CN109727536A - 显示设备 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种显示设备。本发明描述了一种显示器，其具有基础层和在基础层的顶部上具有两个露出部分的缓冲层。露出部分覆盖有膜。像素层被放置在两个膜之间，并且使用粘结剂层将第一基板附接至像素层。使用多个厚度或槽设计基板以有助于显示器的端部部分的曲率半径以实现零边框的显示器。

Description

显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2017年10月31日提交的韩国专利申请第10-2017-0143918的权益，其全部内容通过引用并入本文以用于所有目的，如同在此完全阐述一样。
技术领域
本公开涉及一种显示设备。
背景技术
随着信息时代的进步，对用于显示图像的显示装置的需求已经以各种形式增加。最近，已经推出了尺寸更纤巧的显示装置。特别地，柔性显示装置具有许多优点，包括其易于携带并且具有各种形状的装置。
由于柔性显示装置包括可以折叠基板的弯曲区域，并且可以通过在弯曲区域处折叠基板来减小边框尺寸，因此，柔性显示装置可以实现为具有窄边框的显示装置。
然而，随着弯曲水平增加以具有更窄的边框，面板边缘上的应力增加并且面板内的应力变强，导致出现例如发光二极管层叠和薄膜晶体管短路的问题。
发明内容
因此，本公开涉及基本上消除了由于相关技术的限制和缺点而引起的一个或更多个问题的显示设备。
本公开的优点是提供一种可以通过促进弯曲而具有零边框的显示设备。
本公开的另外的优点和特征将部分在随后的描述中阐述，并且部分地将在察看下文时对于本领域的普通技术人员而言变得明显，或者可以从本公开的实践中得到。本公开的目的和其它优点可以通过在撰写的说明书及其权利要求以及附图中特别指出的结构来实现和获得。
为了实现这些目的和其他优点并根据本公开的目的，如本文所体现和广泛描述的，提供了一种显示设备，其包括：具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域的第一基板；设置在第一基板的显示区域上的像素阵列层；以及设置在像素阵列层上的第二基板，所述第二基板具有第一区域和从第一区域弯曲的第二区域，其中第二基板在第一区域和第二区域中具有不同厚度。
应当理解，本公开的以上一般性描述和以下详细描述都是示例性和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的公开的进一步说明。
附图说明
包括附图以提供对本发明的进一步的理解并且附图被并入且构成该申请的一部分，附图示出了本公开的实施方案并且连同说明书一起用于说明本公开的原理。在附图中：
图1是示出根据本公开的一个实施方案的显示设备未被弯曲的状态的平面图；
图2是示出根据本公开的第一实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
图3是示出图2中所示的显示设备的弯曲状态的截面图；
图4是示出根据本公开的第二实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
图5是示出根据本公开的第三实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
图6是示出根据本公开的第四实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
图7是示出根据本公开的第五实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
图8是示出根据本公开的第六实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
图9是示出根据本公开的第七实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
