CN109725377A - 层叠体 - Google Patents
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Abstract
本发明的目的在于,提供一种层叠体,是如下的层叠体,即,在偏振板的一面层叠有表面保护膜,在所述偏振板的另一面层叠有剥离膜,所述偏振板包含偏振片,所述表面保护膜在使扎刺夹具垂直下降时,弯曲的状态下的最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积(K3)为1.00N·mm以上,不会产生剥离膜的剥离不良。本发明的层叠体在使扎刺夹具相对于由所述偏振板和所述表面保护膜形成的层垂直地下降时,所述层弯曲的状态下的最大的力F1(N)与应变S1(mm)的乘积(K1)为3.70N·mm以上。偏振板弯曲的状态下的最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积(K2)可以为1.00N·mm以下。
Description
技术领域
本发明涉及一种层叠体,具体而言涉及一种在包含偏振片的偏振板的一面能够剥离地层叠有表面保护膜、在另一面夹隔着粘合剂层能够剥离地层叠有剥离膜的层叠体。
背景技术
偏振板广泛地用于液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置等图像显示装置中,尤其是近年来广泛地用于智能手机等各种移动设备中。
作为偏振板以往使用包含偏振片的偏振板,具体而言,例如使用在使聚乙烯醇系树脂膜吸附二色性色素并取向而得的偏振片的一面或两面贴合保护膜而成的偏振板。
此种偏振板一般是作为在表面贴合用于防止其表面的污物、损伤的能够剥离的表面保护膜(也被称作保护膜。)及剥离膜(也被称作隔离膜。)的层叠体在市场上流通。
在将偏振板贴合于液晶单元、有机EL元件之类的显示元件时,剥下贴合于其表面的剥离膜,夹隔着露出的粘合剂层,将偏振板贴合于显示元件。在剥离剥离膜时,如专利文献1〔日本特开平6-48633号公报〕所示,将层叠体(在偏振板的一面层叠有表面保护膜、在另一面层叠有剥离膜的膜)的表面保护膜侧利用抽吸、吸附等方法固定于保持台,将剥离胶带贴合于剥离膜上。其后,牵拉剥离胶带而将剥离膜从偏振板表面除去。此时,由于可以抑制偏振板从表面保护膜剥落的现象,因此作为表面保护膜优选刚性较低的表面保护膜,具体而言优选作为利用以下所示的测定方法测定的最大的力(F(N))与应变(S(mm))的乘积表示的刚性K3为1.00N·mm以下的表面保护膜。
但是,以往的层叠体在剥离剥离膜时,固定着的偏振板及表面保护膜追随剥离膜的移动而从保持台翘起,偏振板及表面保护膜的固定被解除,存在有无法容易地进行剥离膜的剥离的问题。近年来偏振板的厚度变薄,偏振板的硬挺性消失,刚性变得比较低,更容易产生剥离不良。
如果增大固定层叠体时的抽吸的力、吸附的力等力,或减小剥离膜的粘合力,则可以解决该问题,然而另一方面会产生新的问题。即,如果抽吸的力、吸附的力等作用于层叠体的力变大,就会在偏振板残留痕迹,外观恶化。另外,如果减小剥离膜的粘合力,则在因运送等而对层叠体施加冲击时,会在剥离膜与偏振板之间出现间隙。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平6-48633号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于,提供一种不产生剥离膜的剥离不良的层叠体。
用于解决问题的方法
[1]一种层叠体,是如下的层叠体,即,在偏振板的一面能够剥离地层叠有表面保护膜,
在所述偏振板的另一面夹隔着粘合剂层能够剥离地层叠有剥离膜,
所述偏振板包含偏振片,
在以所述表面保护膜作为测定膜、将利用以下的测定方法测定的最大的力(F(N))设为F3、将应变(S(mm))设为S3时,作为最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积(F3(N)×S3(mm))表示的刚性K3为1.00N·mm以下,
在以包含所述偏振板和所述表面保护膜的层作为测定膜、将利用以下的测定方法测定的最大的力(F(N))设为F1、将应变(S(mm))设为S1时,作为最大的力F1(N)与应变S1(mm)的乘积(F1(N)×S1(mm))表示的刚性K1为3.70N·mm以上且10.0N·mm以下。
测定方法:
将25mm×43mm的矩形的测定用膜载放于测定台,所述测定台从上表面观察在中央具有圆形的贯通孔,上表面的贯通孔的直径为30mm,从侧面观察到的贯通孔的形状为由柱状的下部和半球状的上部构成的形状,
从该测定用膜的上方,使前端为球形、前端直径为1mmφ且曲率半径为0.5mm的针以使该针通过测定台的贯通孔的中心的方式以1.0cm/秒的速度垂直地下降,
将针的前端接触测定用膜后该膜保持弯曲的状态的最大的载荷作为最大的力F(N)测定,测定此时的膜的应变S(mm)。
[2]根据[1]中记载的层叠体,其中,在将以所述偏振板作为测定膜利用所述测定方法测定的最大的力(F(N))设为F2(N)、将应变(S(mm))设为S2时,作为最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积表示的刚性K2为1.00N·mm以下。
[3]根据[1]或[2]中记载的层叠体,其中,所述偏振板与所述剥离膜之间的密合力为0.02~0.05N/25mm。
[4]一种带有表面保护膜的偏振板的制造方法,该制造方法包括:将[1]~[3]中任一项记载的层叠体的表面保护膜以0.1~0.3N/60mm的密合力固定于保持台上的工序、以及
将剥离膜从该层叠体剥离的工序。
发明效果
根据本发明,可以提供不产生剥离膜的剥离不良的层叠体。
附图说明
图1是表示本发明的层叠体所具有的层构成的一例的示意剖视图。
图2是表示本发明的层叠体所具有的层构成的一例的示意剖视图。
图3是表示用于测定膜弯曲的状态下的最大的力F及应变S的装置的示意图。
图4是用于说明膜弯曲的状态下的最大的力F及应变S的图。
图5是表示在膜中形成了折入(折れ込み)的状态的一例的图像。
具体实施方式
<层叠体>
层叠体中,在偏振板的一面层叠有表面保护膜,在偏振板的另一面层叠有剥离膜。偏振板至少具有偏振片。以下,参照附图,对本发明的层叠体的层构成的一例进行说明。偏振板可以在偏振片的基础上,还具备保护膜、相位差层、增亮膜等。另外,偏振板可以具备用于将偏振片、相位差层、增亮膜等彼此粘接的粘合剂层。
图1是表示本发明的层叠体的一例的示意剖视图。图1(a)中所示的层叠体100由层叠于偏振板10的一面的表面保护膜30、以及层叠于偏振板10的另一面的剥离膜20构成。表面保护膜30由基材膜31和层叠于其上的粘合剂层32构成。表面保护膜30能够在基材膜31与粘合剂层32被层叠的状态下从偏振板10剥离。偏振板10是在偏振片11的一面夹隔着未图示的粘接剂层层叠有保护膜12、在另一面夹隔着粘合剂层16层叠有增亮膜14、在保护膜12上层叠有粘合剂层15的层构成。表面保护膜30层叠于增亮膜14上。在粘合剂层15上层叠有剥离膜20。该剥离膜20能够留下粘合剂层15地从偏振板10剥离。
图1(b)中所示的层叠体101由层叠于偏振板10的一面的表面保护膜30、以及层叠于偏振板10的另一面的剥离膜20构成。表面保护膜30由基材膜31和层叠于其上的粘合剂层32构成。表面保护膜30能够在基材膜31与粘合剂层32被层叠的状态下从偏振板10剥离。偏振板10是在偏振片11的一面夹隔着未图示的粘接剂层层叠有保护膜12、在另一面夹隔着未图示的粘接剂层层叠有保护膜13、在保护膜12上层叠有粘合剂层15、在保护膜13上夹隔着粘合剂层16层叠有增亮膜14的层构成。表面保护膜30层叠于增亮膜14上。在粘合剂层15上层叠有剥离膜20。该剥离膜20能够留下粘合剂层15地从偏振板10剥离。
图2(a)中所示的层叠体102由层叠于偏振板10的一面的表面保护膜30、以及层叠于偏振板10的另一面的剥离膜20构成。表面保护膜30由基材膜31和层叠于其上的粘合剂层32构成。表面保护膜30能够在基材膜31与粘合剂层32被层叠的状态下从偏振板10剥离。偏振板10是在偏振片11的一面夹隔着未图示的粘接剂层层叠有保护膜12、在另一面夹隔着未图示的粘接剂层层叠有保护膜13、在保护膜12上夹隔着未图示的粘接剂层或粘合剂层层叠有相位差层17、在相位差层17上层叠有粘合剂层15的层构成。在该粘合剂层15上,层叠有剥离膜20。该剥离膜能够留下粘合剂层15地从偏振板10剥离。
图2(b)中所示的层叠体103由层叠于偏振板10的一面的表面保护膜30、以及层叠于偏振板10的另一面的剥离膜20构成。表面保护膜30由基材膜31和层叠于其上的粘合剂层32构成。表面保护膜30能够在基材膜31与粘合剂层32被层叠的状态下从偏振板10剥离。偏振板10是在偏振片11的一面夹隔着未图示的粘接剂层或粘合剂层层叠有相位差层17、在另一面夹隔着未图示的粘接剂层层叠有保护膜13、在相位差层17上层叠有粘合剂层15的层构成。在该粘合剂层15上,层叠有剥离膜20。该剥离膜20能够留下粘合剂层15地从偏振板10剥离。
