CN109760320A - 光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及光学器件制造领域，提供了一种光学薄膜转移方法和装置，其中，光学薄膜转移方法包括如下步骤：基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽内加入金属刻蚀液；刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去金属基底，使光学薄膜漂浮于金属刻蚀液之上；薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽内的液体，使光学薄膜下降并贴合在非金属基底上。本申请所提供的技术方案能够降低成本，提高生产良率。

Description

光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置

技术领域

本申请涉及光学器件制造领域，特别涉及一种光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置。

背景技术

光学薄膜是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。光学薄膜器件通常包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。

在光学薄膜器件的制造过程中，往往需要将在金属基底上生长的光学薄膜转移到其他材质的基底上。

现有技术的转移方法主要有静电转移法和物理机械剥离法。

静电转移法可参考公开号为CN108807257A，名称为《静电吸附夹盘及其制造方法、以及半导体装置的制造方法》的中国发明专利，以及公开号为CN108535181A，名称为《剥离力测试系统及剥离力测试方法》的中国发明专利。这一方法通常借由静电力(库伦力)来保持光学薄膜，并借由将电极予以除电以去除静电力，实现光学薄膜的物理剥离。

物理机械剥离法可见于公开号为CN1088223531A，名称为《柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法》的中国发明专利，其通常利用纯粹的机械手段对薄膜进行剥离。

显然，无论是静电转移法和物理机械剥离法都无法避免对光学薄膜的直接接触，容易因引入的夹具导致污染。而且，剥离不彻底的问题也进一步影响了良率。

发明内容

为了解决上述问题或至少部分地解决上述技术问题，在本申请的一个实施方式中，提供了一种光学薄膜转移方法，包括如下步骤：

基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；

刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽内加入金属刻蚀液；

刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去金属基底，使光学薄膜漂浮于金属刻蚀液之上；

薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽内的液体，使光学薄膜下降并贴合在非金属基底上。

本申请的实施方式还提供了一种光学薄膜转移装置，包括：

容器，容器形成有刻蚀槽，刻蚀槽内盛放有金属刻蚀液，容器内还设置有排出管道，排出管道用于排出刻蚀槽内的液体；

刻蚀槽用于在放入光学薄膜时，脱去光学薄膜上所依附的金属基底；刻蚀槽内的液体排出后，能够将光学薄膜贴合在位于刻蚀槽内的非金属基底上。

相比于现有技术而言，本实施方式借助于化学方法，对光学薄膜的金属基底进行了剥离。由于剥离过程中，无需通过机械设备接触光学薄膜表面，因此不易发生接触式的污染。而且，由于剥离的进度可通过延长刻蚀液与金属基底的接触时间来控制，因此能够避免剥离不彻底的问题，从而提高产品良率。

而且相对于现有技术而言，本申请的实施方式所提供的光学薄膜转移装置，由于无需设置复杂的吸盘、静电发生器等等机械结构，因此能够显著地降低设备成本和维护成本，进而降低生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅用于示意本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图中未提及的技术特征、连接关系乃至方法步骤。

图1是本申请第一实施方式的光学薄膜转移装置的立体示意图；

图2是本申请第一实施方式的光学薄膜转移方法的流程图；

图3是本申请第一实施方式的光学薄膜转移装置的剖面示意图；

图4是本申请第二实施方式的光学薄膜转移方法的流程图；

图5是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置的立体示意图；

图6是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在流动槽处观察的排出管道和注入管道时的剖面示意图；

图7是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在进行刻蚀步骤时的剖面示意图；

图8是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在排出部分刻蚀液时的剖面示意图；

图9是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在加入部分第一缓冲液时的剖面示意图；

图10是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在加入部分第二缓冲液时的剖面示意图；

图11是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在排出缓冲液过程中光学薄膜开始贴附在非金属基底上时的剖面示意图；

