CN107132687A - 一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置 - Google Patents

一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置，用以提高背光源光利用率和面板透过率，本发明提供的阵列基板包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线、数据线，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区。

Description

一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前的平板显示器市场中占据了主导地位。
液晶显示器一般包括液晶显示面板和给该液晶显示面板提供光源的背光源，液晶显示面板分为显示区和非显示区，液晶显示面板包括：阵列基板、与阵列基板对盒的对向基板，以及设置在阵列基板与对向基板之间的液晶层；为了防止非显示区漏光，一般会在对向基板的非显示区形成黑矩阵层，这样非显示区的光线就得不到利用，从而造成背光源光利用率和面板透过率较低。
基于此，如何提高背光源光利用率和面板透过率，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明实施例提供了一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置，用以提高背光源光利用率和面板透过率。
本发明实施例提供的一种阵列基板，包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线、数据线，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区。
本发明实施例提供的阵列基板，包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线、数据线，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区，由于扫描线和/或数据线可以使得至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区，因此可以提高背光源光利用率和面板透过率。
较佳地，所述扫描线布满所述第一凹槽的内壁。
由于扫描线布满第一凹槽的内壁，这样一方面可以尽可能多地将入射到扫描线上的光线反射到阵列基板显示区，从而尽可能地提高背光源光利用率和面板透过率，另一方面可以增加扫描线的有效线宽，从而减小扫描线的线阻。
较佳地，所述第一凹槽的内壁为两交叉的平面或弧面。
较佳地，所述第一凹槽纵截面为等腰三角形。
较佳地，所述数据线布满所述第二凹槽的内壁。
由于数据线布满第二凹槽的内壁，这样一方面可以尽可能多地将入射到数据线上的光线反射到阵列基板显示区，从而尽可能地提高背光源光利用率和面板透过率，另一方面可以增加数据线的有效线宽，从而减小数据线的线阻。
较佳地，所述第二凹槽的内壁为两交叉的平面或弧面。
较佳地，所述第二凹槽纵截面为等腰三角形。
本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括：本发明任意实施例提供的阵列基板、与所述阵列基板对盒的对向基板，以及设置在所述阵列基板与所述对向基板之间的液晶层。
由于本发明实施例提供的液晶显示面板包括上述的阵列基板，而上述的阵列基板包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线、数据线，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区，由于扫描线和/或数据线可以使得至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区，因此可以提高背光源光利用率和面板透过率。
较佳地，所述对向基板包括：第二基板、设置在所述第二基板非显示区且朝向所述阵列基板一面上的黑矩阵层；所述第一凹槽纵截面为等腰三角形，该等腰三角形的顶角为θ1，θ1满足如下条件：
L1min/d1max＜tanθ1<L1max/d1min
其中，L1min为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的近端的距离；L1max为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的远端的距离；d1min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到黑矩阵层的距离；d1max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到黑矩阵层的距离。
较佳地，所述第二凹槽纵截面为等腰三角形，该等腰三角形的顶角为θ2，θ2满足如下条件：
L2min/d2max＜tanθ2<L2max/d2min
其中，L2min为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的近端的距离；L2max为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的远端的距离；d2min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到黑矩阵层的距离；d2max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到黑矩阵层的距离。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明任意实施例提供的液晶显示面板。
由于本发明实施例提供的显示装置包括上述的液晶显示面板，并且液晶显示面板包括上述的阵列基板，而上述的阵列基板包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线、数据线，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区，由于扫描线和/或数据线可以使得至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区，因此可以提高背光源光利用率和面板透过率。
本发明实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，包括：
在第一基板上形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽；
在所述第一凹槽的内壁上形成扫描线，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区；和/或
