使得ITO玻璃后端能够被固定，之后根据ITO玻璃的宽度，通过压紧气缸的伸缩运动带动压紧板移动至适当位置，直至压紧板侧壁能够紧贴在ITO玻璃左右两侧，达到对ITO玻璃进行固定的目的，当ITO玻璃表面处理完毕后，通过压紧气缸的伸缩运动带动压紧板远离ITO玻璃侧壁，以便通过现有设备将ITO玻璃夹紧并移动至指定位置。
作为本发明的一种优选技术方案，所述横向移动支链包括安装板、横向移动电机、横向旋转架、横向移动板与横向移动块，安装板安装在移动架上，安装板侧壁上通过电机座安装有横向移动电机，横向移动电机输出轴与横向旋转架侧壁相连接，横向旋转架为上下可伸缩结构，横向旋转架上设置有凸柱，横向旋转架前侧布置有横向移动板，横向移动板安装在横向移动块上，横向移动块通过滑动配合方式安装在横向槽内，横向移动块下端安装有等离子体表面处理机；横向移动电机的结构、原理及控制方法均为现有技术，通过横向移动电机带动横向旋转架进行转动，转动过程中，当凸柱转动至横向移动槽内时，便可带动横向移动板及横向移动块进行横向直线运动，且可根据ITO玻璃的实际尺寸对横向移动板每次移动距离进行调整，以保证ITO玻璃能够被均匀照射。
作为本发明的一种优选技术方案，所述纵向移动支链包括工作板、纵向移动电机、纵向旋转架、纵向移动板与连接辅助板，工作板安装在真空箱体内壁上，工作板侧壁上通过电机座安装有纵向移动电机，纵向移动电机输出轴与纵向旋转架侧壁相连接，纵向旋转架上设置有连接柱，纵向旋转架右侧布置有纵向移动板，纵向移动板安装在连接辅助板上，连接辅助板安装在真空箱体侧壁上；纵向移动电机的结构、原理及控制方法均为现有技术，通过纵向移动电机带动纵向旋转架进行转动，转动过程中，当连接柱转动至纵向移动槽内时，便可带动纵向移动板及连接辅助板进行纵向伸缩运动，能够节省工作空间，在有限的空间内带动等离子体表面处理机进行纵向间歇直线运动。
作为本发明的一种优选技术方案，所述横向移动板中部固定在横向移动块上，横向移动板左右两端与横向移动块上端相紧贴，横向移动板上从左往右均匀开设有横向移动槽，相邻横向移动槽之间布置有横向转动槽，且横向转动槽与其右端紧邻的横向移动槽之间的部分为左右可伸缩结构。
作为本发明的一种优选技术方案，所述连接辅助板与纵向移动板均为多级伸缩结构，且纵向移动板上从左往右均匀开设有纵向移动槽，相邻纵向移动槽之间布置有纵向转动槽。
与现有技术相比，本发明具有以下优点：
1.本发明具有工作时气密性高、工作连续性高与可保证ITO表面能够被均匀照射等优点；
2.本发明设置有送料机构，能够连续地对ITO玻璃进行表面处理，提高了处理效率，且在转动过程中，滑动架在封闭筒内壁上滑动，能够阻止过多空气进入真空箱体，保证了真空箱体内的密闭性；
3.本发明设置有移动机构，横向移动支链与纵向移动支链能够带动等离子体表面处理机进行匀速横向运动与纵向运动，保证ITO玻璃每一处都能够被等离子体所照射，提高了处理的均匀性。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的立体结构示意图；
图2是本发明真空箱体、旋转电机与固定架之间的平面结构示意图；
图3是本发明真空箱体与送料机构之间的剖视图；
图4是本发明真空箱体、移动机构与等离子体表面处理机之间的第一平面结构示意图；
图5是本发明真空箱体、移动机构与等离子体表面处理机之间的第二平面结构示意图；
图6是本发明真空箱体、移动机构与等离子体表面处理机之间的平面结构示意图；
图7是本发明图3的N向局部放大结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合图1至图7，对本发明进行进一步阐述。
一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体1、送料机构2、移动机构3与等离子体表面处理机4，所述真空箱体1内从下往上依次安装有送料机构2与移动机构3，送料机构2上方布置有等离子体表面处理机4，等离子体表面处理机4安装在移动机构3上，且真空箱体1左侧开设有进料口，真空箱体1右侧开设有出料口；其中：
所述送料机构2包括封闭筒21、旋转辊22、旋转电机23、伸缩板24、连接架25、滑动架26、固定架27与伸缩架28，封闭筒21安装在真空箱体1内壁上，封闭筒21侧壁上沿其周向方向均匀开有方口，相邻方口之间开设有通槽：