在层叠体100~103中,表面保护膜30及剥离膜20优选分别为构成层叠体的最外表面的构件。层叠体100~103、偏振板10、剥离膜20、以及表面保护膜30可以具有图示的层以外的层。
在本实施方式的层叠体中,由偏振板和表面保护膜形成的层的利用上述测定方法测定的最大的力F1(N)与应变S1(mm)、即在使扎刺夹具相对于该层垂直地下降时弯曲的状态下的最大的力F1(N)与应变S1(mm)的乘积为3.70N·mm以上。弯曲的状态下的最大的力F1(N)与应变S1(mm)的乘积(K1)优选为4.5N·mm以上,更优选为5.0N·mm以上,通常为10.0N·mm以下,优选为9.0N·mm以下。为了设为此种力F1(N)与应变S1(mm)的乘积(K1)的范围,例如优选选择表面保护膜和偏振板来组合。如果使用最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积(K3)较大的表面保护膜、即刚性高的表面保护膜作为表面保护膜,则上述F1(N)与S1(mm)的乘积(K1)变大。作为此种表面保护膜,例如可以举出厚度大的表面保护膜、由硬的材质的树脂形成的表面保护膜等。另外,使用刚性高的偏振板作为偏振板,上述F1(N)与S1(mm)的乘积(K1)也会变大。
F1(N)可以为1.0N以上且3.0N以下,也可以为1.5N以上且3.0N以下。S1(mm)可以为1.5mm以上且5.0mm以下,也可以为2.0mm以上且4.0mm以下。
弯曲的状态下的最大的力F1(N)与应变S1(mm)的乘积例如可以使用KATO TECH株式会社制的作为压缩试验机的KES-G5测定。
具体而言,参照图3、图4及图5进行说明。
此处,对测定成为测定对象的膜(测定用膜)的弯曲的状态下的最大的力〔F(N)〕和〔应变S(mm)〕的方法进行说明。在测定用膜为包含偏振板和表面保护膜的层的情况下测定F1及S1。在测定用膜为偏振板的情况下,测定F2及S2。在测定用膜为表面保护膜的情况下,测定F3及S3。
首先,将作为测定对象的测定用膜3载放于作为测定台的台2上。测定用膜3是包含偏振板和表面保护膜的层,或单独的偏振板,或单独的表面保护膜。在作为测定对象的膜3上,优选不设置固定用的夹具。台2从上表面观察在中央具有圆形的空隙(贯通孔),上表面的空隙的直径(双箭头44)为30mm。从侧面观察到的空隙的形状例如可以举出由柱状的下部和半球状的上部构成的形状(吊钟状)、锥体状(cone状、圆锥状)等朝向顶端方向变细的形状(锥形形状)。作为测定对象的测定用膜3是大小为25mm(双箭头43)×43mm(双箭头42)的矩形。
然后使扎刺夹具1从所载放的膜3的上方垂直地下降。此时使扎刺夹具1通过圆形的空隙的中心。扎刺夹具1使用前端为球形、前端直径为1mmφ、曲率为0.5R(曲率半径0.5mm)的针。使扎刺夹具1下降的速度为1.0cm/秒。
测定扎刺夹具(针)1的前端接触测定用膜3后该膜3保持弯曲的状态的最大的载荷(N)和应变(mm)。即,当使扎刺夹具1下降到测定用膜3时,在测定用膜3中产生褶皱或折入(例如图4(b)、图5中所示的折入),本实施方式中,测定此前不久的载荷及应变(双箭头40的长度)。所谓测定用膜3弯曲的状态,是指从侧面观察膜3为弓形(例如圆弧状、椭圆弧状、悬链(カテナリー)形状等弧状)的状态(图4(a))。
本实施方式的层叠体中,在使扎刺夹具相对于偏振板单体垂直地下降时,弯曲的状态下的最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积(K2)可以为1.00N·mm以下,也可以为0.70N·mm以下。该情况下,在使扎刺夹具相对于表面保护膜单体垂直地下降时,如果弯曲的状态下的最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积(K3)为0.50N·mm以上,则难以产生剥离膜的剥离不良,因此优选。在最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积为0.30N·mm以下的情况下,同样地优选最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积为0.30N·mm以上。在最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积为0.20N·mm以下的情况下,同样地优选最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积为0.50N·mm以上。即使在使用刚性低的偏振板时,也与之对应地选择刚性强的表面保护膜,由此可以减少剥离膜的剥离不良。通过设为此种组合,即使在层叠体具备刚性低的偏振板的情况下,也难以产生剥离膜的剥离不良。
层叠体可以通过在分别运送构成层叠体的各构件的同时利用卷对卷方式制造长尺寸形状的层叠体、并裁割该层叠体而获得,也可以通过分别准备给定形状的各构件、并依次层叠而获得。
层叠体的形状没有特别限定,可以是矩形、三角形等多边形、圆形、椭圆形、以及它们的组合。
在层叠体为具有长边和短边的矩形形状的情况下,长边的长度优选为35~5cm,更优选为25~10cm,短边的长度优选为25~5cm,更优选为20~6cm。通过设为此种范围的大小,可以进一步提高剥离性。
以下,对层叠体所具有的各构件进行说明。
<偏振板>
偏振板在使扎刺夹具相对于偏振板单体垂直地下降时,弯曲的状态下的最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积(K2)通常为0.10N·mm以上,优选为0.15N·mm以上,更优选为0.20N·mm以上,进一步优选为0.30N·mm以上。另外,最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积(K2)可以为1.00N·mm以下,也可以为0.70N·mm以下。即使乘积K2为1.00N·mm以下,如果是本发明的层叠体,也可以不导致剥离不良地剥离剥离膜。最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积(K2)可以利用与求出上述的最大的力F1(N)与应变S1(mm)的乘积的方法相同的方法求出。
F2(N)可以为0.20N以上且1.0N以下,也可以为0.3N以上且0.8N以下。S2(mm)可以为0.5mm以上且3.0mm以下,也可以为1.0mm以上且2.0mm以下。
在满足偏振板仅在偏振片的一面具备保护膜的情况、以及偏振板具备增亮膜的情况的至少一方时,最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积(K2)有变小的趋势。另外,偏振片的拉伸倍率、拉伸温度也能够对最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积的大小产生影响。例如,如果增大偏振片的拉伸倍率,则最大的力F2(N)与应变S2(mm)的乘积(K2)有变小的趋势,如果减小偏振片的拉伸倍率,则乘积(K2)有变大的趋势。
偏振板10是至少包含偏振片的偏振元件,通常还包含贴合于其一面或两面的热塑性树脂膜。热塑性树脂膜可以是保护偏振片的保护膜、具有光学功能的其他膜等。热塑性树脂膜可以具备层叠于其表面的树脂层(例如选自硬涂层、防静电干扰层、防眩层、光扩散层、防反射层、低折射率层、防污层等中的至少一种光学层)。热塑性树脂膜可以夹隔着粘接剂层贴合于偏振片。可以在该树脂层的表面层叠有表面保护膜30。
在层叠体还包含增亮膜、相位差层的情况下,本发明的效果显著。包含增亮膜等的偏振板的刚性低,易于产生剥离不良。根据本发明,即使在层叠体包含增亮膜等的情况下,也可以减少剥离不良的产生。
偏振板的厚度(μm)通常为150μm以下,在刚性低的75μm以下、乃至70μm以下的情况下,本发明的效果显著。偏振板10的厚度优选为30μm以上,更优选为50μm以上。
(1)偏振片
构成偏振板10的偏振片是具有吸收具有平行于其吸收轴的振动面的直线偏振光、透射具有与吸收轴正交的(与透射轴平行的)振动面的直线偏振光的性质的吸收型的偏振片,可以合适地使用使经过单轴拉伸的聚乙烯醇系树脂膜吸附二色性色素并取向而得的偏振片。偏振片例如可以利用包括对聚乙烯醇系树脂膜进行单轴拉伸的工序;通过将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色而使之吸附二色性色素的工序;将吸附有二色性色素的聚乙烯醇系树脂膜用硼酸水溶液等交联液处理的工序;以及在利用交联液的处理后进行水洗的工序的方法来制造。