在第一基板上形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽；
在所述第二凹槽的内壁上形成数据线，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区；其中，所述扫描线与所述数据线呈交叉布置。
采用该方法制备的阵列基板包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线、数据线，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区，由于扫描线和/或数据线可以使得至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区，因此可以提高背光源光利用率和面板透过率。
较佳地，在第一基板上形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽，具体包括：
在第一基板上涂覆负性光刻胶；
通过半色调掩膜板对所述负性光刻胶进行曝光，以形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽。
较佳地，在第一基板上形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽，具体包括：
在第一基板上涂覆负性光刻胶；
通过半色调掩膜板对所述负性光刻胶进行曝光，以形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的阵列基板的结构示意图；
图2为本发明实施例一提供的阵列基板的侧视图；
图3为本发明实施例提供的阵列基板的俯视图；
图4为本发明实施例二提供的阵列基板的结构示意图；
图5为本发明实施例二提供的阵列基板的侧视图；
图6为本发明实施例三提供的阵列基板的侧视图；
图7为本发明实施例提供的阵列基板的制备方法的流程示意图；
图8(a)～图8(g)为本发明实施例提供的阵列基板的制备工艺流程示意图；
图9为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图；
图10为本发明实施例提供的另一种液晶显示面板的结构示意图。
具体实施方式
本发明实施例提供了一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置，用以提高背光源光利用率和面板透过率。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，本发明附图中各层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
实施例一：
参见图1、图2，本发明实施例一提供的一种阵列基板包括：第一基板11、在第一基板11非显示区上交叉布置的扫描线12、数据线13，扫描线12与第一基板11之间设有第一绝缘层14，第一绝缘层14中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽15，扫描线12设置在第一凹槽15的内壁上，使得至少部分从第一基板11侧入射到扫描线12上的光线(如图中带线箭头所示)反射到阵列基板显示区。
由于扫描线12可以使得至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区，因此可以提高背光源光利用率和面板透过率。
在一较佳实施方式中，为了尽可能地提高背光源光利用率和面板透过率，以及减小扫描线的线阻，如图1、图2所示，可以设置扫描线12布满第一凹槽15的内壁。
在一较佳实施方式中，第一凹槽15的内壁可以为两交叉的平面
在另一较佳实施方式中，第一凹槽15的内壁可以为弧面。
需要指出的是，第一凹槽15的内壁只要使得设置在其上的扫描线12可以将至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区即可，至于具体形状，本发明实施例并不对其进行限定，可以根据实际需要进行设定。
在一较佳实施方式中，如图2所示，第一凹槽15纵截面为等腰三角形。当然，第一凹槽15纵截面并不限于等腰三角形，例如：还可以为其它三角形、半圆形、半椭圆形等。
在一较佳实施方式中，上述阵列基板还包括：薄膜晶体管；扫描线12与该薄膜晶体管的栅极同层设置。
在一较佳实施方式中，如图1、图2所示，上述阵列基板还包括：设置在薄膜晶体管(图中未示出)上的钝化层16，以及设置在钝化层16上的像素电极17；像素电极17与薄膜晶体管的漏极电连接，像素电极17位于阵列基板的显示区。相邻的两条扫描线12和相邻的两条数据线13定义一个像素单元，像素电极17设置在像素单元内，如图3所示。
需要说明的是，本发明实施例以数据线13位于扫描线12之上为例进行说明，但本发明实施例并不限于此，数据线13也可位于扫描线12之下，本发明实施例对上述阵列基板中的薄膜晶体管的结构并不进行限定，各种结构的薄膜晶体管都适用。
实施例二：
本发明实施例二提供的阵列基板与本发明实施例一提供的阵列基板相似，相同的部分在此不再赘述，下面只说明不同的部分。
参见图4、图5，本发明实施例二提供的阵列基板中扫描线12的设置与现有技术相同，但数据线13与第一基板11之间设有第二绝缘层18，第二绝缘层18中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽19，数据线13设置在第二凹槽19的内壁上，使得至少部分从第一基板11侧入射到数据线13上的光线反射到阵列基板显示区。
由于数据线13可以使得至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区，因此可以提高背光源光利用率和面板透过率。
在一较佳实施方式中，为了尽可能地提高背光源光利用率和面板透过率，以及减小数据线的线阻，如图4、图5所示，可以设置数据线13布满第二凹槽19的内壁。
在一较佳实施方式中，第二凹槽19的内壁可以为两交叉的平面
在另一较佳实施方式中，第二凹槽19的内壁可以为弧面。
需要指出的是，第二凹槽19的内壁只要使得设置在其上的数据线13可以将至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区即可，至于具体形状，本发明实施例并不对其进行限定，可以根据实际需要进行设定。
在一较佳实施方式中，如图4所示，第二凹槽19纵截面为等腰三角形。当然，第二凹槽19纵截面并不限于等腰三角形，例如：还可以为其它三角形、半圆形、半椭圆形等。
在一较佳实施方式中，数据线13与薄膜晶体管的源漏极同层设置。
实施例三：
本发明实施例三提供的阵列基板与本发明实施例一提供的阵列基板相似，相同的部分在此不再赘述，下面只说明不同的部分。
参见图6，本发明实施例三提供的阵列基板中数据线13采用了本发明实施例二提供的阵列基板中数据线13的结构，设置在第二凹槽19的内壁上。
基于同一发明构思，参见图7，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，包括如下步骤：