-封闭筒21内布置有旋转辊22，旋转辊22通过轴承安装在真空箱体1侧壁上，且旋转辊22后端通过联轴器与旋转电机23输出轴相连接，旋转电机23通过电机座安装在真空箱体1侧壁上，旋转辊22侧壁上沿其周向方向均匀安装有伸缩板24，伸缩板24位置与方口位置一一对应，伸缩板24为上下可伸缩结构，伸缩板24侧壁上安装有连接架25，连接架25上端安装有滑动架26，滑动架26侧壁通过滑动配合方式与封闭筒21内壁相连接，滑动架26中部开设有方槽，方槽上端布置有固定架27，固定架27与滑动架26之间连接有伸缩架28，伸缩架28为上下可伸缩结构，且固定架27下端与伸缩板24顶端相连接；旋转电机23的结构、原理及控制方法均为现有技术，将伸缩板24长度调节适当后，使得固定架27能够伸出进料口，以便通过现有设备将待处理的ITO玻璃固定在固定架27上，再通过旋转电机23带动旋转辊22进行转动，从而达到带动ITO玻璃依次经过进料口、等离子体表面处理机4下方与出料口的目的，能够连续地对ITO玻璃进行表面处理，提高了处理效率，且在转动过程中，滑动架26在封闭筒21内壁上滑动，能够阻止过多空气进入真空箱体1，保证了真空箱体1内的密闭性。
所述移动机构3包括直线导轨31、移动架32、横向移动支链33与纵向移动支链34，直线导轨31数量为二，两个直线导轨31左右对称安装在真空箱体1内壁上，直线导轨31下端通过滑动配合方式与移动架32侧壁相连接，移动架32为U型结构，移动架32上开设有横向槽，横向槽内布置有横向移动支链33，移动架32后端与纵向移动支链34侧壁相连接；在直线导轨31的导向作用下，横向移动支链33与纵向移动支链34能够带动等离子体表面处理机4进行匀速横向运动与纵向运动，保证ITO玻璃每一处都能够被等离子体所照射，提高了处理的均匀性。
所述固定架27包括固定板271、压紧板272、压紧气缸273与真空吸盘274，固定板271安装在伸缩板24顶端，固定板271中部开设有凹槽，凹槽前后两侧通过滑动配合方式对称安装有压紧板272，压紧板272外侧与压紧气缸273顶端相连接，压紧气缸273底端安装在固定板271侧壁上，且凹槽侧壁上均匀开设有通气孔，通气孔外侧安装有真空吸盘274；压紧气缸273的结构、原理及控制方法均为现有技术，通过现有设备将ITO玻璃移动至适当位置，使得ITO玻璃下端紧贴在固定板271上，将真空吸盘274外接真空设备后，使得ITO玻璃后端能够被固定，之后根据ITO玻璃的宽度，通过压紧气缸273的伸缩运动带动压紧板272移动至适当位置，直至压紧板272侧壁能够紧贴在ITO玻璃左右两侧，达到对ITO玻璃进行固定的目的，当ITO玻璃表面处理完毕后，通过压紧气缸273的伸缩运动带动压紧板272远离ITO玻璃侧壁，以便通过现有设备将ITO玻璃夹紧并移动至指定位置。
所述横向移动支链33包括安装板331、横向移动电机332、横向旋转架333、横向移动板334与横向移动块335，安装板331安装在移动架32上，安装板331侧壁上通过电机座安装有横向移动电机332，横向移动电机332输出轴与横向旋转架333侧壁相连接，横向旋转架333为上下可伸缩结构，横向旋转架333上设置有凸柱，横向旋转架333前侧布置有横向移动板334，横向移动板334安装在横向移动块335上，横向移动块335通过滑动配合方式安装在横向槽内，横向移动块335下端安装有等离子体表面处理机4,横向移动板334中部固定在横向移动块335上，横向移动板334左右两端与横向移动块335上端相紧贴，横向移动板334上从左往右均匀开设有横向移动槽，相邻横向移动槽之间布置有横向转动槽，且横向转动槽与其右端紧邻的横向移动槽之间的部分为左右可伸缩结构；横向移动电机332的结构、原理及控制方法均为现有技术，通过横向移动电机332带动横向旋转架333进行转动，转动过程中，当凸柱转动至横向移动槽内时，便可带动横向移动板334及横向移动块335进行横向直线运动，且可根据ITO玻璃的实际尺寸对横向移动板334每次移动距离进行调整，以保证ITO玻璃能够被均匀照射。