图12是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在排尽缓冲液时的剖面示意图；

图13是本申请第三实施方式的光学薄膜转移方法的流程图；

图14是本申请第三实施方式的光学薄膜转移装置的立体示意图。

附图标记说明

1-容器；11-刻蚀槽；12-排出管道；13-注入管道；14-流动槽；15-隔离壁；16-准备槽；17-隔离件；

2-非金属基底；

3-支撑件；

41-金属刻蚀液；42-第一缓冲液；43-第二缓冲液；

5-光学薄膜；6-金属基底；

7-滑轨。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。

实施方式一

本申请提供了一种光学薄膜转移方法。

本申请的发明人发现，在现有技术中，在采用静电转移法和物理机械剥离法剥离光学薄膜时，常采用真空吸盘、静电吸盘等接触式器械，因此容易污染光学薄膜的表面。

而且，此类机械设备还具有成本相对较高，效率相对较低的缺点。

为解决上述问题，本申请实施方式提供一种光学薄膜转移方法和转移设备/装置。

参见图1所示，光学薄膜转移装置包括：

容器1，容器1形成有刻蚀槽11，刻蚀槽11内盛放有金属刻蚀液41，容器1内还设置有排出管道12，排出管道12用于排出刻蚀槽11内的液体；

刻蚀槽11用于在放入光学薄膜5时，脱去光学薄膜5上所依附的金属基底6；刻蚀槽11内的液体排出后，能够将光学薄膜5贴合在位于刻蚀槽11内的非金属基底2上。

一种利用该光学薄膜转移装置来转移光学薄膜5的转移步骤简单如下：

1、在容器1的刻蚀槽11内置入非金属基底2；

2、在刻蚀槽11内加入金属刻蚀液41，所加入的金属刻蚀液41可以大体上加满至刻蚀槽11的三分之二至四分之三高度。

3、将附有金属基底6的光学薄膜5放入加好的金属刻蚀液41中，金属刻蚀液41与金属基底6发生化学反应并脱去金属基底6，使光学薄膜5成为一层漂浮于金属刻蚀液41之上的膜状物质；

4、通过排出管道12排出刻蚀槽11内的金属刻蚀液41，使光学薄膜5下降。在光学薄膜5下降至非金属基底2的表面时，将自然而然地贴合在非金属基底2上。

其中，容器1往往可以采用工业上常用的各种槽状容器1，容器1的内胆材质包括且不限于各种塑料、陶瓷或玻璃材料。

在本申请中，所指的金属刻蚀液41一般是弱酸性水溶液。常见的金属刻蚀液41可以是磷酸、硝酸和/或醋酸的混合物。这些酸性溶液往往可以于金属材质的基底发生反应，实现金属薄层的刻蚀。

排出管道12可以如图1中所示，伸入容器1内并通过外接的泵抽出金属刻蚀液41，也可以在容器1的底部开孔后连接排出管道12，从而从容器1的下方排出液体。

据此，本实施方式还提供了一种光学薄膜转移方法，参见图2所示，包括如下步骤：

基底准备步骤：在容器1的刻蚀槽11内置入非金属基底2；

刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽11内加入金属刻蚀液41；

刻蚀步骤：将附有金属基底6的光学薄膜5置于金属刻蚀液41中，脱去金属基底6，使光学薄膜5漂浮于金属刻蚀液41之上；

薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽11内的液体，使光学薄膜5下降并贴合在非金属基底2上。

显然，即便不依赖于本实施方式的光学薄膜转移装置，本实施方式的光学薄膜转移方法也依然能够实现转移光学薄膜5的技术目的。另外，本实施方式所提供的各个步骤的顺序并非一成不变的，例如，可以先进行刻蚀液的准备，再进行基底的准备。各步骤根据实际的需求进行变动并不影响本申请技术目的的实现。

相比于现有技术而言，本实施方式借助于化学方法，对光学薄膜5的金属基底6进行了剥离。由于剥离过程中，无需通过机械设备接触光学薄膜5的表面，因此不易发生接触式的污染。而且，由于剥离的进度可通过延长刻蚀液与金属基底6的接触时间来控制，因此能够避免剥离不彻底的问题，从而提高产品良率。

而且相对于现有技术而言，本申请的实施方式所提供的光学薄膜转移装置，由于无需设置复杂的吸盘、静电发生器等等机械结构，因此能够显著地降低设备成本和维护成本，进而降低生产成本。

