CN109716237B - 传输电信号的装置及光刻设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种装置，该装置在光刻设备(100)的第一结构(10)处布置的第一接口元件(11)和在光刻设备(100)的第二结构(20)处布置的第二接口元件(21)之间传输电信号，其中电导体(30)连接了第一接口元件(11)和所述第二接口元件(21)。装置还具有中空主体(40)，该中空主体(40)至少围绕电导体(30)的区段并且设计为电磁屏蔽电导体(30)。间隙(43)提供在中空主体(40)中或者在中空主体(40)和结构(10、20)中的一个之间，并且间隙(43)允许第一结构(10)和第二结构(20)的相对移动以将第一结构(10)与所述第二结构(20)机械解耦。

Description

传输电信号的装置及光刻设备

相关申请的交叉引用

通过引用将优先权申请DE 10 2016 217 285.9的全部内容并入本文。

技术领域

本发明涉及传输电信号的装置，以及包括这种装置的光刻设备。

背景技术

例如，光刻用于制造微结构和纳米结构的部件，诸如集成电路。通过包括照明系统和投射系统的光刻设备执行光刻过程。在这种情况下，通过投射系统将通过照明系统所照明的掩模(掩模母版)的像投射到涂有感光层(光刻胶)且在投射系统的像平面中布置的基板(例如硅晶片)上，以便于将掩模结构转印至基板的感光涂层。

因此，投射或所使用的光用于将光刻结构成像到像平面或晶片平面上。对于集成电路的制造中实现更小的结构的渴望目前正驱动着EUV光刻设备的发展，该EUV光刻设备使用投射或所使用的光，其波长在0.1nm至30nm的范围中、特别是13.5nm。在这种EUV光刻设备的情况中，因为该波长的光被大多数材料高度吸收，不得不使用反射光学单元，也就是说反射镜以代替前述的折射光学单元，也就是说透镜元件。

在这种小结构的情况下，重要的是实现高成像质量。这还特别地应用于具有多重曝光的处理。为此，不得不考虑有助于损害成像的任何故障源并且最好将其消除。例如，典型的成像像差可以通过自适应光学单元来最小化。特别地，振动可能具有大影响。它们出现在光刻设备自身的所有区域中，例如由于流动冷却的水或气流并且还由于人在建筑物中的活动或由于附近的交通。振动可能具有引起光学元件它们自身振荡的效果，其中例如该光学元件的表面可能变形，其不利地影响了光学元件的性质。特别是在反射镜的情况中，这种类型的故障具有双倍影响，因为入射角的误差引起了反射角的相同量级的误差。

存在从环境中机械地解耦例如光刻设备的投射光学单元的敏感部件或组装件的各种措施。然而，在自适应光学单元的情况下，必须在光学单元和外置控制器之间传输诸如致动器或传感器的部件的控制信号，并且将供电电压传输到有源部件。为此信号和电源线是必要的。根据光刻设备的需求，绝缘和/或屏蔽线缆。特别地在信号线的情况下，需要屏蔽线不受不需要的影响，以便于确保无错误的信号传输。这例如通过多层的构造、如在多重屏蔽的信号线或同轴电缆的情况中来实现。电缆中的这样的多层构造导致电缆的刚度非常大。因此，这样的刚性电缆还产生外部框架至投射光学单元或各种有源部件的机械联接。大量可控制的部件需要对应的大量的电缆，其对应地放大了机械联接。作为示例，根据USB1.0规定，连接需要四个芯：接地、+5V、数据+、数据-。USB 3.1规定已经约定了例如电缆中组合的24芯。电缆具有的芯越多，刚度变得越大。对应地增加了电缆之上机械联接的强度。如果使用多个缆线，则机械联接同样地增加。

减少电缆数目的一个可能在于无线通信。为此，然而，所有机电一体化部件必须装备有对应的接收器。这种类型的数据传输与电缆连接的系统相比较更易受到干扰。此外，数据传输速率在更大程度上受限制。最终，同样对于这些系统电源是必须的，所以必须存在至少一定数量的接线传输。