具体实施方案
将通过参照附图描述的以下实施方式来阐明本公开的优点和特征以及其实现方法。然而，本公开可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文所述的实施方式。而是，提供这些实施方式使得本公开将是透彻和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传递本公开的范围。此外，本公开仅由权利要求书的范围限定。
在附图中公开的用于描述本公开的实施方案的形状、尺寸、比率、角度、数目仅是示例，并且因此本公开不限于所示出的细节。在整个说明书中，相似的附图标记指示相似的要素。在以下描述中，当确定相关已知功能或配置的详细描述使本公开的重点不必要地模糊时，将省略该详细描述。
在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，除非使用“仅”，否则可以添加另一部件。除非另有指明，否则单数形式的术语可以包括复数形式。
在诠释要素时，即使没有明确说明，要素也被解释为包括误差范围。
在描述位置关系时，例如，当位置关系被描述为“在……上”、“在……上方”、“在……下方”和“在……旁边”时，除非使用“紧接”或“直接”，否则可以在两个其他部分之间布置一个或更多个部分。
在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为“在……之后”、“随后”、“然后”以及“在……之前”时，可以包括不连续的情况，除非使用了“刚好”或“直接”。
应当理解，尽管在本文中术语“第一”、“第二”等可以用于描述各种要素，但这些要素不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个要素与另一个要素区分。例如，第一要素可以被称为第二要素而不脱离本公开的范围，并且类似地，第二要素可以被称为第一要素。
“第一水平轴方向”、“第二水平轴方向”和“垂直轴方向”不应仅由相互垂直关系的几何关系来解释，而是在本公开可以在功能上起作用的范围内可以具有更宽的方向性。
术语“至少之一”应被理解为包括一个或更多个相关联的列举项的任何和所有组合。例如，“第一项、第二项和第三项中的至少之一”的含义表示从第一项、第二项和第三项中的两个或更多个提出的所有项的组合以及第一项、第二项或第三项。
如本领域技术人员可以充分理解的，本公开的各个实施方案的特征可以部分地或全部地彼此耦合或组合，并且可以以各种方式彼此协作并在技术上被驱动。本公开的实施方案可以彼此独立地执行，或者可以以相互依赖的关系一起执行。
在下文中，将参照附图来详细描述本公开的优选实施方案。在可能的情况下，在整个附图中将使用相同的附图标记来指代相同或相似的部分。
图1是示出根据本公开的一个实施方案的显示设备未被弯曲的状态的平面图，并且图2是示出根据本公开的第一实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
参照图1和图2，根据本发明内容的第一实施方案的显示设备包括基板100、像素阵列层120、第二基板140和覆盖层150。
第一基板100是作为基础基板的柔性基板。例如，第一基板100可以包括透明的聚酰亚胺材料。由聚酰亚胺材料制成的第一基板100可以是在设置在载体玻璃基板上的释放层的前表面上以恒定厚度涂覆的硬化聚酰亚胺树脂。通过利用激光释放工艺使释放层释放来将载体玻璃基板与第一基板100分离。
基板100包括显示区域DA和非显示区域NA。
显示区域DA是在其中显示图像的区域，并且可以限定在第一基板100的中间部分。显示区域DA可以被限定为在其中布置用于显示图像的像素阵列层120的区域。
非显示区域NA是在其中不显示图像的区域，并且可以限定为基板100的边缘部分以围绕显示区域DA。
