CN109738976A - 吸光膜及其制备方法、光学影像设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种吸光膜及其制备方法、光学影像设备，涉及光学薄膜技术领域，该吸光膜包括合金基板、粘合层和减反射层，粘合层设置在合金基板上，减反射层设置在粘合层上。该吸光膜通过合金基板与减反射层能够达到吸光作用，从而进一步降低了杂散光，提高了在需要超低杂散光的光学影像设备中的适用性；通过粘合层增强了合金基板与减反射层的结合度，从而降低了减反射层的脱落风险。另外，合金基板具有较好的延展性，不容易碎裂，热耐受力较好，可以用作一定暗背景下的保护层。
Description
技术领域
本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是涉及一种吸光膜及其制备方法、光学影像设备。
背景技术
减反射膜，又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。
目前低反射率的减反射膜是通过增加透过率的方式来减少反射光，从而减少杂散光。然而在诸如高端的光学影像设备的光学零件内部，通常要求超低杂散光，而现有的减反射膜无法满足其杂散光要求。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种吸光膜及其制备方法、光学影像设备，以达到吸光作用，从而进一步降低杂散光，提高在需要超低杂散光的光学影像设备中的适用性。
第一方面，本发明实施例提供了一种吸光膜，包括合金基板、粘合层和减反射层，所述粘合层设置在所述合金基板上，所述减反射层设置在所述粘合层上。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，所述合金基板的材质包括不锈钢或铝合金。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，所述合金基板的厚度为0.01mm-0.05mm。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，所述粘合层的材质包括钛、铬、铜或铝。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，所述粘合层的厚度为50nm-200nm。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的第五种可能的实施方式，其中，所述减反射层为由交替设置的低折射率层和高折射率层构成的多层结构，其中，最靠近所述合金基板的一层为所述低折射率层，最远离所述合金基板的一层为所述高折射率层。
结合第一方面的第五种可能的实施方式，本发明实施例提供了第一方面的第六种可能的实施方式，其中，所述低折射率层包括二氧化硅膜层；所述高折射率层包括钛氧化物膜层、氧化铬膜层或氧化铝膜层。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的第七种可能的实施方式，其中，所述粘合层和所述减反射层的厚度之和不超过500nm。
结合第一方面的第六种可能的实施方式，本发明实施例提供了第一方面的第八种可能的实施方式，其中，所述钛氧化物膜层的材质包括TiO2、Ti2O3和TiO3中的一种或多种。
第二方面，本发明实施例还提供一种吸光膜的制备方法，包括：
在合金基板上形成粘合层；
在所述粘合层上形成减反射层，以得到吸光膜。
结合第二方面，本发明实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，所述减反射层为由交替设置的二氧化硅膜层和氧化钛膜层构成的多层结构；所述在所述粘合层上形成减反射层，包括：
在充氧环境下使用硅靶形成所述减反射层中的二氧化硅膜层；
在充氧环境下使用钛靶形成所述减反射层中的氧化钛膜层。
第三方面，本发明实施例还提供一种光学影像设备，包括如上述第一方面所述的吸光膜。
本发明实施例带来了以下有益效果：
本发明实施例中，吸光膜包括合金基板、粘合层和减反射层，粘合层设置在合金基板上，减反射层设置在粘合层上。该吸光膜通过合金基板与减反射层能够达到吸光作用，从而进一步降低了杂散光，提高了在需要超低杂散光的光学影像设备中的适用性；通过粘合层增强了合金基板与减反射层的结合度，从而降低了减反射层的脱落风险。另外，合金基板具有较好的延展性，不容易碎裂，热耐受力较好，可以用作一定暗背景下的保护层。
本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种吸光膜的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种吸光膜的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种吸光膜的反射率测试结果图；
图4为本发明实施例提供的一种吸光膜的制备方法的流程示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种吸光膜的制备方法的流程示意图。
图标：
100-合金基板；200-粘合层；300-减反射层；301-低折射率层；302-高折射率层。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