作为聚乙烯醇系树脂,可以使用将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得的树脂。作为聚乙酸乙烯酯系树脂,除了可以举出作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外,还可以举出乙酸乙烯酯与能够共聚的其他单体的共聚物等。能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体的例子包括不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、以及具有铵基的(甲基)丙烯酰胺类等。
本说明书中所谓“(甲基)丙烯酸”,是指选自丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少一方。在“(甲基)丙烯酰基”、“(甲基)丙烯酸酯”等中也同样。
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85~100mol%,优选为98mol%以上。聚乙烯醇系树脂可以被改性,例如也可以使用由醛类改性了的聚乙烯醇缩甲醛或聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度通常为1000~10000,优选为1500~5000。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度可以依照JIS K 6726求出。
将此种聚乙烯醇系树脂制膜而得的膜被作为偏振片(偏振片)的原材膜使用。将聚乙烯醇系树脂制膜的方法没有特别限定,可以采用公知的方法。聚乙烯醇系原材膜的厚度没有特别限制,然而为了将偏振片的厚度设为15μm以下,优选使用5~35μm的原材膜。更优选为20μm以下。
聚乙烯醇系树脂膜的单轴拉伸可以在二色性色素的染色前、与染色同时、或在染色后进行。在染色后进行单轴拉伸的情况下,该单轴拉伸可以在交联处理前或交联处理中进行。另外,也可以在这些的多个阶段中进行单轴拉伸。
在单轴拉伸时,可以在圆周速度不同的辊间以单轴方式进行拉伸し,也可以使用热辊以单轴方式进行拉伸。另外,单轴拉伸可以是在大气中进行拉伸的干式拉伸,也可以是在使用溶剂、水使聚乙烯醇系树脂膜溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。拉伸倍率通常为3~8倍。
作为将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的方法,例如可以采用将该膜浸渍于含有二色性色素的水溶液中的方法。作为二色性色素,使用碘、二色性有机染料。需要说明的是,聚乙烯醇系树脂膜优选在染色处理前先实施向水中的浸渍处理。
作为利用二色性色素的染色后的交联处理通常采用将经过染色的聚乙烯醇系树脂膜浸渍于含硼酸的水溶液中的方法。在使用碘作为二色性色素的情况下,该含硼酸的水溶液优选含有碘化钾。
偏振片的厚度通常为30μm以下,优选为20μm以下,更优选为15μm以下,进一步优选为10μm以下。尤其是如果将偏振片的厚度设为15μm以下,则有利于层叠体的薄膜化。偏振片的厚度通常为2μm以上,从使偏振板具有硬挺性的观点考虑,优选为3μm以上。
作为偏振片,例如可以如日本特开2016-170368号公报中记载所示,使用在将液晶化合物聚合而得的固化膜中使二色性色素取向而得的偏振片。作为二色性色素,可以使用在波长380~800nm的范围内具有吸收的二色性色素,优选使用有机染料。作为二色性色素,例如可以举出偶氮化合物。液晶化合物是可以在保持取向不变的状态下进行聚合的液晶化合物,可以在分子内具有聚合性基团。
(2)保护膜
可以层叠于偏振片的一面或两面的保护膜可以是由具有透光性的(优选光学上透明的)热塑性树脂、例如链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂;三乙酰纤维素、二乙酰纤维素之类的纤维素系树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯之类的聚酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;甲基丙烯酸甲酯系树脂之类的(甲基)丙烯酸系树脂;聚苯乙烯系树脂;聚氯乙烯系树脂;丙烯腈-丁二烯-苯乙烯系树脂;丙烯腈-苯乙烯系树脂;聚乙酸乙烯酯系树脂;聚偏二氯乙烯系树脂;聚酰胺系树脂;聚缩醛系树脂;改性聚苯醚系树脂;聚砜系树脂;聚醚砜系树脂;聚芳酯系树脂;聚酰胺酰亚胺系树脂;聚酰亚胺系树脂等形成的膜。
作为链状聚烯烃系树脂,除了可以举出聚乙烯树脂(作为乙烯的均聚物的聚乙烯树脂、以乙烯为主体的共聚物)、聚丙烯树脂(作为丙烯的均聚物的聚丙烯树脂、以丙烯为主体的共聚物)之类的链状烯烃的均聚物以外,还可以举出由两种以上的链状烯烃形成的共聚物。
环状聚烯烃系树脂是以环状烯烃作为聚合单元聚合的树脂的总称,例如可以举出日本特开平1-240517号公报、日本特开平3-14882号公报、日本特开平3-122137号公报等中记载的树脂。如果举出环状聚烯烃系树脂的具体例,则为环状烯烃的开环(共)聚合物、环状烯烃的加成聚合物、环状烯烃与乙烯、丙烯之类的链状烯烃的共聚物(代表性的例子是无规共聚物)、以及将它们用不饱和羧酸或其衍生物改性而得的接枝聚合物、以及它们的氢化物。其中,优选使用作为环状烯烃使用了降冰片烯单体、多环降冰片烯系单体之类的降冰片烯系单体的降冰片烯系树脂。
聚酯系树脂是不包括下述纤维素酯系树脂的、具有酯键的树脂,一般为包含多元羧酸或其衍生物与多元醇的缩聚物的树脂。作为多元羧酸或其衍生物,可以使用二元的二羧酸或其衍生物,例如可以举出对苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯。作为多元醇,可以使用二元的二醇,例如可以举出乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、环己烷二甲醇。作为聚酯系树脂的代表例,可以举出作为对苯二甲酸与乙二醇的缩聚物的聚对苯二甲酸乙二醇酯。
(甲基)丙烯酸系树脂是以具有(甲基)丙烯酰基的化合物作为主要构成单体的树脂。(甲基)丙烯酸系树脂的具体例例如包括聚甲基丙烯酸甲酯之类的聚(甲基)丙烯酸酯;甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物;甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物;甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物;(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS树脂等);甲基丙烯酸甲酯与具有脂环族烃基的化合物的共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片基酯共聚物等)。优选使用以聚(甲基)丙烯酸甲酯之类的聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯作为主成分的聚合物,更优选使用以甲基丙烯酸甲酯作为主成分(50~100重量%、优选为70~100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系树脂。
纤维素酯系树脂是纤维素与脂肪酸的酯。纤维素酯系树脂的具体例包括纤维素三乙酸酯、纤维素二乙酸酯、纤维素三丙酸酯、纤维素二丙酸酯。另外,还可以举出它们的共聚物、羟基的一部分由其他取代基修饰了的树脂。它们当中,特别优选纤维素三乙酸酯(三乙酰纤维素)。
聚碳酸酯系树脂是包含借助碳酸酯基将单体单元键合而得的聚合物的工程塑料。
将保护膜的相位差值控制为适于液晶显示装置等图像显示装置的值也是有用的做法。例如,在共面转换(IPS)模式的液晶显示装置中,优选使用相位差值实质上为零的膜作为保护膜。所谓相位差值实质上为零,是指波长590nm时的面内相位差值R0为10nm以下,波长590nm时的厚度方向相位差值Rth的绝对值为10nm以下,波长480~750nm时的厚度方向相位差值Rth的绝对值为15nm以下。
例如可以根据液晶显示装置的模式,对保护膜进行拉伸和/或收缩加工等,赋予合适的相位差值。例如,可以出于视角补偿的目的,使用单层或多层结构的相位差层(或膜)作为保护膜。该情况下,偏振板10可以是包含偏振片与相位差层的层叠结构的楕圆偏振板或圆偏振板、或者包含相位差层的兼具视角补偿功能的偏振板等。