可以在第一基板100上形成缓冲层110。缓冲层110形成在第一基板100的整个表面上以防止水通过第一基板100渗透到显示区域DA中。根据一个实施方案的缓冲层110可以由交替沉积的复数个无机膜制成。例如，缓冲层110可以由交替堆叠的硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)、SiON和SiO2的一个或更多个无机膜的多层膜形成。缓冲层110可以被省略。
像素阵列层120被布置在第一基板100的显示区域DA上。即像素阵列层120被设置在与限定在第一基板100中的显示区域DA交叠的缓冲层110上。
像素阵列层120可以包括扫描线、数据线、驱动电源线、像素驱动电路和发光二极管层。
扫描线可以与第一基板100的第一方向X平行地布置，并且沿着第一基板100的第二方向Y彼此间隔开。
数据线可以与第一基板100的第二方向Y平行地布置，并且沿着第一基板100的第一方向X彼此间隔开。
驱动电源线与数据线平行地布置。
像素驱动电路被设置在通过扫描线与数据线之间的交叉限定的像素区域中，并且可以包括至少两个薄膜晶体管和至少一个电容器。像素驱动电路根据与其相邻的扫描线提供的扫描信号、与其相邻的驱动电源线提供的驱动电力和从数据线提供的数据信号来驱动发光二极管层发光。
发光二极管层根据从相应像素的像素驱动电路提供的数据信号发射光。从发光二极管层发射的光通过穿过第一基板100被发射到外部。发光二极管层可以包括连接至相应像素的像素驱动电路的第一电极、形成在第一电极上的发光层和形成在发光层上的第二电极。
第一电极可以是像素中单独图案化的阳极电极。第一电极由可以透射光的透明金属材料例如ITO和IZO形成。
根据一个实施方案的发光层可以包括红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层，每个发光层发射对应于针对该像素设置的颜色的光。
根据另一实施方案的发光层可以是共同形成在像素中的公共层。在这种情况下，可以简化制造过程。发光层可以包括有机发光层、无机发光层和量子点发光层中的任意一种，或者可以包括有机发光层(或无机发光层)和量子点发光层的沉积或混合结构。发光层包括用于发射白光的两个或更多个发光部分。例如，发光层可以包括用于通过混合第一光和第二光发射白光的第一发光部分和第二发光部分。在这种情况下，第一发光部分发射第一光，并且可以包括蓝色发光部分、绿色发光部分、红色发光部分、黄色发光部分和黄绿色发光部分中的任意一种。第二发光部分可以包括用于发射具有蓝色发光部分、绿色发光部分、红色发光部分、黄色发光部分和黄绿色发光部分中的第一光的互补色的光的发光部分。
第二电极是阴极电极，并且可以是共同形成在像素中的公共层。第二电极可以包括具有高反射率的金属材料。例如，第二电极可以形成为多层结构，例如Al和Ti的沉积结构(Ti/Al/Ti)、Al和ITO的沉积结构(ITO/Al/ITO)、APC合金(Ag/Pd/Cu)、和APC合金与ITO的沉积结构(ITO/APC/ITO)，或者可以包括选自Ag、Al、Mo、Au、Mg、Ca或Ba中任意一种材料或者两种或更多种的合金材料的单层结构。
第二基板140布置在像素阵列层120上，并具有与像素阵列层120相邻的第一表面和与第一表面相反的第二表面。第二基板140的第一表面被附接至像素阵列层120。第二基板140主要用于阻止氧气或水渗透到发光二极管层中。根据一个实施方案的第二基板140可以是金属箔、金属片或金属板。例如，第二基板140可以由具有低的热膨胀系数的铁和镍的合金材料制成，但不限于此。
第二基板140包括第一区域A1和从第一区域弯曲的第二区域A2。
第一区域A1是平面区域，并且可以限定为与第一基板100的前显示区域交叠的区域。
第二区域A2是弯曲区域，并且可以限定为与第一基板100的边缘显示区域交叠的区域。第二区域A2可以是以曲线型弯曲的部分。
根据一个实施方案的第二基板140可以形成为在第一区域A1和第二区域A2中具有各自的厚度。例如，第二基板140在第一区域A1中可以形成为厚度比其在第二区域A2中的厚度更厚。第二基板140可以通过第二区域A2的部分蚀刻工艺来形成。例如，可以使用包括蚀刻工艺和激光工艺的工艺来部分地蚀刻第二区域A2。