所述纵向移动支链34包括工作板341、纵向移动电机342、纵向旋转架343、纵向移动板344与连接辅助板345，工作板341安装在真空箱体1内壁上，工作板341侧壁上通过电机座安装有纵向移动电机342，纵向移动电机342输出轴与纵向旋转架343侧壁相连接，纵向旋转架343上设置有连接柱，纵向旋转架343右侧布置有纵向移动板344，纵向移动板344安装在连接辅助板345上，连接辅助板345安装在真空箱体1侧壁上,连接辅助板345与纵向移动板344均为多级伸缩结构，且纵向移动板344上从左往右均匀开设有纵向移动槽，相邻纵向移动槽之间布置有纵向转动槽；纵向移动电机342的结构、原理及控制方法均为现有技术，通过纵向移动电机342带动纵向旋转架343进行转动，转动过程中，当连接柱转动至纵向移动槽内时，便可带动纵向移动板344及连接辅助板345进行纵向伸缩运动，能够节省工作空间，在有限的空间内带动等离子体表面处理机4进行纵向间歇直线运动。
工作时，将真空吸盘274外接真空设备，并通过现有设备将待处理的ITO玻璃放置在固定架27上，接着通过伸缩板24的伸缩运动将固定架27带动至封闭筒21内，通过旋转电机23带动旋转辊22进行转动，使得固定架27内ITO玻璃位于等离子体表面处理机4下方；
在等离子体表面处理机4对ITO玻璃进行照射时，通过横向移动支链33与纵向移动支链34的相互配合，带动等离子体表面处理机4间歇进行横向直线运动与纵向直线运动，以保证ITO玻璃表面能够被均匀照射；
ITO玻璃表面照射完毕后，在旋转电机23与伸缩板24的配合作用下，带动其移动至出料口外，以便现有设备将ITO玻璃夹紧并移动至指定位置进行后续处理。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中的描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体(1)、送料机构(2)、移动机构(3)与等离子体表面处理机(4)，其特征在于：所述真空箱体(1)内从下往上依次安装有送料机构(2)与移动机构(3)，送料机构(2)上方布置有等离子体表面处理机(4)，等离子体表面处理机(4)安装在移动机构(3)上，且真空箱体(1)左侧开设有进料口，真空箱体(1)右侧开设有出料口；其中：
所述送料机构(2)包括封闭筒(21)、旋转辊(22)、旋转电机(23)、伸缩板(24)、连接架(25)、滑动架(26)、固定架(27)与伸缩架(28)，封闭筒(21)安装在真空箱体(1)内壁上，封闭筒(21)侧壁上沿其周向方向均匀开有方口，相邻方口之间开设有通槽：
-封闭筒(21)内布置有旋转辊(22)，旋转辊(22)通过轴承安装在真空箱体(1)侧壁上，且旋转辊(22)后端通过联轴器与旋转电机(23)输出轴相连接，旋转电机(23)通过电机座安装在真空箱体(1)侧壁上，旋转辊(22)侧壁上沿其周向方向均匀安装有伸缩板(24)，伸缩板(24)位置与方口位置一一对应，伸缩板(24)为上下可伸缩结构，伸缩板(24)侧壁上安装有连接架(25)，连接架(25)上端安装有滑动架(26)，滑动架(26)侧壁通过滑动配合方式与封闭筒(21)内壁相连接，滑动架(26)中部开设有方槽，方槽上端布置有固定架(27)，固定架(27)与滑动架(26)之间连接有伸缩架(28)，伸缩架(28)为上下可伸缩结构，且固定架(27)下端与伸缩板(24)顶端相连接；
所述移动机构(3)包括直线导轨(31)、移动架(32)、横向移动支链(33)与纵向移动支链(34)，直线导轨(31)数量为二，两个直线导轨(31)左右对称安装在真空箱体(1)内壁上，直线导轨(31)下端通过滑动配合方式与移动架(32)侧壁相连接，移动架(32)为U型结构，移动架(32)上开设有横向槽，横向槽内布置有横向移动支链(33)，移动架(32)后端与纵向移动支链(34)侧壁相连接。
2.根据权利要求1所述的一种ITO表面特性均一化装置，其特征在于：所述固定架(27)包括固定板(271)、压紧板(272)、压紧气缸(273)与真空吸盘(274)，固定板(271)安装在伸缩板(24)顶端，固定板(271)中部开设有凹槽，凹槽前后两侧通过滑动配合方式对称安装有压紧板(272)，压紧板(272)外侧与压紧气缸(273)顶端相连接，压紧气缸(273)底端安装在固定板(271)侧壁上，且凹槽侧壁上均匀开设有通气孔，通气孔外侧安装有真空吸盘(274)。