保护膜的厚度通常为1~100μm,然而从强度、操作性等观点考虑优选为5~60μm,更优选为10~55μm,进一步优选为15~40μm。如果使用该范围内的厚度的保护膜作为构成偏振板的保护膜,则易于调整具备该保护膜的偏振板本身的F2(N)与S2(mm)的乘积(K2),进而易于调整包含该偏振板和表面保护膜的层的F1(N)与S1(mm)的乘积(K1)。具体而言,如果使用在上述范围内厚度大的保护膜作为保护膜,则乘积(K2)、乘积(K1)有变大的趋势,如果在上述范围内减小厚度,则乘积(K2)、乘积(K1)有变小的趋势。另外,如果保护膜的厚度为该范围内,则可以物理地保护偏振片,即使暴露于湿热环境下,偏振片也不收缩,可以保持稳定化的光学特性。
另外,通过选择显示出高刚性的材料作为构成保护膜的材料,可以调整F1(N)与S1(mm)的乘积(K1)、F2(N)与S2(mm)的乘积(K2)。如果使用刚性高的材料作为构成保护膜的材料,则F1(N)与S1(mm)的乘积(K1)、F2(N)与S2(mm)的乘积(K2)有变大的趋势。如果使用刚性低的材料作为构成保护膜的材料,则F1(N)与S1(mm)的乘积(K1)、F2(N)与S2(mm)的乘积(K2)有变小的趋势。
在偏振片的两面贴合保护膜的情况下这些保护膜可以由相同种类的热塑性树脂构成,也可以由不同种类的热塑性树脂构成。另外,厚度可以相同,也可以不同。此外,可以具有相同的相位差特性,也可以具有不同的相位差特性。
如上所述,保护膜的至少任意一方可以在其外表面(与偏振片相反一侧的面)具备硬涂层、防眩层、光扩散层、防反射层、低折射率层、防静电干扰层、防污层之类的表面处理层(涂层)。需要说明的是,保护膜的厚度包含表面处理层的厚度。
从抑制气泡向表面保护膜与偏振板之间混入的观点考虑,偏振板10的表面保护膜30侧的表面(即贴合表面保护膜30的表面,也可以是表面处理层。)优选依照JIS B 0601:2013的算术平均粗糙度Ra小。具体而言,上述表面的Ra优选为0.3μm以下,更优选为0.2μm以下,进一步优选为0.15μm以下。上述表面的Ra通常为0.001μm以上,例如为0.005μm以上。
保护膜例如可以夹隔着粘接剂层贴合于偏振片。作为形成粘接剂层的粘接剂,可以使用水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂或热固化性粘接剂,优选为水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂。
作为水系粘接剂,可以举出由聚乙烯醇系树脂水溶液形成的粘接剂、水系双剂型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。其中适合使用由聚乙烯醇系树脂水溶液形成的水系粘接剂。作为聚乙烯醇系树脂,除了可以使用对作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯进行皂化处理而得的乙烯醇均聚物以外,还可以使用对乙酸乙烯酯与能够与之共聚的其他单体的共聚物进行皂化处理而得的聚乙烯醇系共聚物、或将它们的羟基部分地改性而得的改性聚乙烯醇系聚合物等。水系粘接剂可以包含醛化合物(乙二醛等)、环氧化合物、三聚氰胺系化合物、羟甲基化合物、异氰酸酯化合物、胺化合物、多价金属盐等交联剂。
在使用水系粘接剂的情况下,优选在将偏振片与保护膜贴合后,实施用于除去水系粘接剂中所含的水的干燥工序。干燥工序后,例如可以设置在20~45℃的温度熟化的熟化工序。
上述所谓活性能量射线固化性粘接剂,是含有通过紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的粘接剂,优选为紫外线固化性粘接剂。
上述固化性化合物可以是阳离子聚合性的固化性化合物、自由基聚合性的固化性化合物。作为阳离子聚合性的固化性化合物,例如可以举出环氧系化合物(在分子内具有一个或两个以上的环氧基的化合物)、氧杂环丁烷系化合物(在分子内具有一个或两个以上的氧杂环丁烷环的化合物)、或它们的组合。作为自由基聚合性的固化性化合物,例如可以举出(甲基)丙烯酸系化合物(在分子内具有一个或两个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物)、自由基聚合性的具有双键的其他乙烯基系化合物、或它们的组合。也可以将阳离子聚合性的固化性化合物与自由基聚合性的固化性化合物并用。活性能量射线固化性粘接剂通常还包含用于引发上述固化性化合物的固化反应的阳离子聚合引发剂和/或自由基聚合引发剂。
在将偏振片与保护膜贴合时,为了提高粘接性,可以对它们的至少任意一方的贴合面实施表面活化处理。作为表面活化处理,可以举出电晕处理、等离子体处理、放电处理(辉光放电处理等)、火焰处理、臭氧处理、UV臭氧处理、电离活性射线处理(紫外线处理、电子束处理等)之类的干式处理;使用了水、丙酮等溶剂的超声波处理、皂化处理、锚涂处理之类的湿式处理。这些表面活化处理可以单独地进行,也可以组合两种以上。
在偏振片的两面贴合保护膜的情况下用于将这些保护膜贴合的粘接剂可以是相同种类的粘接剂,也可以是不同种类的粘接剂。
(3)其他膜
偏振板10可以包含偏振片及保护膜以外的其他膜,其代表例是增亮膜及相位差层。在偏振板10包含其他膜的情况下,表面保护膜30可以层叠于该膜的表面,或层叠于层叠在该膜上的表面处理层的表面。
增亮膜是也被称作反射型偏振片的膜,使用具有将来自光源(背光灯)的出射光分离为透射偏振光和反射偏振光或散射偏振光的功能的偏振光转换元件。通过将增亮膜配置于偏振片上,可以利用作为反射偏振光或散射偏振光的返回光,提高从偏振片射出的直线偏振光的出射效率。增亮膜可以夹隔着粘合剂层层叠于偏振片上。也可以在偏振片与增亮膜之间夹设保护膜之类的其他膜。
增亮膜例如可以是各向异性反射偏振片。各向异性反射偏振片的一例是透射一个振动方向的直线偏振光、反射另一个振动方向的直线偏振光的各向异性多重薄膜,其具体例为3M公司制的“APF”。各向异性反射偏振片的另一例是胆固醇型液晶层与λ/4板的复合体,其具体例为日东电工株式会社制的“PCF”。各向异性反射偏振片的另一例为反射栅格偏振片,其具体例为对金属实施精细加工而在可见光范围中也射出反射偏振光的金属栅反射偏振片、将金属微粒添加到高分子基质中并拉伸而得的膜。
如上所述,可以在增亮膜的外表面设置硬涂层、防眩层、光扩散层、相位差层(具有1/4波长的相位差值的相位差层等)、防反射层、低折射率层、防静电干扰层、防污层之类的表面处理层(涂层)。通过形成该层,可以提高与背光灯胶带的密合性、显示图像的均匀性。增亮膜50的厚度通常为10~100μm,然而优选为10~50μm,更优选为10~30μm。
作为相位差层,可以举出1/4波长(λ/4)板、1/2波长(λ/2)板、以及正C板等。λ/4板是其波长550[nm]时的面内的相位差值Re(550)满足100nm≤Re(550)≤200nm的关系的层。λ/4板也可以显示出满足Re(450)<Re(550)<Re(650)的逆波长分散性。λ/2板是Re(550)满足210nm≤Re(550)≤300nm的层。正C板优选满足Nz>Nx≥Ny的关系,且其波长λ[nm]时的厚度方向的相位差值Rth(λ)满足-300nm≤Rth(550)≤-20nm的关系。
相位差层例如可以由作为上述保护膜的材料给出例示的树脂形成,其中优选环状烯烃系树脂、苯乙烯系树脂。相位差层可以由单层形成,也可以由多个层形成。作为具有多个层的相位差层,例如可以是包含作为上述保护膜的材料给出例示的树脂膜(基材膜)、以及将液晶化合物聚合而得的液晶化合物发生固化的层的相位差层、包含多层(例如2层)的液晶化合物发生固化的层的相位差层。具有相位差的层可以是树脂膜和/或液晶化合物发生固化的层。树脂膜可以兼具上述保护膜的作用。
相位差层可以由一种相位差层构成,也可以由多种相位差层构成。在相位差层由多个相位差层构成的情况下,优选1/4波长板与1/2波长板的组合、1/4波长板与正C板的组合。
相位差层优选包含液晶化合物发生固化的层,在相位差层由多个层构成的情况下,可以任意一个相位差层都包含液晶化合物发生固化的层。对于液晶化合物的种类,没有特别限定,然而根据其形状,可以分类为棒状型(棒状液晶化合物)和圆盘状型(圆盘状液晶化合物、碟型液晶化合物)。此外,分别有低分子型和高分子型。需要说明的是,所谓高分子,一般是指聚合度为100以上的化合物(高分子物理·相転移ダイナミクス(高分子物理-相变动力学)、土井正男著、2页、岩波书店、1992)。本实施方式中,可以使用任意的液晶化合物。此外,也可以使用两种以上的棒状液晶化合物、两种以上的圆盘状液晶化合物、或棒状液晶化合物与圆盘状液晶化合物的混合物。
需要说明的是,作为棒状液晶化合物,例如可以合适地使用日本特表平11-513019号公报的权利要求1、或日本特开2005-289980号公报的[0026]~[0098]段中记载的液晶化合物。作为圆盘状液晶化合物,例如可以合适地使用日本特开2007-108732号公报的[0020]~[0067]段、或日本特开2010-244038号公报的[0013]~[0108]段中记载的液晶化合物。