已知的电缆连接的系统使用例如电缆回路和比需要更长的电缆，以便于降低经由电缆的振动传输。为了实现低机械联接，例如取决于电缆的刚度来选择电缆长度。然而，该解决方案具有对应的大空间需求并且因此不是总能够被使用。

发明内容

针对上述背景，本发明的目的是提供光刻设备中传输电信号的改进的装置。

根据第一方面，提出了在第一接口元件和第二接口元件之间传输电信号的装置。第一接口元件布置在光刻设备的第一结构处，第二接口元件布置在光刻设备的第二结构处。电导体将两个接口元件彼此连接。此外，提供了电导体的电磁屏蔽的中空主体，所述中空主体至少在区段中围绕电导体。在这种情况下，在中空主体中或在中空主体和结构中的一个之间的间隙允许第一结构和第二结构的相对移动，使得实现了第一结构与第二结构的机械解耦。

提出的装置使得最佳屏蔽电导体免受外部干扰场成为可能。在这种情况下，中空主体充当屏蔽物，其目的是为了保持外部电、磁和/或电磁场远离其内部或者衰减这些场。这在下文中还称为电磁屏蔽或者简称为屏蔽。因此可以在没有单独屏蔽或仅有简单屏蔽的情况下，形成中空主体的屏蔽的内部中延伸的电导体。这可以改进电导体的柔性。

电导体的由中空主体带来的电磁屏蔽具有下文所述的各种积极效果。

电信号出现作为数字信号，例如其可以形成数据流。作为示例，传感器可以将检测到的传感器数据作为数据流传输到评估装置。特别地，在数字数据传输的情况中，无错误传输是可期望的，因为可以由此增加负载数据吞吐量。数字信号连接所受的干扰越少，需要越少的检查数据包以验证传输的负载数据。在这种情况下，传输的总数据量至少由负载数据和检查数据构成。检查数据包可以被称为开销，因为它们不会有助于实际的信息传输。因为传感器系统可以在短时间内检测非常大数据量，因而对应的快速数据连接是可期望的。例如，如果可以降低开销，则对应地可以传输较大的负载数据量。

作为示例，还可以提供温度传感器，其电阻值根据其温度来变化。在这种情况下，传感器信号是模拟电信号。在模拟信号的情况下，同样，电磁干扰场可能导致错误的信号传输。此外，连接到电导体的部件可能对发生的电压和/或电流波动非常敏感。这样的波动可能由外部干扰场引起，并且可能最终导致部件毁坏。作为示例，机械致动器的致动强度可以取决于供电电压。如果干扰场引起供电电压的电压波动，则这可能因此由致动器导致错误的致动。

在本情况中，术语电磁干扰场涵盖所有可想到的干扰电信号的类型。这被认为是例如静态的或仅非常缓慢地改变电场或磁场。

光刻设备包括多个结构，诸如例如光源、束成形光学单元、光刻掩模、投射光学单元、晶片滑动架、和各种其他功能的和/或赋予稳定性的结构。特别地在晶片的曝光期间，重要的是，在曝光时间(其可以包括例如从几分之一秒到若干秒)期间，避免特别是待曝光的晶片的相对于光刻掩模的产生的像的相对移动。还应该避免单独光学部件的不需要的位移，其可能影响由投射镜头成像光刻掩模。在这种情况下，相对移动的振幅不应该超过设想的最大极限。设想的最大极限可以在纳米范围中。为了确保这个，光刻设备或光刻设备的结构应该远离例如震动、振荡、冲击、振动等。在这种情况下，应该考虑的是，例如电导体和电缆还产生了机械联接。为了最小化与所提出的装置的该机械联接，例如可以省略单独的电缆屏蔽。有利地，因此可以使用柔性电导体来连接两个接口元件。