显然，光学薄膜转移装置的结构并不被唯一限定，例如，参见图3所示，可选地，容器1内可以设置有用于支撑非金属基底2的支撑件3，非金属基底2倾斜地放置在支撑件3上。

具体地，可以将支撑件3的与非金属基底2接触的面设置为倾斜面，也可以将支撑件3仅设置在非金属基底2的一侧，并抬高非金属基底2的该侧。

在光学薄膜5的金属基底6已经完成刻蚀之后，排出刻蚀槽11内的液体的同时光学薄膜5将随着液位的下降而缓慢下降。当非金属基底2倾斜地放置在支撑件3上时，随着槽内液体的液位的下降，光学薄膜5的一侧边缘将首先与非金属基底2的较高的一侧形成接触，之后，光学薄膜5可以平整地贴合在非金属基底2上。相比于令非金属基底2平放而言，倾斜设置的非金属基底2可以在贴附过程中对对光学薄膜5下方的液体起到导流作用，因此能够提高光学薄膜5的贴合平整度，改善贴合效果。

而可选地，可以令非金属基底2的倾斜方向，也就是支撑件3的倾斜面朝向排出管道12的所在侧，使导流效果更加显著。

值得一提的是，支撑件3的与非金属基底2接触的面可以设置为粗糙面，防止非金属基底2发生滑移。当然，也可以利用卡扣、胶粘、磁力或其他一些方式额外地对非金属基底2进行固定。

此外，在容器1内还可以设置有隔离壁15，将容器1隔离出刻蚀槽11和流动槽14两个槽，并将排出管道12的管道口设置在流动槽14内。所设置的隔离壁15可以将排出管道12和其他一些附加设备或装置与刻蚀槽11隔离开来，进而防止这些装置对光学薄膜5本身产生影响。

具体地，这些附加设备可以是各种有益于刻蚀过程进行的装置。例如可以包括加热器，如电热板、电热丝等等。所设置的加热器可以显著地提高刻蚀效率。

以及，还可以设置冷却装置来冷却过热的液体，更多的附加设备可以根据实际需求自行加装。

实施方式二

本申请的第二实施方式提供了一种光学薄膜转移方法，第二实施方式的光学薄膜转移方法是第一实施方式的光学薄膜转移方法的进一步改进，主要改进之处在于，在本申请的第二实施方式中，还设置有缓冲步骤。

具体地，参见图4所示，在刻蚀步骤之后，薄膜贴合步骤之前，还包括缓冲步骤：

向刻蚀槽11内加入缓冲液，并排出金属刻蚀液41，缓冲液和金属刻蚀液41互不相溶且缓冲液的密度小于金属刻蚀液41。

其中，排出金属刻蚀液41的步骤与加入缓冲液的先后顺序可以不做严格限定，例如，可以先排出部分金属刻蚀液41，再加入部分缓冲液，再排出其余的金属刻蚀液41，再加入足够的缓冲液，从而实现缓冲液对金属刻蚀液41的替换。

缓冲液的成分可以是有机溶剂，例如可以是石油醚或甲醇。可以采用高纯度(如分析纯)的缓冲液以防止污染。缓冲液和金属刻蚀液41互不相溶且缓冲液的密度小于金属刻蚀液41，可以使得缓冲液在刻蚀槽11内时，始终漂浮于金属刻蚀液41的上方，从而将金属刻蚀液41与光学薄膜5隔离开来。

在本实施方式中，借助缓冲液实现了对金属刻蚀液41的清洗，能够去除污染，因此提高了光学薄膜5的洁净度，改善了光学薄膜5的性能和良率。另外，缓冲液还能够作用于非金属基底2的表面，洗去其表面的杂质和残留，使光学薄膜5实现更好的贴合效果。

更进一步地，同样参见图4所示，缓冲步骤包括如下子步骤：

加液步骤：向刻蚀槽11内加入缓冲液；

排液步骤：排出刻蚀槽11内的至少部分液体；

循环加液步骤和排液步骤。

循环的次数可以根据实际需求来决定，通过若干次反复的加液和排液，可以进一步地提高对金属刻蚀液41及其相关残留物的清洗质量。

另外，更进一步地，还可以在容器1内，特别可以在刻蚀槽11内设置传感器来检测金属刻蚀液41的残留浓度，从而确认缓冲步骤的进度。例如，可以设置电导率传感器。由于缓冲液往往是有机溶剂，为电的不良导体，与之相反，金属刻蚀液41通常为电的良导体，因此设置的电导率传感器可以实现对金属刻蚀液41的浓度监测，进而确认缓冲步骤的停止时机。