相位差层更优选使用具有聚合性基团的液晶化合物(棒状液晶化合物或圆盘状液晶化合物)形成。由此,可以减小光学特性的温度变化、湿度变化。
液晶化合物可以是两种以上的混合物。该情况下,优选至少一种具有两个以上的聚合性基团。即,相位差层优选为具有聚合性基团的棒状液晶化合物或具有聚合性基团的圆盘状液晶化合物通过聚合被固定而形成的层。该情况下,形成层后已经无需显示出液晶性。
棒状液晶化合物或圆盘状液晶化合物中所含的聚合性基团的种类没有特别限制,例如优选聚合性烯键式不饱和基团、环聚合性基团等能够进行加成聚合反应的官能团。更具体而言,例如可以举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。其中,优选(甲基)丙烯酰基。需要说明的是,所谓(甲基)丙烯酰基,是包含甲基丙烯酰基及丙烯酰基两者的概念。
相位差层的形成方法没有特别限制,可以举出公知的方法。例如,向给定的基板(包括临时基板)上涂布包含具有聚合性基团的液晶化合物的光学各向异性层形成用组合物(以下简称为“组合物”。)而形成涂膜,对所得的涂膜实施固化处理(紫外线的照射(光照射处理)或加热处理),由此可以制造相位差层。制造出的相位差层例如可以转印到偏振片上或保护膜上。
作为组合物的涂布,可以利用公知的方法,例如可以利用绕线棒涂布法、挤出涂布法、直接凹版涂布法、反向凹版涂布法、以及模涂法实施。
在组合物中,可以包含上述的液晶化合物以外的成分。例如,在组合物中可以包含聚合引发剂。所使用的聚合引发剂可以根据聚合反应的形式,例如选择热聚合引发剂、光聚合引发剂。例如,作为光聚合引发剂,可以举出α-羰基化合物、偶姻醚(acyloin ether)、α-烃取代芳香族偶姻化合物、多核醌化合物、三芳基咪唑二聚物与对氨基苯基酮的组合等。聚合引发剂的使用量相对于组合物的全部固体成分优选为0.01~20质量%,更优选为0.5~5质量%。
另外,在组合物中,从涂布膜的均匀性及膜的强度的方面考虑,可以包含聚合性单体。作为聚合性单体,可以举出自由基聚合性或阳离子聚合性的化合物。其中,优选多官能性自由基聚合性单体。
需要说明的是,作为聚合性单体,优选与上述的含有聚合性基团的液晶化合物共聚性的聚合性单体。作为具体的聚合性单体,例如可以举出日本特开2002-296423号公报中的[0018]~[0020]段中记载的聚合性单体。聚合性单体的使用量相对于液晶化合物的总质量优选为1~50质量%,更优选为2~30质量%。
另外,在组合物中,从涂布膜的均匀性及膜的强度的方面考虑,可以包含表面活性剂。作为表面活性剂,可以举出以往公知的化合物。其中特别优选氟系化合物。
另外,在组合物中,可以包含溶剂,优选使用有机溶剂。作为有机溶剂,例如可以举出酰胺(例如N,N-二甲基甲酰胺)、亚砜(例如二甲亚砜)、杂环化合物(例如吡啶)、烃(例如苯、己烷)、烷基卤化物(例如氯仿、二氯甲烷)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如丙酮、甲乙酮)、醚(例如四氢呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。其中,优选烷基卤化物、酮。另外,也可以并用两种以上的有机溶剂。
另外,在组合物中,可以包含偏振片界面侧垂直取向剂、空气界面侧垂直取向剂等垂直取向促进剂、以及偏振片界面侧水平取向剂、空气界面侧水平取向剂等水平取向促进剂之类的各种取向剂。此外,在组合物中,除了上述成分以外,还可以包含密合改良剂、增塑剂、聚合物等。
在相位差层中,可以包含具有规定液晶化合物的取向方向的功能的取向膜。取向膜一般以聚合物作为主成分。作为取向膜用聚合物材料,在很多文献中有记载,可以买到很多市售品。其中,作为聚合物材料,优选使用聚乙烯醇或聚酰亚胺、其衍生物,特别优选使用改性或未改性的聚乙烯醇。
需要说明的是,对取向膜通常实施公知的取向处理。例如可以举出摩擦处理、照射偏振光的光取向处理等,从取向膜的表面粗糙度的观点考虑,优选光取向处理。
液晶化合物发生固化的层的厚度没有特别限制,然而优选为0.5~10μm,更优选为1.0~5μm。取向膜的厚度没有特别限制,然而多为20μm以下,其中,优选为0.01~10μm,更优选为0.01~5μm,进一步优选为0.01~1μm。
(4)粘合剂层
偏振板10优选在其最外表面具有粘合剂层15。该粘合剂层可以用于将偏振板10与显示元件(例如液晶单元、有机EL元件)、其他光学构件贴合,是剥离剥离膜20而露出的粘合剂层。另外,粘合剂层也可以用于使偏振片、保护膜、增亮膜、以及相位差层层叠。图1中,粘合剂层16相当于该粘合剂层。粘合剂层可以由以(甲基)丙烯酸系、橡胶系、氨基甲酸酯系、酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系之类的树脂作为主成分的粘合剂组合物构成。其中,适合以透明性、耐候性、耐热性等优异的(甲基)丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂组合物。粘合剂组合物可以是活性能量射线固化型、热固型。
作为粘合剂组合物中所用的(甲基)丙烯酸系树脂(基础聚合物),例如适合使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之类的(甲基)丙烯酸酯的一种或两种以上作为单体的聚合物或共聚物。在基础聚合物中,优选使极性单体共聚。作为极性单体,例如可以举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯之类的具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。
粘合剂组合物可以仅包含上述基础聚合物,然而通常还含有交联剂。作为交联剂,可以例示出作为2价以上的金属离子、且在其与羧基之间形成羧酸金属盐的交联剂;作为多胺化合物、且在其与羧基之间形成酰胺键的交联剂;作为聚环氧化合物、多元醇、且在其与羧基之间形成酯键的交联剂;作为多异氰酸酯化合物、且在其与羧基之间形成酰胺键的交联剂。其中,优选多异氰酸酯化合物。
所谓活性能量射线固化型粘合剂组合物,是具有受到紫外线、电子束之类的活性能量射线的照射而固化的性质、具有在活性能量射线照射前也具有粘合性而可以与膜等被粘物密合、可以因活性能量射线的照射而固化来调整密合力的性质的粘合剂组合物。活性能量射线固化型粘合剂组合物优选为紫外线固化型。活性能量射线固化型粘合剂组合物在基础聚合物、交联剂的基础上,还含有活性能量射线聚合性化合物。此外,根据需要,也可以含有光聚合引发剂、光敏剂等。
粘合剂组合物可以包含用于赋予光散射性的微粒、珠子(树脂珠、玻璃珠等)、玻璃纤维、基础聚合物以外的树脂、防静电干扰剂、增粘剂、填充剂(金属粉或其他无机粉末等)、抗氧剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、着色剂、消泡剂、防腐剂、光聚合引发剂等添加剂。
粘合剂层可以通过将上述粘合剂组合物的有机溶剂稀释液涂布于基材上、并使之干燥而形成。基材可以为偏振片、保护膜、增亮膜之类的其他光学膜、剥离膜(例如剥离膜20)等。在使用活性能量射线固化型粘合剂组合物的情况下,可以通过对所形成的粘合剂层照射活性能量射线而制成具有所期望的固化度的固化物。
粘合剂层15的厚度通常为1~40μm,然而从层叠体的薄膜化的观点、以及在保持良好的加工性的同时抑制偏振板10的尺寸变化的观点考虑,优选设为3~25μm(例如为3~20μm,更优选为3~15μm)。粘合剂层16的厚度通常为1~20μm,然而优选为3~10μm。
被层叠剥离膜20的粘合剂层15与剥离膜的密合力可以为0.20N/25mm以下,优选为0.10N/25mm以下,更优选为0.05N/25mm以下,也可以为0.04N/25mm以下。通过设为此种密合力,在剥离剥离膜时不会在偏振板中产生翘起,剥离性进一步提高。另外,密合力为0.02N/25mm以上。通过设为此种密合力,即使因运送等对层叠体施加冲击,也易于防止在剥离膜与粘合剂层之间产生间隙。本说明书中,粘合剂层与剥离膜的密合力是利用后述的实施例中记载的方法测定的值。
<表面保护膜>
表面保护膜30可以是包含基材膜31和层叠于其上的粘合剂层32的膜。表面保护膜30是用于保护偏振板10的表面的膜,通常在将层叠体贴合于例如显示元件或其他光学构件后与其所具有的粘合剂层一起剥离除去。