S101、在第一基板上形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽；
S102、在所述第一凹槽的内壁上形成扫描线，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区；和/或
S103、在第一基板上形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽；
S104、在所述第二凹槽的内壁上形成数据线，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区；其中，所述扫描线与所述数据线呈交叉布置。
若制作如本发明实施例一提供的阵列基板，则该阵列基板的制备方法包括步骤S101和S102；若制作如本发明实施例二提供的阵列基板，则该阵列基板的制备方法包括步骤S103和S104；若制作如本发明实施例三提供的阵列基板，则该阵列基板的制备方法包括步骤S101、S102、S103和S104。
需要指出的是，步骤S101和S102与步骤S103和S104的制作先后顺序与制作的阵列基板的结构有关，若数据线位于扫描线之上，则步骤S103和S104在步骤S101和S102之后，若数据线位于扫描线之下，则步骤S103和S104在步骤S101和S102之前。
在一较佳实施方式中，步骤S101中在第一基板上形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽，具体可以包括：
在第一基板上涂覆负性光刻胶；
通过半色调掩膜板对所述负性光刻胶进行曝光，以形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽。
其中，半色调掩膜板的遮挡部位的透光率可以设置成从两侧向中间逐渐减小，通过控制半色调掩膜板的遮挡部位的透光率，可以控制第一凹槽的形状。
在一较佳实施方式中，步骤S103中在第一基板上形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽，具体可以包括：
在第一基板上涂覆负性光刻胶；
通过半色调掩膜板对所述负性光刻胶进行曝光，以形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽。
其中，半色调掩膜板的遮挡部位的透光率可以设置成从两侧向中间逐渐减小，通过控制半色调掩膜板的遮挡部位的透光率，可以控制第二凹槽的形状。
下面以本发明实施例三提供的阵列基板的制备为例，结合附图8(a)～8(g)来具体说明本发明实施例提供的阵列基板的制备工艺流程。
步骤一、参见图8(a)，在第一基板81上涂覆第一负性光刻胶82；
步骤二、参见图8(b)，通过第一半色调掩膜板83对第一负性光刻胶82进行曝光，以形成第一绝缘层84，并在非显示区的第一绝缘层84中形成内壁向中间倾斜且纵截面为等腰三角形的第一凹槽85；
步骤三、参见图8(c)，在第一凹槽85的内壁上形成扫描线86，使得至少部分从第一基板81侧入射到扫描线86上的光线反射到阵列基板显示区；
步骤四、参见图8(d)，在形成有扫描线86的第一基板81上涂覆第二负性光刻胶87；
步骤五、参见图8(e)，通过第二半色调掩膜板88对第二负性光刻胶87进行曝光，以形成第二绝缘层89，并在非显示区的第二绝缘层89中形成内壁向中间倾斜且纵截面为等腰三角形的第二凹槽90；
步骤六、参见图8(f)，在第二凹槽90的内壁上形成数据线91，使得至少部分从第一基板81侧入射到数据线91上的光线反射到阵列基板显示区；
其中，扫描线86与数据线91呈交叉布置。
步骤七、参见图8(g)，在形成有数据线91的第一基板81上依次形成钝化层92和像素电极93。
需要说明的是，在上述制备阵列基板的过程中还包括制备薄膜晶体管的步骤，薄膜晶体管的制备步骤与现有技术相同，在此不再赘述，并且可以在制备扫描线86的同时制备薄膜晶体管的栅极，在制备数据线91的同时制备薄膜晶体管的源漏极。
基于同一发明构思，参见图9、图10，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括：本发明任意实施例提供的阵列基板21、与阵列基板21对盒的对向基板22，以及设置在阵列基板21与对向基板22之间的液晶层23。
上述液晶显示面板可以为任意模式的液晶显示面板，例如：扭曲向列(TwistNematic,TN)模式液晶显示面板、平面转换(In Plane Switching,IPS)模式液晶显示面板、高级超维场开关(Advanced Super Dimension Switch,ADS)模式液晶显示面板等。
在一较佳实施方式中，如图9、图10所示，对向基板22包括：第二基板221、设置在第二基板221非显示区且朝向阵列基板21一面上的黑矩阵层222。
在一较佳实施方式中，如图9所示，阵列基板21的第一凹槽211纵截面为等腰三角形，该等腰三角形的顶角为θ1，θ1满足如下条件：
L1min/d1max＜tanθ1<L1max/d1min
其中，L1min为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的近端的距离；L1max为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的远端的距离；d1min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到黑矩阵层222的距离；d1max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到黑矩阵层222的距离。
较佳地，为了尽可能多地将入射到扫描线上的光线反射到阵列基板显示区，θ1可以设置成满足如下条件：
L1′min/d1min＜tanθ1<L1′max/d1max
其中，L’1min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的近端的距离；L’1max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的远端的距离。
在一较佳实施方式中，如图10所示，阵列基板21的第二凹槽212纵截面为等腰三角形，该等腰三角形的顶角为θ2，θ2满足如下条件：
L2min/d2max＜tanθ2<L2max/d2min
其中，L2min为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的近端的距离；L2max为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的远端的距离；d2min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到黑矩阵层222的距离；d2max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到黑矩阵层222的距离。