3.根据权利要求1所述的一种ITO表面特性均一化装置，其特征在于：所述横向移动支链(33)包括安装板(331)、横向移动电机(332)、横向旋转架(333)、横向移动板(334)与横向移动块(335)，安装板(331)安装在移动架(32)上，安装板(331)侧壁上通过电机座安装有横向移动电机(332)，横向移动电机(332)输出轴与横向旋转架(333)侧壁相连接，横向旋转架(333)为上下可伸缩结构，横向旋转架(333)上设置有凸柱，横向旋转架(333)前侧布置有横向移动板(334)，横向移动板(334)安装在横向移动块(335)上，横向移动块(335)通过滑动配合方式安装在横向槽内，横向移动块(335)下端安装有等离子体表面处理机(4)。
4.根据权利要求1所述的一种ITO表面特性均一化装置，其特征在于：所述纵向移动支链(34)包括工作板(341)、纵向移动电机(342)、纵向旋转架(343)、纵向移动板(344)与连接辅助板(345)，工作板(341)安装在真空箱体(1)内壁上，工作板(341)侧壁上通过电机座安装有纵向移动电机(342)，纵向移动电机(342)输出轴与纵向旋转架(343)侧壁相连接，纵向旋转架(343)上设置有连接柱，纵向旋转架(343)右侧布置有纵向移动板(344)，纵向移动板(344)安装在连接辅助板(345)上，连接辅助板(345)安装在真空箱体(1)侧壁上。
5.根据权利要求3所述的一种ITO表面特性均一化装置，其特征在于：所述横向移动板(334)中部固定在横向移动块(335)上，横向移动板(334)左右两端与横向移动块(335)上端相紧贴，横向移动板(334)上从左往右均匀开设有横向移动槽，相邻横向移动槽之间布置有横向转动槽，且横向转动槽与其右端紧邻的横向移动槽之间的部分为左右可伸缩结构。
6.根据权利要求4所述的一种ITO表面特性均一化装置，其特征在于：所述连接辅助板(345)与纵向移动板(344)均为多级伸缩结构，且纵向移动板(344)上从左往右均匀开设有纵向移动槽，相邻纵向移动槽之间布置有纵向转动槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910222037.1A CN109772821B (zh) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 一种ito表面特性均一化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910222037.1A CN109772821B (zh) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 一种ito表面特性均一化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109772821A CN109772821A (zh) | 2019-05-21 |
| CN109772821B true CN109772821B (zh) | 2019-09-03 |
Family
ID=66490865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910222037.1A Active CN109772821B (zh) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 一种ito表面特性均一化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109772821B (zh) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20090056743A1 (en) * | 2007-08-31 | 2009-03-05 | Soo Young Choi | Method of cleaning plasma enhanced chemical vapor deposition chamber |
| CN101402095A (zh) * | 2008-09-09 | 2009-04-08 | 上海拓引数码技术有限公司 | 等离子体表面清洗装置 |
| CN103664000B (zh) * | 2013-12-11 | 2016-08-17 | 湖北优尼科光电技术股份有限公司 | 一种ito膜导电玻璃生产方法及一种真空旋涂设备 |