由于第二基板140形成为在第一区域A1和第二区域A2中具有各自的厚度，因此在第一区域A1和第二区域A2之间的边界中形成台阶差。例如，台阶差的范围为40μm至60μm。
根据本公开的显示设备可以便于弯曲，因为第二基板140以不同的厚度形成。如果显示设备的弯曲区域的厚度减小，则在弯曲期间产生的应力减小，并且可以保持显示面板的内稳态(homeostasis)。以这种方式，如果在第二基板140中第一区域A1形成为厚度比的第二区域的厚度更厚，则施加至显示面板的应力可以被减小，并且可以获得宽范围的曲率半径选择，由此可以减小显示面板的边框尺寸。
通过粘结剂层130将第二基板140的第一表面附接至像素阵列层120。粘结剂层130可以是热硬化粘结剂或自然硬化粘结剂。例如，粘结剂层130可以由例如减压粘结剂或具有吸湿功能的阻隔减压粘结剂的材料制成。
覆盖层150设置在第一基板100的非显示区域NA上以与第二基板140的侧部邻接(adjoin)。覆盖层150可以由包括聚合物材料的氨酯或压克力制成。根据一个实施方案的覆盖层150可以设置为高于与第一基板100的显示区域DA相邻的非显示区域NA中的粘结剂层130，从而防止水渗透粘结剂层130。
根据一个实施方案的覆盖层150被设置成在通过使用激光释放工艺使释放层释放而将载体玻璃基板与第一基板100分离的过程期间防止第一基板100的卷起。详细地，由于第二基板140未设置在第一基板100的非显示区域NA中，因此柔性且薄的第一基板100卷起。覆盖层150可以设置在第一基板100的非显示区域NA上以防止发生第一基板100的卷起，然后有助于形成用于支承第一基板100的透光层160的层叠工艺。
此外，根据本公开的显示设备还包括显示驱动电路部分200。
显示驱动电路部分200被连接至设置在第一基板100的非显示区域NA上的焊盘部分以显示对应于从每个像素上的显示驱动系统提供的图像数据的图像。根据一个实施方案的显示驱动电路部分200包括多个柔性电路膜210、多个数据驱动集成电路220、印刷电路板230和定时控制器240。
通过膜附接工艺将设置在多个柔性电路膜210中的每一个的一侧处的输入终端附接至印刷电路板230，并且通过膜附接工艺将设置在多个柔性电路膜210中的每一个的另一侧处的输出终端附接至设置在第一基板100上的焊盘部分。
多个数据驱动集成电路220中的每个被封装在多个柔性电路膜210中的每一个中。多个数据驱动集成电路220中的每一个接收从定时控制器240提供的像素数据和数据控制信号，并且根据数据控制信号将像素数据转换成模拟型像素数据，并且然后将转换的数据提供至数据线。
印刷电路板230用于支承定时控制器240,并且用于在显示驱动电路部分200的元件之间传输信号和电源。
定时控制器240被封装在印刷电路板230中，并且通过设置在印刷电路板230中的用户连接器接收从显示驱动系统提供的图像数据和定时同步信号。定时控制器240通过基于定时同步信号将要与像素阵列层120的像素布置结构匹配的图像数据对准来生成像素数据，并将生成的像素数据提供至对应的数据驱动集成电路220。而且，定时控制器240基于定时同步信号生成数据控制信号和扫描控制信号中的每一者，通过数据控制信号控制多个数据驱动集成电路220中的每一个的驱动定时，并通过扫描控制信号控制扫描驱动电路的驱动定时。在这种情况下，可以通过复数个柔性电路膜210中的第一和/或最后的柔性电路膜将扫描控制信号提供至对应的扫描驱动电路。
此外，根据本公开的显示设备还包括附接至第一基板100以与第一基板100交叠的透光层160。
通过透明粘结剂层将透光层160附接至与形成在第一基板100上的设置有缓冲层110的第一表面相反的第二表面。根据一个实施方案的透光层160可以由柔性膜，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、减反射膜、偏振膜和透射率可控膜中的至少之一制成。透光层160可以被附接至第一基板100的与载体玻璃基板分离的第二表面。透明粘结剂层可以是光学透明树脂(OCR)或光学透明粘结剂(OCA)。