更进一步地，在缓冲步骤中，至少有两次加液步骤中所加入的缓冲液为不同的缓冲液；

其中，前一次加液步骤所加入的缓冲液的密度大于后一次加液步骤所加入的缓冲液的密度。采用不同密度的缓冲液，在密度较低的缓冲液加入时，可以隔开已经因清洗过程混入一定污染物的密度较重的缓冲液，相比于采用单一密度的缓冲液进行清洗而言，能够更进一步地提高清洗效果。

基于上述方法，本实施方式还提出了一种光学薄膜转移装置。本实施方式的光学薄膜转移装置是第一实施方式的光学薄膜转移装置的进一步改进，具体地，参见图5所示，光学薄膜转移装置还可以包括：

注入管道13，用于向容器1内注入液体；

其中，参见图6所示，排出管道12的管道口靠近容器1的底部；

注入管道13的管道口靠近容器1的中间高度处。

借助于注入管道13来注入液体，相比于直接倒入液体而言，可以防止刻蚀槽11的液面震荡，进而防止光学薄膜5发生变形。

据此，与第一实施方式一致，容器1内同样形成有流动槽14，流动槽14和刻蚀槽11之间同样可以设置有隔离壁15；

刻蚀槽11和流动槽14通过隔离壁15上的通孔彼此连通，非金属基底2和光学薄膜5置于刻蚀槽11内，排出管道12和注入管道13的管道口位于流动槽14内。

借助于通孔，可以实现流动槽14和刻蚀槽11之间的液体交换，而将注入管道13的管道口设置的靠近容器1的中间高度处，使得注入的密度较轻的液体可以直接漂浮在密度较重的液体的上方，防止液体注入过程对液流的震荡，稳定光学薄膜5的形态。

基于上述结构和方法，本实施方式提供了一种光学薄膜5的转移流程，具体如下：

1、参见图7所示，在容器1的刻蚀槽11内置入非金属基底2，在刻蚀槽11内加入金属刻蚀液41，所加入的金属刻蚀液41可以大体上加满至刻蚀槽11的三分之二至四分之三高度。将附有金属基底6的光学薄膜5放入加好的金属刻蚀液41中，金属刻蚀液41与金属基底6发生化学反应并脱去金属基底6，使光学薄膜5成为一层漂浮于金属刻蚀液41之上的膜状物质。

2、参见图8所示，在脱去金属基底6之后，通过外接的泵，经排出管道12吸出一部分刻蚀槽11内的金属刻蚀液41，使液位下降。

3、参见图9所示，通过注入管道13，向容器1内注入第一缓冲液42。由于第一缓冲液42的密度小于金属刻蚀液41，且二者并不互溶，因此二者将产生明显的分层现象。此时，可以同时开启注入管道13和排出管道12，也可以分段地注入和排出液体，最后，刻蚀槽11内的金属刻蚀液41将全部替换为缓冲液。可以循环多次此步骤，或直接进入下一步骤。

4、参见图10所示，通过注入管道13，向容器1内注入第二缓冲液43。同样的，第二缓冲液43与第一缓冲液42之间也将形成分层结构。之后，可选的，还可以注入第三缓冲液体、第四缓冲液……。在反复清洗的过程中，可以完全洗净光学薄膜5的下表面和非金属基底2的表面的残留物。

5、参见图11所示，通过排出管道12，将容器1内的液体缓缓排出，随着液位的下降，光学薄膜5将开始在非金属基底2的表面自行贴合。

6、参见图12所示，当容器1内的液体排尽时，光学薄膜5将完全贴合在非金属基底2的表面，据此完成了光学薄膜5的转移过程。

本实施方式借助于缓冲液的清洗效果，去除了无关的杂质，提供了更好的光学薄膜5与非金属基底2的结合环境，因此显著地提高了产品的良率。

实施方式三

本申请的第三实施方式提供了一种光学薄膜转移方法，第三实施方式的光学薄膜转移方法是第一或第二实施方式的光学薄膜转移方法的进一步改进，主要改进之处在于，在本申请的第三实施方式中，进一步地改进了步骤的先后顺序。