接口元件可以形成为例如插头或插座。接口元件还可以由单独的插脚或接触点来实现。有利地，第一和第二接口元件具有相同数目的接触件。每个接触件然后需要电导体，将该电导体连接到其他接口元件的对应接触件。例如，由插头连接器可以制造连接件。粘合接合、焊接、冲压、熔接和/或相似的方法还可以用于将电导体连接到接口元件。在下文中，接口元件还可以被简称为接口。

中空主体具有包围件。特别地从具有针对相关干扰场的良好屏蔽性质的材料制造包围件。作为示例，材料可以具有良好电导率，以屏蔽电场。为了屏蔽磁场、特别是低频的磁场，例如材料可以是铁磁的。然后，中空主体的内部是屏蔽了电磁干扰场的体积。因此至少在内部的区域中屏蔽延伸穿过所述内部的电导体。在下文中，术语中空主体可以表示为由中空主体涵盖的整个体积和中空主体中的仅包围件二者。

可以例如从硬性、自支撑的材料制造中空主体。中空主体还可以包括不同材料。作为示例，中空主体可以具有由金属网覆盖的支撑结构。中空主体的这样的实施例可以承担重量优势并且能够更灵活地使用。

例如，中空主体具有间隙。在这种情况下，创造间隙，使得电磁干扰场不能或者至少不能显著地穿透所述间隙到中空主体的内部中。这可以通过间隙的对应尺寸来实现。在这种情况下，有利的是，不能制造大于需求的间隙。

然而，还可以形成中空主体，使得其与两个结构中的一个一起形成间隙。

由于间隙，在两个结构之间的相对移动是可能的。两个结构的相对于彼此的期望的位移在此具有较小的重要性，但是这也是装置的一种可能的应用。特别地，由中空主体不会将振荡、振动、冲击或其他机械脉冲从第一结构传输到第二结构。由于中空主体的屏蔽的内部，可以更简单地构造在中空主体的内部中延伸的电导体和/或电缆；特别地，可以减少屏蔽措施。这继而具有以下结果：可以减少经由电导体和/或电缆的接口元件的机械联接。总体上，提出的装置因此适合于以最小化的机械联接在两个接口元件之间进行的电缆连接的电信号传输。

根据第一实施例，装置布置在真空外壳中。真空外壳还可以被称为抽真空的外壳。

光刻设备可以具有抽真空的外壳，因此这可以有利于所用的UV辐射。特别地，在EUV光刻设备的情况中，投射光优选地通过真空，因此甚至典型的气体也展示了对EUV辐射的不需要的吸收。作为示例，投射镜头总体上可以被抽真空。投射镜头的外壳然后构成了真空外壳。第一接口元件可以例如布置在投射镜头的内侧上，并且第二接口元件可以布置在例如透镜元件处或与投射镜头机械解耦的反射镜安装件处。

根据装置的其他实施例，电导体至少在区段中形成为柔性印刷电路板。

例如，柔性印刷电路板包括柔性基板。例如，基板可以由聚酰胺和/或聚酰亚胺构成。作为示例，导体道应用在所述基板上。例如，导体道可以由铜构成。在这种情况下，例如，导体道可以粘合地接合到基板上或熔接到基板。因为柔性基板提供了结构完整性和机械稳定性，导体道可以具有非常小的横截面。作为示例，导体道可以具有高度为几微米的矩形横截面。由于小高度，所述导体道允许沿着导体道的宽度关于轴线可变的曲率。总体上，柔性印刷电路板因此具有高柔性，其促成降低的机械联接强度。

柔性印刷电路板还可以具有多层的构造。在这种情况下，每一层可以采用导体道。优选地，绝缘层分别插入在具有导体道的两个层之间。在层中，多个导体道还可以彼此并排地布置。

如果布线的空间很小，则该实施例是特别有利的。

根据装置的其他实施例，中空主体布置在第一结构处并且导电连接于此。此外，中空主体具有面向第二结构的开口。由中空主体的边缘界定开口，该中空主体与第二结构一起形成间隙。