在使扎刺夹具相对于表面保护膜单体垂直地下降时,表面保护膜的弯曲的状态下的最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积(K3)优选为0.15N·mm以上,更优选为0.25N·mm以上,进一步优选为0.40N·mm以上。另外,最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积(K3)为1.00N·mm以下,也可以为0.90N·mm以下,也可以为0.80N·mm以下,也可以为0.70N·mm以下,也可以为0.60N·mm以下。最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积(K3)可以利用与求出上述的最大的力F1(N)与应变S1(mm)的乘积的方法相同的方法求出。
F3(N)可以为0.20N以上且1.0N以下,也可以为0.3N以上且0.6N以下。S3(mm)可以为0.3mm以上且3.0mm以下,也可以为0.5mm以上且2.0mm以下。
表面保护膜一般与增亮膜相比更具有硬挺性,对于提高剥离膜的剥离性而言是重要的。本说明书中,表面保护膜的厚度是基材膜的厚度与层叠于其上的粘合剂层的厚度的合计值,优选为30μm以上,更优选为50μm以上。另一方面,如果表面保护膜的厚度过大,则剥离剥离膜时,易于在表面保护膜与偏振板之间产生剥离,因此表面保护膜的厚度优选为100μm以下,更优选为70μm以下。但是,即使厚度相同,最大的力F3(N)与应变S3(mm)的乘积也可能根据材料、制造方法等而不同。
基材膜优选为热塑性树脂膜。构成热塑性树脂膜的热塑性树脂例如可以举出聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂之类的聚烯烃系树脂;环状聚烯烃系树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯之类的聚酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;(甲基)丙烯酸系树脂等。基材膜可以是单层结构,也可以是多层结构。
基材膜的厚度可以为20~150μm(例如为30~80μm,优选为30~60μm)。对于粘合剂层的构成,基本上引用关于前述的偏振板所具有的粘合剂层的记述。
特别是,粘合剂层的储能模量在80℃时优选为0.15MPa以下,更优选为0.14MPa以下,进一步优选为0.10MPa以下。通常而言,粘合剂层的80℃时的储能模量为0.01MPa以上。本说明书中,粘合剂层的储能模量可以使用市售的粘弹性测定装置、例如REOMETRIC公司制的粘弹性测定装置“DYNAMIC ANALYZER RDA II”测定。
表面保护膜30可以包含防静电干扰剂。例如可以使粘合剂层中含有防静电干扰剂。也可以不是使粘合剂层中含有防静电干扰剂、或者与之同时,在基材膜的与层叠粘合剂层的面相反一侧的面设置含有防静电干扰剂的防静电干扰层。
作为防静电干扰剂,可以举出离子性化合物。离子性化合物为具有无机阳离子或有机阳离子、和无机阴离子或有机阴离子的化合物。也可以使用两种以上的离子性化合物。
<剥离膜>
剥离膜20是为了在将粘合剂层贴合于显示元件(例如液晶单元、有机EL元件)或其他光学构件前保护其表面而临时贴附的膜。剥离膜20可以通过对一面实施利用硅酮系、氟系等脱模剂等的脱模处理而调整与粘合剂层15的密合力。剥离膜20由经过脱模处理的热塑性树脂膜构成,可以将粘合剂层贴合于其脱模处理面。
构成剥离膜20的热塑性树脂例如可以是聚乙烯之类的聚乙烯系树脂、聚丙烯之类的聚丙烯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯之类的聚酯系树脂等。剥离膜20的厚度例如为10~50μm。
对于层叠体100~103而言,可以剥离剥离膜20,并贴合于显示元件(例如液晶单元、有机EL元件)。此外,可以剥离表面保护膜30后,装入显示装置(例如液晶显示装置、有机EL显示装置)。在构建显示装置时可以将本发明的层叠体10用于配置在可视侧的偏振板,也可以用于配置在背光灯侧的偏振板,还可以用于可视侧及背光灯侧双方的偏振板。
例如可以如下所示地将剥离膜从层叠体剥离。将层叠体的表面保护膜侧的面固定于保持台,将剥离胶带贴合于剥离膜上。层叠体的固定方法没有特别限制,可以利用从表面保护膜侧抽吸的力来固定,也可以利用粘合力来固定。对于进行固定的表面保护膜与保持台之间的密合力,从不在偏振板残留痕迹的观点考虑,优选为0.1~0.3N/60mm,更优选为0.15~0.2N/60mm。根据本发明的层叠体,即使以此种小的压力固定层叠体也会显示出良好的剥离性。贴合剥离胶带的位置没有特别限制,在层叠体为矩形的情况下,可以贴合于四角的任意位置(对角部分)、或四边的任意边的中央。剥离胶带可以贴合于剥离膜的一个部位,也可以贴合于多个部位。然后,拉起剥离胶带而将剥离膜剥离。剥离角度可以设为90~180°,剥离速度可以设为0.1~10m/min.。
[实施例]
以下,给出实施例及比较例对本发明进一步具体说明,然而本发明不受这些例子限定。
(1)刚性(F×S)的测定方法
使用KATO TECH株式会社制的作为压缩试验机的KES-G5,测定各膜弯曲的状态下的最大的力F(N)和应变S(mm),算出两者的乘积。具体而言参照图3及图4进行说明。测定用膜3的大小设为短边25mm(双箭头43)×长边43mm(双箭头42)的矩形。作为扎刺夹具1,使用了前端为球形、前端直径为1mmφ、曲率为0.5R的针。如图3所示将作为测定对象的膜3载放于台2上,使扎刺夹具1相对于该膜3垂直地下降。载放有膜3的台2开设有从上表面直到下表面的圆形的孔,其上部的孔径(双箭头44)为30mm,下表面的孔径(双箭头41)为10mm。将对扎刺夹具1的载荷设为1kg,扎刺夹具的下降速度设为1.0cm/秒。在扎刺夹具1接触到作为测定对象的膜3后,测定出该膜弯曲的状态(即将产生褶皱或折入前的状态)下的最大的载荷(N)和应变(图4(a)的双箭头40的长度)(mm)。
(2)膜厚度的测定方法
使用株式会社Nikon制的作为数字式测微计的MH-15M测定。
(3)密合力的测定方法
使用株式会社岛津制作所制的作为台式精密万能试验机的Autograph(注册商标)AGS-X,测定出剥离膜与偏振板所具备的粘合剂层的密合力。
(4)剥离膜的剥离性的评价方法
将各实施例中制作的层叠体以使表面保护膜为下侧的方式固定于玻璃板(保持台)。固定时使用粘合片,进行固定的力(密合力)为0.1~0.3N/60mm。在剥离膜的四角中的一处,以使剥离胶带的长边方向平行于层叠体的长边方向的方式贴合了剥离胶带。剥离胶带使用日东电工株式会社制的作为聚酯粘合带的No.315,将宽度设为12mm,将贴合了的部分的长度设为10mm。用夹头握持剥离胶带的一端,将剥离膜剥离。剥离速度设为3m/分钟,剥离角度设为180°。此时将由偏振板及表面保护膜构成的层从固定了层叠体的玻璃翘起的情况判定为剥离不良(NG),将可以不翘起地剥离剥离膜的情况判定为剥离良好(OK)。
[实施例1]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚5μm)。在该偏振片的一面,夹隔着紫外线固化性粘接剂,贴合形成了硬涂层的环状烯烃系树脂(COP)膜(日本ZEON株式会社制、厚30μm),在偏振片的另一面,夹隔着相同的粘接剂,贴合由环状烯烃系树脂形成的相位差层(厚20μm)。
然后,在所述环状烯烃系树脂膜上形成包含聚合性液晶化合物发生固化的层的相位差层(厚5μm)。在由聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(厚20μm),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述相位差层上。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚50μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚15μm)形成的表面保护膜(厚度以基材膜与丙烯酸系粘合剂层的合计计为65μm),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于形成有所述硬涂层的环状烯烃系树脂膜上,得到膜。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/相位差层(液晶化合物发生固化的层)/相位差层(COP膜)/偏振片/形成了硬涂层的COP膜/表面保护膜的层构成。该层叠体中的偏振板〔粘合剂层/相位差层(液晶化合物发生固化的层)/相位差层(COP膜)/偏振片/形成了硬涂层的COP膜〕的厚度为80μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为65μm。
另外,从利用上述操作得到的膜中,留下粘合剂层地剥离剥离膜(38μm),得到包含偏振板和表面保护膜的层,将该层以25mm×43mm的矩形切出而设为测定用膜3,利用上述测定方法,测定弯曲的状态下的最大的力(F)而设为F1,测定应变(S)而设为S1。