图3是示出图2中所示的显示设备的弯曲状态的截面图。
参照图3，根据本公开的显示设备100被弯曲成具有曲线型。即，第一基板100的边缘显示区域朝第二基板140的第二表面弯曲以具有一定的曲率半径，并且因此围绕第二基板140的侧部。此时，第一基板100的边缘显示区域可以弯曲成具有1mm至5mm的曲率半径。
边缘显示屏(或者副显示屏)设置在以如上曲线型弯曲的显示区域DA的边缘处。另一方面，大致具有平面状态的前显示屏(或主显示屏)设置在未弯曲的显示区域DA中。
如上所述，根据本公开的显示设备可以便于弯曲，这是因为第二基板140的第二区域A2形成得比第一区域A1薄。而且，根据弯曲可以得到10μm或更小的边框宽度，并且在弯曲期间可以避免对薄膜晶体管和/或发光二极管层的损害。
图4是示出根据本公开的第二实施方案的显示设备沿图1的线I-I’截取的截面图，图5是示出根据本公开的第三实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图。
参照图4和图5，根据本公开的第二实施方案和第三实施方案的显示设备包括第一基板100、像素阵列层120、第二基板140、覆盖层150和钝化层170。将省略上述描述的重复描述，并且将对钝化层170进行描述。
钝化层170设置在第二基板140的第二区域A2上。钝化层170形成为覆盖第二基板140的第二区域A2，从而防止第二基板140被氧化。钝化层170可以通过但不限于常压等离子体工艺和低温沉积工艺来形成。
根据一个实施方案的第二基板140的第二区域A2是通过蚀刻工艺部分被蚀刻的区域，并且可以暴露于外部的水和氧气。由于第二基板140由金属材料制成，因此可能易于腐蚀，并且如果通过蚀刻工艺去除第二基板140的表面，则第二基板容易暴露于外部的水和氧气，由此发生氧化(生锈)。如果在第二基板140中发生氧化(生锈)，则表面的厚度改变,并且可能由于厚度变化引起的台阶差而产生粗糙表面。
根据一个实施方案的钝化层170可以设置在第二基板140的第二表面A2上以防止被蚀刻部分的氧化。钝化层170可以通过阻挡氧气和/水渗透到第二基板140中来防止第二基板140发生腐蚀。钝化层170可以由单层或多层制成。例如，钝化层170可以由SiOx、SiNx和SiON中的任意一种形成，或者可以由交替沉积的一个或更多个无机膜的多个层形成。
钝化层170可以形成为具有1μm或更小的薄的厚度。由于第二基板140的第二区域A2对应于厚度被减小以便于弯曲的区域，因此钝化层170以薄的厚度形成以保持第二区域的薄的厚度。例如，由于在第二区域A2中第二基板140可以以20μm至80μm的厚度形成，因此钝化层170以比第二基板140薄的厚度形成。因此，在第二区域A2中第二基板140的厚度和钝化层170的厚度比在第一区域A1中第二基板140的厚度薄。以这种方式，由于钝化层170以薄的厚度形成，因此可以不增加施加至显示面板的应力，并且同时可以避免第二基板140的氧化。
再次参照图5，根据一个实施方案的钝化层170可以设置成覆盖第一区域A1和第二区域A2之间的边界。
如果通过蚀刻工艺部分地蚀刻第二基板140，则甚至会在第一区域A1和第二区域A2之间的边界部分以及第二区域A2处产生第二基板140的氧化。钝化层170可以形成在第一区域A1的端部的构成与第二区域A2的边界的一些区域(some area)处，以完全覆盖第一区域A1和第二区域A2之间的边界部分。以这种方式，钝化层170可以形成为完全覆盖第一区域A1和第二区域A2之间的边界部分，以防止在第一区域A1的端部的一些区域以及第二区域A2处发生氧化。