具体地，参见图13所示，在本实施方式中，基底准备步骤位于缓冲步骤之后。

也就是说，可以在缓冲液的清洗步骤完毕之后，再置入基底。如此一来，可以避免金属刻蚀液41对非金属基底2的污染。具体来说，可以通过一些传输装置来输送非金属基底2。

据此，本实施方式还提出了一种光学薄膜转移装置。本实施方式的光学薄膜转移装置是第一或第二实施方式的光学薄膜转移装置的进一步改进，具体地，参见图14所示，在光学薄膜转移装置中，容器1还形成有准备槽16，准备槽16和刻蚀槽11通过隔离件17隔开，隔离件17能够被移除；

光学薄膜转移装置还包括：

滑轨7，连接刻蚀槽11和准备槽16，支撑件3设置在滑轨7上，且能够沿滑轨7运动。

其中，可以在容器1外设置电机，并将电机的输出端通过推杆连接到支撑件3上，以自动化地控制支撑件3的运动。当然，也可以手动推动支撑件3运动。

基于上述结构和方法，本实施方式提供了一种光学薄膜5的转移流程，具体如下：

1、在刻蚀槽11内加入金属刻蚀液41，将附有金属基底6的光学薄膜5放入加好的金属刻蚀液41中，金属刻蚀液41与金属基底6发生化学反应并脱去金属基底6，使光学薄膜5成为一层漂浮于金属刻蚀液41之上的膜状物质。

2、在脱去金属基底6之后，通过排出管道12排出一部分刻蚀槽11内的金属刻蚀液41，使液位下降。经过缓冲液的反复清洗之后，完全地洗净光学薄膜5的下表面和非金属基底2的表面的残留物。

3、将非金属基底2放在支撑件3上，在准备槽16内也注入液位相近的缓冲液。移开隔离件17，通过支撑件3将非金属基底2移动至刻蚀槽11，且位于光学薄膜5的下方。此时，可以将隔离件17归位，以对光学薄膜5形成阻挡。

4、排掉缓冲液，当容器1内的液体排尽时，光学薄膜5将完全贴合在非金属基底2的表面，据此完成了光学薄膜5的转移过程。

值得一提的是，隔离件17可以是隔离板。为了保证隔离件17的隔离性能，可以在隔离板的边缘设置橡胶垫，以形成过盈密封。或者，隔离件17也可以是一次性的隔离膜，从而可以利用密封夹板夹住隔离膜，并在可以需要移除隔离件17时破坏隔离膜。

本实施方式通过隔离件17和准备槽16，将非金属基底2隔离开来，因此能够提高非金属基底2的洁净度，因此更进一步地提高产品良率。

最后，本领域的普通技术人员可以理解，在上述的各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于上述各实施方式的种种变化和修改，也可以基本实现本申请各权利要求所要求保护的技术方案。因此，在实际应用中，可以在形式上和细节上对上述实施方式作各种改变，而不偏离本申请的精神和范围。

应当理解，在本申请实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义，“多种”一般包含至少两种，但是不排除包含至少一种的情况。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

应当理解，尽管在本申请实施例中可能采用术语第一、第二、第三等来描述某些部件，但这些部件不应仅仅被限于定于这些术语中。这些术语仅用来将各部件彼此区分开。例如，在不脱离本申请实施例范围的情况下，第一某某部件也可以被称为第二某某部件，类似地，第二某某部件也可以被称为第一某某部件。

取决于语境，如在此所使用的词语“如果”、“若”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”或“响应于监测”。类似地，取决于语境，短语“如果确定”或“如果监测(陈述的条件或事件)”可以被解释成为“当确定时”或“响应于确定”或“当监测(陈述的条件或事件)时”或“响应于监测(陈述的条件或事件)”。

在本申请的实施方式中，“大体上等于”、“大体上垂直于”、“大体上对称”等等的意思是，所指的两个特征之间在宏观上的尺寸或相对位置关系十分接近于所述及的关系。然而本领域技术人员清楚，由于误差、公差等客观因素的存在而使得物体的位置关系在小尺度乃至微观角度难以被正好约束。因此即使二者之间的尺寸、位置关系稍微存在点误差，也并不会对本申请的技术效果的实现产生较大影响。

还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的商品或者系统不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种商品或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的商品或者系统中还存在另外的相同要素。

在上述的各实施方式中，尽管为使解释简单化将上述方法图示并描述为一系列动作，但是本领域的普通技术人员应理解并领会，这些方法不受动作的次序所限，因为根据一个或多个实施例，一些动作可按不同次序发生和/或与来自本文中图示和描述或本文中未图示和描述但本领域技术人员可以理解的其他动作并发地发生。