从利用上述操作得到的膜中留下粘合剂层地剥离剥离膜(厚38μm),再剥离表面保护膜(厚65μm)而得到偏振板(厚80μm),将该偏振板以25mm×43mm的矩形切出而设为测定用膜3,利用上述测定方法,测定弯曲的状态下的最大的力(F)而设为F2,测定弯曲的状态下的最大的应变(S)而设为S2。将上述操作中所用的表面保护膜以25mm×43mm的矩形切出而设为测定用膜,利用上述测定方法测定弯曲的状态下的最大的力(F)而设为F3,测定弯曲的状态下的应变(S)而设为S3。其结果是,F1=2.69N,S1=3.4mm,F2=0.52N,S2=1.1mm,F3=0.46N,S3=1.6mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.04N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
[实施例2]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚8μm)。在该偏振片的一面,夹隔着水系粘接剂,贴合形成了硬涂层的环状烯烃系树脂膜(日本ZEON株式会社制、厚30μm)。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚38μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚17μm)形成的表面保护膜(藤森工业株式会社制、商品名FS-PF),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述形成了硬涂层的环状烯烃系树脂膜上。
在偏振片的另一面,夹隔着紫外线固化性粘接剂贴合以下的层叠膜。该层叠膜具有在由环状烯烃系树脂膜形成的相位差层(日本ZEON株式会社制、厚20μm、面内相位差值Re(590)=120~150nm)上层叠了聚合性液晶化合物发生固化的相位差层(厚1μm、厚度方向的相位差值Rth(590)=-110~-150nm)的构成。以使与偏振片的贴合面为层叠膜的COP膜面的方式贴合。
在由聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(LINTEC株式会社、厚13μm、#KC1),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述相位差层上。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/相位差层(液晶化合物发生固化的层)/相位差层(COP膜)/偏振片/形成了硬涂层的COP膜/表面保护膜的层构成。偏振板的厚度为72μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为55μm。
另外,F1=2.23N,S1=2.6mm,F2=0.56N,S2=1.5mm,F3=0.30N,S3=0.7mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.02N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
[实施例3]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚8μm)。在该偏振片的一面,夹隔着水系粘接剂,贴合形成了硬涂层的环状烯烃系树脂膜(日本ZEON株式会社制、厚30μm)。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚38μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚17μm)形成的表面保护膜(藤森工业株式会社制、商品名FS-PF),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述形成了硬涂层的环状烯烃系树脂膜上。
在偏振片的另一面,夹隔着紫外线固化性粘接剂,贴合以下的层叠膜。
该层叠膜具有在由环状烯烃系树脂膜形成的相位差层(日本ZEON株式会社制、厚22μm、面内相位差值Re(590)=120~150nm)上层叠了聚合性液晶化合物发生固化的相位差层(厚1μm、厚度方向的相位差值Rth(590)=-110~-150nm)的构成。以使与偏振片的贴合面为层叠膜的COP膜面的方式贴合。在由硅酮量少于实施例2的硅酮量的聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(LINTEC株式会社制、厚13μm、#KC1),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述相位差层上。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/相位差层(液晶化合物发生固化的层)/相位差层(COP膜)/偏振片/形成了硬涂层的COP膜/表面保护膜的层构成。偏振板的厚度为74μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为55μm。
另外,F1=2.15N,S1=3.4mm,F2=0.61N,S2=1.6mm,F3=0.30N,S3=0.7mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.04N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
[实施例4]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚8μm)。在该偏振片的一面,夹隔着粘合剂层(厚5μm),贴合增亮膜(3M公司制、APF-V3、厚30μm),在偏振片的另一面,夹隔着紫外线固化性粘接剂,贴合环状烯烃系树脂膜(日本ZEON株式会社制、厚13μm)。在由聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(LINTEC株式会社、厚13μm、#KC1),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述环状烯烃系树脂膜上。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚38μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚15μm)形成的表面保护膜(株式会社SUN.A.KAKEN制、商品名OF-PF),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述增亮膜上。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/COP膜/偏振片/粘合剂层/增亮膜/表面保护膜的层构成。偏振板的厚度为69μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为53μm。
另外,F1=1.62N,S1=3.5mm,F2=0.61N,S2=1.6mm,F3=0.21N,S3=0.7mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.02N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
[实施例5]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚8μm)。在该偏振片的一面,夹隔着粘合剂层(厚15μm),贴合增亮膜(3M公司制、APF-V4、厚20μm),在偏振片的另一面,夹隔着紫外线固化性粘接剂,贴合环状烯烃系树脂膜(日本ZEON株式会社制、厚13μm)。在由聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(LINTEC株式会社、厚13μm、#KC1),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述环状烯烃系树脂膜上。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚50μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚15μm)形成的表面保护膜(藤森工业株式会社制、商品名FY-PF),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述增亮膜上。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/COP膜/偏振片/粘合剂层/增亮膜/表面保护膜的层构成。偏振板的厚度为69μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为65μm。