图6是示出根据本公开的第四实施方案的显示设备沿图1的线I-I’截取的截面图，图7是示出根据本公开的第五实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图，并且图8是示出根据本公开的第六实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图。
参照图6至图8，根据本发明的第四实施方案至第六实施方案的显示设备包括第一基板100、像素阵列层120、第二基板140、覆盖层150、钝化层170和槽180。将省略上述描述的重复描述，并且将对槽180进行描述。
槽180设置在第二基板140的第二区域A2中。槽180设置在第一区域A1与第二区域A2的边界和第二基板140的端部部分DP之间。端部部分DP可以限定在第二基板140的两端部处，并且可以是包括在第二区域A2中的部分。
根据一个实施方案的显示设备设置成如下结构：第二基板140在第二区域A2中没有被完全蚀刻，并且具有槽180。由于第二区域A2对应于位于第二基板140的两个端部的区域，因此在第二区域A2中蚀刻第二基板140的过程中，第二基板140的侧部可以与第二基板140一起被蚀刻。然而，根据本公开的显示设备可以设置成如下结构：第二基板140的在第二区域A2中除了端部部分DP以外的其他区域被蚀刻以形成槽180。
在根据一个实施方案的显示设备中，由于端部部分DP的第二基板140没有被蚀刻，因此可以解决第二基板140的侧部被蚀刻而引起的问题。端部部分DP的宽度小于第二区域A2的宽度，并且对应于在弯曲期间与第二区域A2的中心部分相比受应力影响较小的部分。因此，如果第二基板140在第二区域A2中除了端部DP之外部分被蚀刻，那么即使第二基板140中的端部部分DP没有被蚀刻，也可以减小弯曲期间产生的应力。
根据一个实施方案的显示设备还可以包括用于覆盖槽180的钝化层170。在这种情况下，钝化层170可以设置在槽180内部，并且可以设置成覆盖第一区域A1和第二区域A2的边界和端部部分DP。由于钝化层170具有和前述钝化层相同的特征，因此将省略重复描述。
图9是示出根据本公开的第七实施方案的显示设备沿图1的I-I’线截取的截面图；
参照图9，根据本发明的第七实施方案的显示设备包括第一基板100、像素阵列层120、第二基板140、覆盖层150、钝化层170和槽180。将省略前述描述的重复描述，并且基于前述实施方案的差异给出描述。
钝化层170设置成覆盖第二基板140的整个表面。由于第二基板140由金属材料制成，因此即使在没有被蚀刻的部分也可能产生氧化。在根据本公开的显示设备中，由于钝化层170形成为覆盖第二基板140的整个表面，因此可以避免在没有被蚀刻的区域以及部分被蚀刻的区域可能发生的氧化。以这种方式，如果钝化层170设置在第二基板140的整个表面上，则可以避免第二基板140的所有区域中的氧化，从而可以获得可靠性。
如上所述，根据本公开的显示设备的优点在于针对应力进行优化以有助于弯曲部分的弯曲，并且可以防止设置在弯曲部分上的像素阵列层在弯曲期间被损坏。
对于本领域技术人员来说显而易见的是，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，可以在本公开中进行各种修改和变化。因此，本公开旨在覆盖本公开的修改和变化，只要它们落入所附权利要求及其等同内容的范围内即可。因此上述实施方案在所有方面仅被认为是说明性的而非限制性的。本公开的范围必须通过对所附权利要求的理性解释来确定，并且在落入本公开的等同范围内的所有改变都包括在本公开的范围中。
本申请还包括以下技术方案。
1.一种显示设备，包括：
具有显示区域和非显示区域的第一基板；
设置在所述第一基板的所述显示区域上的像素阵列层；以及
设置在所述像素阵列层上的第二基板，所述第二基板具有第一区域和从所述第一区域弯曲的第二区域，其中，第二区域的厚度不同于第一区域的厚度。
2.根据项1所述的显示设备，其中，所述第二区域的厚度比所述第一区域的厚度薄。
3.根据项2所述的显示设备，还包括设置在所述第二基板的所述第二区域上的钝化层。
4.根据项3所述的显示设备，其中，所述第一区域厚度比所述第二区域厚度和钝化层厚度的总和厚。