| CN107051958A (zh) * | 2017-04-19 | 2017-08-18 | 重庆优玛环试医疗设备有限公司 | 一种立式真空清洗机 |
| CN207716815U (zh) * | 2017-12-22 | 2018-08-10 | 浙江芯能光伏科技股份有限公司 | 一种光伏板组件的预封装烘干装置 |
| CN208513246U (zh) * | 2018-06-06 | 2019-02-19 | 天通（嘉兴）新材料有限公司 | 一种用于手机玻璃盖板丝印处理的等离子清洗机 |
-
2019
- 2019-03-22 CN CN201910222037.1A patent/CN109772821B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109772821A (zh) | 2019-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI708746B (zh) | 玻璃熱彎上下料機 | |
| CN109775357A (zh) | 一种取料移送装置 | |
| KR20040071607A (ko) | 유리판 가공장치 | |
| CN109772821B (zh) | 一种ito表面特性均一化装置 | |
| KR20090024934A (ko) | 역압 대응식 게이트 밸브 | |
| CN206915994U (zh) | 一种3d玻璃热压成型机 | |
| KR20110131433A (ko) | 필름 세정용 대기압 플라즈마 세정시스템 | |
| CN215278106U (zh) | 一种喷涂均匀的镀膜装置 | |
| CN102034725B (zh) | 基片自动对位上载装置 | |
| CN209493275U (zh) | 一种装配式建筑用外挂墙板生产转运车 | |
| CN107098162B (zh) | 一种自动晾干设备 | |
| CN114585170A (zh) | 一种hdi线路板表面耐腐蚀层涂抹设备及工艺 | |
| CN201956333U (zh) | 基片对位上载装置 | |
| CN109203550A (zh) | 一种中药复方黄连素片压片装置 | |
| CN209143019U (zh) | 一种危废处理设备的螺旋式进料装置 | |
| CN111354617B (zh) | 一种自动进出料等离子体处理装置及其使用方法 | |
| CN209051713U (zh) | 一种垂直平移式上标机 | |
| TWM599322U (zh) | 一種水準立式磁控濺射鍍膜設備 | |
| CN217834058U (zh) | 用于施釉机中的喷枪自动旋转换向装置 | |
| CN219822643U (zh) | 工件输送装置 | |
| CN216271683U (zh) | 一种磁片垫片交错排列装置 | |
| CN218341830U (zh) | 一种铝合金模板表面喷砂装置 | |
| CN106669882B (zh) | 一种豆类抛光机 | |
| CN105506888B (zh) | 一种拉幅定型机用浆料挡板升降机构 | |
| CN219199926U (zh) | 一种集成电路板维修用清洗烘干装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20220209 Address after: 401346 1-1, 1-2, 2-1, 2-2, building 3, No. 16, Shigui Avenue, Jieshi Town, Banan District, Chongqing Patentee after: Chongqing hanlang Precision Technology Co.,Ltd. Address before: 314113 building A2, No. 555, Chuangye Road, Dayun Town, Jiashan County, Jiaxing City, Zhejiang Province Patentee before: ZHEJIANG JINGJING TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right |