另外,F1=1.62N,S1=2.4mm,F2=0.25N,S2=0.7mm,F3=0.42N,S3=1.3mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.02N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
[比较例1]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚8μm)。在偏振片的制作时,与实施例5的偏振片相比提高了拉伸倍率。在该偏振片的一面,夹隔着粘合剂层(厚15μm),贴合增亮膜(3M公司制、APF-V4、厚20μm),在偏振片的另一面,夹隔着紫外线固化性粘接剂,贴合环状烯烃系树脂膜(日本ZEON株式会社制、厚13μm)。在由聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(LINTEC株式会社、厚13μm、#KC1),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述环状烯烃系树脂膜上。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚38μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚15μm)形成的表面保护膜(藤森工业株式会社制、商品名AY-XA35),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述增亮膜上。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/环状烯烃系树脂膜/偏振片/粘合剂层/增亮膜/表面保护膜的层构成。偏振板的厚度为69μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为53μm。
另外,F1=1.09N,S1=2.1mm,F2=0.24N,S2=0.6mm,F3=0.22N,S3=0.5mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.02N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
[比较例2]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚8μm)。在该偏振片的一面,夹隔着粘合剂层(厚15μm),贴合增亮膜(3M公司制、APF-V4、厚20μm),在偏振片的另一面,夹隔着粘接剂,贴合环状烯烃系树脂膜(日本ZEON株式会社制、厚13μm)。在由聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(LINTEC株式会社、厚13μm、#KC1),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述环状烯烃系树脂膜上。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚38μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚15μm)形成的表面保护膜(藤森工业株式会社制、商品名AY-XA35),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述增亮膜上。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/环状烯烃系树脂膜/偏振片/粘合剂层/增亮膜/表面保护膜的层构成。偏振板的厚度为69μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为53μm。
另外,F1=1.21N,S1=1.8mm,F2=0.25N,S2=0.7mm,F3=0.25N,S3=0.5mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.02N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
[比较例3]
如下所示地制作出层叠体。
制作出使聚乙烯醇系树脂吸附了碘并取向了的偏振片(厚5μm)。在该偏振片的一面,夹隔着粘合剂层(厚5μm),贴合增亮膜(3M公司制、APF-V4、厚20μm),在偏振片的另一面,夹隔着粘接剂,贴合由丙烯酸系树脂形成的保护膜(厚20μm)。在由聚酯系树脂膜形成的剥离膜(厚38μm)上形成丙烯酸系粘合剂层(厚21μm),使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述由丙烯酸系树脂形成的保护膜上。准备由以聚酯系树脂形成的基材膜(厚40μm)和丙烯酸系粘合剂层(厚16μm)形成的表面保护膜,使该丙烯酸系粘合剂层层叠于所述增亮膜上。
将所得的膜裁割为长边26.6cm、短边20.0cm的矩形,得到层叠体。层叠体具有剥离膜/粘合剂层/光学保护膜/偏振片/粘合剂层/增亮膜/表面保护膜的层构成。偏振板的厚度为71μm,剥离膜的厚度为38μm,表面保护膜的厚度为56μm。
另外,F1=1.55N,S1=2.3mm,F2=0.24N,S2=1.3mm,F3=0.21N,S3=1.1mm。
粘合剂层与剥离膜的密合力为0.04N/25mm,在粘合剂层与剥离膜之间没有观察到以运送等为原因的剥落。
对上述实施例1~5、比较例1~3中制作出的层叠体,进行了剥离性的评价。将结果表示于表1中。如表1所示,实施例1~5的层叠体可以良好地进行剥离膜的剥离。另外,在任意一个实施例中,都没有在偏振板与表面保护膜之间产生剥离的不良。
[表1]
〔表1〕
产业上的可利用性
根据本发明,即使是刚性低的偏振板,也可以提供不产生剥离膜的剥离不良的层叠体,因此有用。
符号的说明
1 扎刺夹具,2 台,3 作为测定对象的膜,10 偏振板,11 偏振片,12、13 保护膜,14 增亮膜,15 粘合剂层,16 粘合剂层,17 相位差层,20 剥离膜,30 表面保护膜,31 基材膜,32 粘合剂层,40、41、42、43、44 双箭头,100、101、102、103 层叠体。
Claims (4)
1.一种层叠体,是如下的层叠体,即,
在偏振板的一面能够剥离地层叠有表面保护膜,
在所述偏振板的另一面夹隔着粘合剂层能够剥离地层叠有剥离膜,
所述偏振板包含偏振片,
在以所述表面保护膜作为测定膜、将利用以下的测定方法测定的最大的力F设为F3、将应变S设为S3时,以最大的力F3与应变S3的乘积F3×S3的形式表示的刚性K3为1.00N·mm以下,
在以包含所述偏振板和所述表面保护膜的层作为测定用膜、将利用以下的测定方法测定的最大的力F设为F1、将应变S设为S1时,以最大的力F1与应变S1的乘积F1×S1的形式表示的刚性K1为3.70N·mm以上且10.0N·mm以下;
测定方法:
将25mm×43mm的矩形的测定用膜载放于测定台,所述测定台从上表面观察在中央具有圆形的贯通孔,上表面的贯通孔的直径为30mm,从侧面观察到的贯通孔的形状为由柱状的下部和半球状的上部构成的形状,
从该测定用膜的上方,使前端为球形、前端直径为1mmφ且曲率半径为0.5mm的针,以使该针通过测定台的贯通孔的中心的方式,以1.0cm/秒的速度垂直地下降,
将针的前端接触测定用膜后该膜保持弯曲的状态的最大载荷作为最大的力F进行测定,并测定此时的膜的应变S,
所述F、F1和F3的单位为N,所述S、S1和S3的单位为mm。
2.根据权利要求1所述的层叠体,其中,
在将以所述偏振板作为测定膜、利用所述测定方法测定的最大的力F设为F2、将应变S设为S2时,以最大的力F2与应变S2的乘积的形式表示的刚性K2为1.00N·mm以下,
所述F和F2的单位为N,所述S和S2的单位为mm。
3.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,
所述偏振板与所述剥离膜之间的密合力为0.02N/25mm~0.05N/25mm。
4.一种带有表面保护膜的偏振板的制造方法,该制造方法包括:
将权利要求1~3中任一项所述的层叠体的表面保护膜以0.1N/60mm~0.3N/60mm的密合力固定于保持台上的工序、以及
将剥离膜从该层叠体剥离的工序。
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