目前低反射率的减反射膜镀膜，一般用在玻璃等基板上，脆性和延展性相对不足，导致减反射膜容易碎裂，热耐受力较差，最重要的是无法达到吸光作用，因而无法满足杂散光要求较高的光学影像设备的使用需求。基于此，本发明实施例提供的一种吸光膜及其制备方法、光学影像设备，可以使吸光膜达到在400nm～700nm光谱波段平均反射率低于0.3％的吸光作用，且合金基板具有较好的延展性，可以用作一定暗背景下的保护层。
为便于对本实施例进行理解，首先对本发明实施例所公开的一种吸光膜进行详细介绍。
实施例一：
图1为本发明实施例提供的一种吸光膜的结构示意图，如图1所示，该吸光膜包括合金基板100、粘合层200和减反射层300，粘合层200设置在合金基板100上，减反射层300设置在粘合层200上。
具体地，合金基板100和减反射层300结合起来能够达到吸光作用。考虑到采用现有镀膜技术，减反射层300与合金基板100表面结合度较差，容易脱落，本实施例中通过粘合层200增强二者的结合度。
可选地，合金基板100的材质包括不锈钢或铝合金。
可选地，合金基板100的厚度为0.01mm-0.05mm。
例如，采用不锈钢薄片作为合金基板100，其厚度不超过0.05mm，镀膜(粘合层200和减反射层300)后形成吸光功能，在400nm～700nm光谱波段吸光率能够达到99％以上，反射率低于0.3％。
可选地，粘合层200的材质包括钛Ti、铬Cr、铜Cu或铝Al。
在一些可能的实施例中，粘合层200的材质选用Ti。以Ti层为粘合层200时具有以下优点：优点一，Ti覆盖性好，镀膜的空洞少，致密性好；优点二，Ti的吸光性好，膜层设计中Ti层起到吸光作用，需要好的吸光性；优点三，Ti与合金基板100及减反射层300的粘结性好；优点四，Ti的化学稳定性好。
可选地，粘合层200的厚度为50nm-200nm。
可选地，总膜厚(粘合层200和减反射层300的总厚度)在500nm以内。
本发明实施例中，吸光膜包括合金基板、粘合层和减反射层，粘合层设置在合金基板上，减反射层设置在粘合层上。该吸光膜通过合金基板与减反射层能够达到吸光作用，从而进一步降低了杂散光，提高了在需要超低杂散光的光学影像设备中的适用性；通过粘合层增强了合金基板与减反射层的结合度，从而降低了减反射层的脱落风险。另外，合金基板具有较好的延展性，不容易碎裂，热耐受力较好，可以用作一定暗背景下的保护层。
图2为本发明实施例提供的另一种吸光膜的结构示意图，如图2所示，减反射层300为由交替设置的低折射率层301和高折射率层302构成的多层结构，其中，最靠近合金基板100(或粘合层200)的一层为低折射率层301，最远离合金基板100(或粘合层200)的一层为高折射率层302。
可选地，低折射率层301包括二氧化硅膜层；高折射率层302包括钛氧化物膜层、氧化铬膜层或氧化铝膜层。
进一步地，上述钛氧化物膜层的材质包括TiO2、Ti2O3和TiO3中的一种或多种。
例如，在不锈钢薄片基本表面(不锈钢表面)镀膜(粘合层200和减反射层300)，采用特定的膜层设计，使之与不锈钢表面精密粘结，并能够达到在400nm～700nm光谱波段平均反射率低于0.3％的吸光作用。
图3为本发明实施例提供的一种吸光膜的反射率测试结果图，如图3所示，通过镀膜材料和膜层设计，在400nm-700nm波段该吸光膜具有超高的吸光特性，平均反射率低于0.3％以下。另外，对于该吸光膜下400nm-700nm波段的反射光，色度L值小于2，色度A值的绝对值小于1.5，色度B值介于-3至0.5之间。
综上可知，在不锈钢薄片表面镀膜得到的吸光膜能够达到在400nm～700nm光谱波段平均反射率低于0.3％的吸光作用，且该吸光膜具有薄、不容易碎裂、契合度高、吸光效果好的特点。
实施例二：
图4为本发明实施例提供的一种吸光膜的制备方法的流程示意图，该方法可以在真空溅射镀膜机中完成，从而得到如上述实施例一的吸光膜。如图4所示，吸光膜的制备方法包括以下步骤：
步骤S402，在合金基板上形成粘合层。
具体地，在合金基板上形成粘合层之间，通常需要对合金基板的表面进行清洗，例如可以采用ICP(Inductive Coupled Plasma Emission Spectrometer，电感耦合等离子体)离子清洗，清洗的时间可以但不限于2min-5min，等离子体的流量可以但不限于为50sccm(standard-state cubic centimeter per minute，标准毫升/分钟)-100sccm。
可以通过真空溅射镀膜工艺，在清洗后的合金基板的表面溅镀诸如钛的粘合层，厚度为50nm-200nm。
步骤S404，在粘合层上形成减反射层，以得到吸光膜。
可选地，减反射层为由交替设置的低折射率层和高折射率层构成的多层结构，其中，最靠近合金基板的一层为低折射率层，最远离合金基板的一层为高折射率层。基于此，步骤S404的过程如下：先在粘合层上形成低折射率层，然后在该低折射率层上形成高折射率层，之后在该高折射率层上再交替形成低折射率层和高折射率层，直至达到膜层设计要求。
本发明实施例中，在合金基板上形成粘合层；在粘合层上形成减反射层，以得到吸光膜。该吸光膜通过合金基板与减反射层能够达到吸光作用，从而进一步降低了杂散光，提高了在需要超低杂散光的光学影像设备中的适用性；通过粘合层增强了合金基板与减反射层的结合度，从而降低了减反射层的脱落风险。另外，合金基板具有较好的延展性，不容易碎裂，热耐受力较好，可以用作一定暗背景下的保护层。