本领域技术人员将可理解，信息、信号和数据可使用各种不同技术和技艺中的任何技术和技艺来表示。例如，以上描述通篇引述的数据、指令、命令、信息、信号、位(比特)、码元、和码片可由电压、电流、电磁波、磁场或磁粒子、光场或光学粒子、或其任何组合来表示。

本领域技术人员将进一步领会，结合本文中所公开的实施例来描述的各种解说性逻辑板块、模块、单元、电路、和算法步骤可实现为电子硬件、计算机软件、或这两者的组合。为清楚地解说硬件与软件的这一可互换性，各种解说性组件、框、模块、单元、电路、和步骤在上面是以其功能性的形式作一般化描述的。此类功能性是被实现为硬件还是软件取决于具体应用和施加于整体系统的设计约束。技术人员对于每种特定应用可用不同的方式来实现所描述的功能性，但这样的实现决策不应被解读成导致脱离了本申请的范围。

最后应说明的是，本领域的普通技术人员可以理解，为了使读者更好地理解本申请，本申请的实施方式提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于上述各实施方式的种种变化和修改，也可以基本实现本申请各权利要求所要求保护的技术方案。因此，在实际应用中，可以在形式上和细节上对上述实施方式作各种改变，而不偏离本申请的精神和范围。

Claims (10)

1.一种光学薄膜转移方法，其特征在于，包括如下步骤：

基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；

刻蚀液准备步骤：在所述刻蚀槽内加入金属刻蚀液；

刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去所述金属基底，使所述光学薄膜漂浮于所述金属刻蚀液之上；

薄膜贴合步骤：排出所述刻蚀槽内的液体，使所述光学薄膜下降并贴合在所述非金属基底上。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，在所述刻蚀步骤之后，所述薄膜贴合步骤之前，还包括缓冲步骤：

向所述刻蚀槽内加入缓冲液，并排出所述金属刻蚀液，所述缓冲液和所述金属刻蚀液互不相溶且所述缓冲液的密度小于所述金属刻蚀液。

3.根据权利要求2所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，所述缓冲步骤包括如下子步骤：

加液步骤：向所述刻蚀槽内加入缓冲液；

排液步骤：排出刻蚀槽内的至少部分液体；

循环所述加液步骤和排液步骤。

4.根据权利要求3所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，在所述缓冲步骤中，至少有两次加液步骤中所加入的缓冲液为不同的缓冲液；

其中，前一次加液步骤所加入的缓冲液的密度大于后一次加液步骤所加入的缓冲液的密度。

5.根据权利要求2至4中任意一项所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，所述基底准备步骤位于所述缓冲步骤之后。

6.一种光学薄膜转移装置，其特征在于，包括：

容器，所述容器形成有刻蚀槽，所述刻蚀槽内盛放有金属刻蚀液，所述容器内还设置有排出管道，所述排出管道用于排出所述刻蚀槽内的液体；

所述刻蚀槽用于在放入光学薄膜时，脱去所述光学薄膜上所依附的金属基底；所述刻蚀槽内的液体排出后，能够将所述光学薄膜贴合在位于所述刻蚀槽内的非金属基底上。

7.根据权利要求5所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，还包括：

注入管道，用于向所述容器内注入液体；

所述排出管道的管道口靠近所述容器的底部；

所述注入管道的管道口靠近所述容器的中间高度处。

8.根据权利要求6所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，所述容器还形成有流动槽，所述流动槽和所述刻蚀槽之间设置有隔离壁；

所述刻蚀槽和流动槽通过所述隔离壁上的通孔彼此连通，所述非金属基底和所述光学薄膜置于所述刻蚀槽内，所述排出管道和所述注入管道的管道口位于所述流动槽内。

9.根据权利要求6至8中任意一项所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，所述容器内设置有用于支撑所述非金属基底的支撑件，所述非金属基底倾斜地放置在所述支撑件上。

10.根据权利要求9所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，所述容器还形成有准备槽，所述准备槽和所述刻蚀槽通过隔离件隔开，所述隔离件能够被移除；

所述光学薄膜转移装置还包括：

滑轨，连接所述刻蚀槽和所述准备槽，所述支撑件设置在所述滑轨上，且能够沿所述滑轨运动。