5.根据项3所述的显示设备，其中，所述钝化层厚度比所述第二区域厚度薄。
6.根据项3所述的显示设备，其中，所述钝化层覆盖所述第二基板的所述第一区域与所述第二区域之间的边界。
7.根据项3所述的显示设备，其中，所述钝化层由SiNx和SiOx的单层或多层形成。
8.一种显示设备，包括：
具有显示区域和非显示区域的第一基板；
设置在所述第一基板的所述显示区域上的像素阵列层；以及
设置在所述像素阵列层上的第二基板，所述第二基板具有：具有第一槽的第一区域和具有第二槽的第二区域，其中，所述第一槽和所述第二槽包括弯曲区域。
9.根据项8所述的显示设备，还包括：
覆盖所述第一槽和所述第二槽的钝化层。
10.根据项9所述的显示设备，其中，所述钝化层覆盖所述第一槽与所述弯曲区域之间的第一边界以及所述第二槽与所述弯曲区域之间的第二边界。
11.根据项9所述的显示设备，其中，所述钝化层覆盖所述第二基板的整个表面。
12.一种显示设备，包括：
基础层；
覆盖所述基础层的第一端的第一覆盖层和覆盖所述基础层的第二端的第二覆盖层；
在所述基础层的顶部上的像素阵列层，所述像素阵列层在所述第一覆盖层与所述第二覆盖层之间延伸；以及
在所述像素阵列层的顶部上的第一基板，所述第一基板具有：与所述第一覆盖层相邻的第一部分；连接所述第一部分和第三部分的第二部分；和与所述第二覆盖层相邻的所述第三部分，所述第一基板的所述第一部分和所述第三部分具有第一厚度，所述第二部分具有第二厚度，其中，所述第一厚度不同于所述第二厚度。
13.根据项12所述的显示设备，其中，所述第一厚度比所述第二厚度薄。
14.根据项12所述的显示设备，还包括：
具有第一端部和第二端部的基础层，所述第一端部具有能将所述第一基板的所述第一部分涵盖在内的曲率半径，所述第二端部具有能将所述第一基板的所述第三部分涵盖在内的曲率半径。
15.根据项14所述的显示设备，其中，所述曲率半径在1mm至5mm的范围内。
16.根据项14所述的显示设备，还包括：
无弯曲的所述第一基板的所述第二部分。
17.根据项12所述的显示设备，还包括：
在所述第一部分与所述第二部分之间的垂直偏移部以及在所述第三部分与所述第二部分之间的第二垂直偏移部。
18.根据项12所述的显示设备，还包括：
覆盖所述第一基板的所述第一部分的第一钝化层；以及
覆盖所述第一基板的所述第三部分的第二钝化层。
19.根据项17所述的显示设备，还包括：
覆盖所述垂直偏移部的所述第一钝化层；以及
覆盖所述第二垂直偏移部的所述第二钝化层。
20.一种显示设备，包括：
基础层；
覆盖所述基础层的第一端的第一覆盖层和覆盖所述基础层的第二端的第二覆盖层；
在所述基础层的顶部上的像素阵列层，所述像素阵列层在所述第一覆盖层与所述第二覆盖层之间延伸；以及
在所述像素阵列层的顶部上的第一基板，所述第一基板具有：与所述第一覆盖层相邻的第一端；与所述第二覆盖层相邻的第二端，所述第一端具有第一槽，所述第二端具有第二槽。
21.根据项20所述的显示设备，还包括：
具有第一端部和第二端部的所述基础层，所述基础层的所述第一端部具有能将所述第一基板的所述第一端涵盖在内的曲率半径，所述基础层的所述第二端部具有能将所述第一基板的所述第二端涵盖在内的曲率半径。
22.根据项20所述的显示设备，还包括：
覆盖所述第一槽的第一钝化层和覆盖所述第二槽的第二钝化层。

Claims (22)

1.一种显示设备，包括：
具有显示区域和非显示区域的第一基板；
设置在所述第一基板的所述显示区域上的像素阵列层；以及
设置在所述像素阵列层上的第二基板，所述第二基板具有第一区域和从所述第一区域弯曲的第二区域，其中，第二区域的厚度不同于第一区域的厚度。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述第二区域的厚度比所述第一区域的厚度薄。
3.根据权利要求2所述的显示设备，还包括设置在所述第二基板的所述第二区域上的钝化层。