图5为本发明实施例提供的另一种吸光膜的制备方法的流程示意图，其中，上述合金基板采用不锈钢基片，粘合层采用钛Ti材质，上述减反射层为由交替设置的二氧化硅膜层和氧化钛膜层构成的多层结构，且该方法在真空溅射镀膜机中完成。图5在图4的基础上进行了细化，如图5所示，该方法包括以下步骤：
步骤S502，将不锈钢基片放入真空溅射镀膜机中，并抽真空至4E-4～2.0E-3Pa区间内。
这是常规腔体抽真空步骤。
步骤S504，对不锈钢基片表面进行ICP离子预清洗2min-5min。
预清洗时ICP的流量可以但不限于为50sccm-100sccm。
步骤S506，在不锈钢基片表面溅镀Ti，厚度为50nm-200nm。
步骤S508，在当前膜上溅镀SiO2。
可选地，可以使用Si靶并充入氧气，激发Si原子电离后在充氧环境下氧化形成SiO2并溅射至当前膜上。与现有技术中直接采用SiO2靶激发SiO2分子来溅镀SiO2相比，这种使用Si靶的镀膜方式成膜质量更好。
步骤S510，在当前膜上溅镀TiO2。
可选地，可以使用Ti靶并充入氧气，激发Ti原子电离后在充氧环境下氧化形成TiO2并溅射至当前膜上。与现有技术中直接采用TiO2靶激发TiO2分子来溅镀TiO2相比，这种使用Ti靶的镀膜方式成膜质量更好。
步骤S512，重复步骤S508和步骤S510直至达到要求。
按照预先定好的膜层设计，完成SiO2和TiO2的镀制。
本实施例提供的吸光膜的制备方法，膜层镀制相对简单。另外，采用溅射镀膜机镀制，以Ti靶和Si靶两种材料为基础，充入不同含量的气体(如氧气)，能够形成多种材料的化合物，从而达到膜层吸光作用。
实施例三：
本发明实施例还提供了一种光学影像设备，该光学影像设备包括如上述实施例一的吸光膜。
本发明实施例中，吸光膜包括合金基板、粘合层和减反射层，粘合层设置在合金基板上，减反射层设置在粘合层上。该吸光膜通过合金基板与减反射层能够达到吸光作用，从而进一步降低了杂散光，提高了在需要超低杂散光的光学影像设备中的适用性；通过粘合层增强了合金基板与减反射层的结合度，从而降低了减反射层的脱落风险。另外，合金基板具有较好的延展性，不容易碎裂，热耐受力较好，可以用作一定暗背景下的保护层。
本发明实施例提供的吸光膜的制备方法及光学影像设备，与上述实施例提供的吸光膜具有相同的技术特征，所以也能解决相同的技术问题，达到相同的技术效果。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的吸光膜的制备方法及光学影像设备的具体工作过程，可以参考前述吸光膜实施例中的对应过程，在此不再赘述。
在这里示出和描述的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制，因此，示例性实施例的其他示例可以具有不同的值。
应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
另外，在本发明实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
最后应说明的是：以上所述实施例，仅为本发明的具体实施方式，用以说明本发明的技术方案，而非对其限制，本发明的保护范围并不局限于此，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改或可轻易想到变化，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改、变化或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明实施例技术方案的精神和范围，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种吸光膜，其特征在于，包括合金基板、粘合层和减反射层，所述粘合层设置在所述合金基板上，所述减反射层设置在所述粘合层上。
2.根据权利要求1所述的吸光膜，其特征在于，所述合金基板的材质包括不锈钢或铝合金。
3.根据权利要求1所述的吸光膜，其特征在于，所述合金基板的厚度为0.01mm-0.05mm。
4.根据权利要求1所述的吸光膜，其特征在于，所述粘合层的材质包括钛、铬、铜或铝。
5.根据权利要求1所述的吸光膜，其特征在于，所述粘合层的厚度为50nm-200nm。
6.根据权利要求1所述的吸光膜，其特征在于，所述减反射层为由交替设置的低折射率层和高折射率层构成的多层结构，其中，最靠近所述合金基板的一层为所述低折射率层，最远离所述合金基板的一层为所述高折射率层。
7.根据权利要求6所述的吸光膜，其特征在于，所述低折射率层包括二氧化硅膜层；所述高折射率层包括钛氧化物膜层、氧化铬膜层或氧化铝膜层。
8.一种吸光膜的制备方法，其特征在于，包括：
在合金基板上形成粘合层；
在所述粘合层上形成减反射层，以得到吸光膜。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述减反射层为由交替设置的二氧化硅膜层和氧化钛膜层构成的多层结构；所述在所述粘合层上形成减反射层，包括：
在充氧环境下使用硅靶形成所述减反射层中的二氧化硅膜层；
在充氧环境下使用钛靶形成所述减反射层中的氧化钛膜层。
10.一种光学影像设备，其特征在于，包括如上述权利要求1-7中任一项所述的吸光膜。
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