较佳地，为了尽可能多地将入射到数据线上的光线反射到阵列基板显示区，θ2可以设置成满足如下条件：
L′2min/d2min＜tanθ2<L′2max/d2max
其中，L’2min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的近端的距离；L’2max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的远端的距离。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明任意实施例提供的液晶显示面板。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
综上所述，本发明实施例提供的技术方案中，阵列基板包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线、数据线，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区，由于扫描线和/或数据线可以使得至少部分入射到其上的光线反射到阵列基板显示区，因此可以提高背光源光利用率和面板透过率。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (14)

1.一种阵列基板，包括：第一基板、在所述第一基板非显示区上交叉布置的扫描线和数据线，其特征在于，所述扫描线与所述第一基板之间设有第一绝缘层，所述第一绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第一凹槽，所述扫描线设置在所述第一凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区，和/或所述数据线与所述第一基板之间设有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设有内壁向中间倾斜的第二凹槽，所述数据线设置在所述第二凹槽的内壁上，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述扫描线布满所述第一凹槽的内壁。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一凹槽的内壁为两交叉的平面或弧面。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一凹槽纵截面为等腰三角形。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线布满所述第二凹槽的内壁。
6.根据权利要求1或5所述的阵列基板，其特征在于，所述第二凹槽的内壁为两交叉的平面或弧面。
7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述第二凹槽纵截面为等腰三角形。
8.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：如权利要求1～7任一权项所述的阵列基板、与所述阵列基板对盒的对向基板，以及设置在所述阵列基板与所述对向基板之间的液晶层。
9.根据权利要求8所述的液晶显示面板，其特征在于，所述对向基板包括：第二基板、设置在所述第二基板非显示区且朝向所述阵列基板一面上的黑矩阵层；所述第一凹槽纵截面为等腰三角形，该等腰三角形的顶角为θ1，θ1满足如下条件：
L1min/d1max＜tanθ1<L1max/d1min
其中，L1min为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的近端的距离；L1max为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的远端的距离；d1min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到黑矩阵层的距离；d1max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到黑矩阵层的距离。
10.根据权利要求9所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二凹槽纵截面为等腰三角形，该等腰三角形的顶角为θ2，θ2满足如下条件：
L2min/d2max＜tanθ2<L2max/d2min
其中，L2min为该等腰三角形的顶角所在的顶点到相邻像素单元的近端的距离；L2max为该等腰三角形的一底角所在的顶点到与该顶点同侧的相邻像素单元的远端的距离；d2min为该等腰三角形的一底角所在的顶点到黑矩阵层的距离；d2max为该等腰三角形的顶角所在的顶点到黑矩阵层的距离。
11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求8-10任一项所述的液晶显示面板。
12.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：
在第一基板上形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽；
在所述第一凹槽的内壁上形成扫描线，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述扫描线上的光线反射到所述阵列基板显示区；和/或
在第一基板上形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽；
在所述第二凹槽的内壁上形成数据线，使得至少部分从所述第一基板侧入射到所述数据线上的光线反射到所述阵列基板显示区；其中，所述扫描线与所述数据线呈交叉布置。
13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，在第一基板上形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽，具体包括：
在第一基板上涂覆负性光刻胶；
通过半色调掩膜板对所述负性光刻胶进行曝光，以形成第一绝缘层，并在非显示区的所述第一绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第一凹槽。
14.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，在第一基板上形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽，具体包括：
在第一基板上涂覆负性光刻胶；
通过半色调掩膜板对所述负性光刻胶进行曝光，以形成第二绝缘层，并在非显示区的所述第二绝缘层中形成内壁向中间倾斜的第二凹槽。
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