在该实施例中，中空主体因此是完整的主体。在这种情况下，中空主体的边缘可以具有预先定义的形状；作为示例，可以由以对应于第二结构的曲率的方式各成段地弯曲的圆周表面来形成该边缘。然而，边缘还可以仅由中空主体的包围件的横截面来形成。在这种情况下，间隙形成在边缘和第二结构之间，该间隙允许中空主体相对于第二结构的相对移动并且因此允许第一结构相对于第二结构的相对移动。

由于中空主体的导电连接到第一结构，中空主体的电位等于第一结构的电位。有利地，第二结构也具有该电位、例如接地电位。

根据装置的其他实施例，中空主体包括两个部分主体。第一部分主体布置在第一结构处并且导电连接于此。第二部分主体布置在第二结构处并且导电连接于此。间隙形成在中空主体中的两个部分主体之间的重叠区段中。

可以同样地(或是差异地)形成中空主体的两个部分主体。作为示例，可以想到的是，第一部分主体由固态金属形成并且第二部分主体具有多部分包围件。作为示例，第二部分主体可以由支撑骨架结构和骨架结构上承载的屏蔽网结构形成。部分主体导电连接到相应的结构，由此它们具有结构的相应电位。有利地，第一结构的电位和第二结构的电位是相同电位，例如接地电位。部分主体还可以具有不同电位。

两个部分主体特别地具有重叠区段。为此，部分主体以重叠的区段成形，使得它们具有几何上类似的形状。作为示例，两个部分主体形成为具有圆形横截面的管。有利地，在重叠的区段中，一个部分主体的外径小于另一个的部分主体的内径。然后，可以将部分主体一点点按压到另一个中，这造成放大的重叠区段，其具有与间隙具有较小重叠区段相比较改进的屏蔽性质。然而，两个部分主体还可以具有相同的形状和相同的尺寸，并且可以在包围件的邻接侧横截面之间形成间隙。

根据装置的其他实施例，在第一部分主体中提供电连接到第一接口元件的第一印刷电路板。在第二部分主体中提供电连接到第二接口元件的第二印刷电路板。此外，经由电导体将第一印刷电路板连接到第二印刷电路板。

在这种情况下，第一印刷电路板和第二印刷电路板特别地形成为硬性印刷电路板。印刷电路板相应地连接到接口元件。在这种情况下，通过硬性布线、电缆或线可以将印刷电路板连接到相应的接口元件，因为在该连接的情况下机械解耦不是关键的。在这种情况下，印刷电路板可以配置为重新产生由相应接口元件提供的接触件。替代地，然而，可以提供的是，诸如信号放大器、电压变换器、开关、晶体管、二极管和/或该类型的其他部件的电子部件布置在印刷电路板上。因为印刷电路板布置在中空主体的屏蔽的内部中，自动地为这些部件屏蔽外部干扰场。

如果相对大的路径位于将要连接的接口元件之间，则该实施例还可以是有利的。在该情况下，路径的大部分可以连接到传统的导体或电缆，并且仅仅在两个印刷电路板之间的较短路径(特别是间隙之上的区段)可以通过柔性导体来形成。柔性导体通常比常规导体更贵，这是可以促成降低成本的原因。

根据装置的其他实施例，经由柔性印刷电路板将第一印刷电路板连接到第二印刷电路板。

根据装置的其他实施例，柔性印刷电路板具有第一边缘区段和相对于第一边缘区段的第二边缘区段，其中柔性印刷电路板沿着其路线旋转，使得其具有其中第一边缘区段和第二边缘区段形成螺旋形状的区段。

根据装置的其他实施例，柔性印刷电路板具有弯曲的和/或旋转的至少一个指定区段。

在该情况下，弯曲被理解为，例如，柔性印刷电路板的所述指定区段的纵向轴线不是直路径，而是弧形。

在该情况下，旋转被理解为，在柔性印刷电路板的所述指定区段中的柔性印刷电路板的法线向量具有不同方向，并且每组三个法线向量关于彼此线性无关。后面的性质还可以被描述为如下：每组三个法线向量总是跨越三维空间。这特别地适用于柔性印刷电路板的指定区段的纵向轴线的法线向量。