4.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述第一区域厚度比所述第二区域厚度和钝化层厚度的总和厚。
5.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述钝化层厚度比所述第二区域厚度薄。
6.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述钝化层覆盖所述第二基板的所述第一区域与所述第二区域之间的边界。
7.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述钝化层由SiNx和SiOx的单层或多层形成。
8.一种显示设备，包括：
具有显示区域和非显示区域的第一基板；
设置在所述第一基板的所述显示区域上的像素阵列层；以及
设置在所述像素阵列层上的第二基板，所述第二基板具有：具有第一槽的第一区域和具有第二槽的第二区域，其中，所述第一槽和所述第二槽包括弯曲区域。
9.根据权利要求8所述的显示设备，还包括：
覆盖所述第一槽和所述第二槽的钝化层。
10.根据权利要求9所述的显示设备，其中，所述钝化层覆盖所述第一槽与所述弯曲区域之间的第一边界以及所述第二槽与所述弯曲区域之间的第二边界。
11.根据权利要求9所述的显示设备，其中，所述钝化层覆盖所述第二基板的整个表面。
12.一种显示设备，包括：
基础层；
覆盖所述基础层的第一端的第一覆盖层和覆盖所述基础层的第二端的第二覆盖层；
在所述基础层的顶部上的像素阵列层，所述像素阵列层在所述第一覆盖层与所述第二覆盖层之间延伸；以及
在所述像素阵列层的顶部上的第一基板，所述第一基板具有：与所述第一覆盖层相邻的第一部分；连接所述第一部分和第三部分的第二部分；和与所述第二覆盖层相邻的所述第三部分，所述第一基板的所述第一部分和所述第三部分具有第一厚度，所述第二部分具有第二厚度，其中，所述第一厚度不同于所述第二厚度。
13.根据权利要求12所述的显示设备，其中，所述第一厚度比所述第二厚度薄。
14.根据权利要求12所述的显示设备，还包括：
具有第一端部和第二端部的基础层，所述第一端部具有能将所述第一基板的所述第一部分涵盖在内的曲率半径，所述第二端部具有能将所述第一基板的所述第三部分涵盖在内的曲率半径。
15.根据权利要求14所述的显示设备，其中，所述曲率半径在1mm至5mm的范围内。
16.根据权利要求14所述的显示设备，还包括：
无弯曲的所述第一基板的所述第二部分。
17.根据权利要求12所述的显示设备，还包括：
在所述第一部分与所述第二部分之间的垂直偏移部以及在所述第三部分与所述第二部分之间的第二垂直偏移部。
18.根据权利要求12所述的显示设备，还包括：
覆盖所述第一基板的所述第一部分的第一钝化层；以及
覆盖所述第一基板的所述第三部分的第二钝化层。
19.根据权利要求17所述的显示设备，还包括：
覆盖所述垂直偏移部的所述第一钝化层；以及
覆盖所述第二垂直偏移部的所述第二钝化层。
20.一种显示设备，包括：
基础层；
覆盖所述基础层的第一端的第一覆盖层和覆盖所述基础层的第二端的第二覆盖层；
在所述基础层的顶部上的像素阵列层，所述像素阵列层在所述第一覆盖层与所述第二覆盖层之间延伸；以及
在所述像素阵列层的顶部上的第一基板，所述第一基板具有：与所述第一覆盖层相邻的第一端；与所述第二覆盖层相邻的第二端，所述第一端具有第一槽，所述第二端具有第二槽。
21.根据权利要求20所述的显示设备，还包括：
具有第一端部和第二端部的所述基础层，所述基础层的所述第一端部具有能将所述第一基板的所述第一端涵盖在内的曲率半径，所述基础层的所述第二端部具有能将所述第一基板的所述第二端涵盖在内的曲率半径。
22.根据权利要求20所述的显示设备，还包括：
覆盖所述第一槽的第一钝化层和覆盖所述第二槽的第二钝化层。
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