柔性印刷电路板例如形成为具有横截面的平条带结构，该横截面具有与柔性印刷电路板的长度垂直的长宽度和短高度。条带结构的在空间中的取向可以例如通过宽度向量、高度向量和长度向量来描述。这样的条带结构在垂直于宽度向量的方向(例如x方向)上具有柔性，例如，如果x-y跨越笛卡尔坐标系，则沿着宽度向量的方向(例如y方向)上的柔性明显较差，这取决于宽/高纵横比。借助于条带结构例如沿着柔性印刷电路板的长度旋转了90°的事实，柔性印刷电路板因此在区段中具有x方向上的柔性并且在其他区段中具有y方向上的柔性。总体上，因此实现了二维柔性。

在这种情况下，柔性印刷电路板可以在区段中旋转了任意旋转角。有利地，它至少旋转了90°。然而，180°、270°、360°或其他旋转角也是可能的。

根据其他实施例，装置布置在具有升高的氢气含量的低压气氛中。间隙然后配置为使得降低或抑制氢气穿透到中空主体中。例如，穿透可以被理解为扩散。

特别是在EUV光刻设备的情况中，污染物可以沉积在反射元件上并且损害光学性质。清洁光学元件的一种可能性是用氢气辐照它们，其中至少一部分氢气作为原子氢(即游离的形式)而存在。原子氢与多数污染物反应以形成挥发性物质。然而，由于该清洁方法，原子氢还积累在抽真空的外壳中。由于原子氢的反应性，有利的是，保护敏感结构(特别是诸如电缆绝缘体、环氧树脂、粘合剂和柔性印刷电路板的有机材料)免受原子氢影响。

在该实施例中，间隙配置为限制了原子氢的穿透。这确保了保护在中空主体中布置的各种部件或元件(特别是电缆、线绝缘件、印刷电路板、接口等)免受原子氢的影响。

根据装置的其他实施例，第一压力在第一结构的第一侧上占优势，并且与第一压力相比增加的第二压力在第一结构的第二侧上占优势。第一接口元件形成在第一侧上的印刷电路板上，其中印刷电路板在第二侧上具有其他接口元件。

在该实施例中，印刷电路板有利地同时用作真空衬套，这可以降低结构复杂度并且减少成本。

根据装置的其他实施例，第一接口元件和/或第二接口元件形成为印刷电路板。这具有以下优点：可以避免接口元件到印刷电路板的布线。

根据装置的其他实施例，形成间隙，使得其允许在第一结构和第二结构之间的相对移动为至多200μm、优选地至多100μm，更优选地至多10μm。

所需的间隙尺寸特别地取决于发生机械解耦和移动振幅的约定。不同的结构(例如一个在另一个内部的结构)可以多样地与其他结构机械解耦。作为示例，投射光学单元的外壳可以与包围光刻设备的外壳解耦。此外，投射光学单元的光学元件自身可以与投射光学单元的外壳解耦。此外，例如检测反射镜的偏转的传感器可以再次以解耦方式布置。在这种情况下，作为示例，解耦的每个阶段伴随着对由解耦构成的需求的增加，其中将要解耦的结构的允许且因此期望的移动振幅同时减少。

在这种情况下，较窄的间隙有利于屏蔽，因为电磁干扰场可能以较轻程度穿透间隙。

根据装置的其他实施例，电导体的机械联接强度为至多200N/m、优选地至多100N/m、更优选地至多20N/m并且甚至更优选地至多7N/m。

机械联接强度越低，由电导体传输的振动或振荡越小。

根据装置的其他实施例，电导体形成为电缆的部件，其连接了第一接口元件和第二接口元件。在电缆护套中，电缆包括多个单屏蔽的芯对和/或多个电压供应线。

可以组合多个电导体以形成电缆。作为示例，电缆包括五个芯对，其中每一个配置为用于信号传输。芯对有利地扭转，因为干扰影响因此会等同地影响两个芯。在差动信号传输的情况下，干扰影响因此很大程度上被平均。例如，芯对在各个情况下被屏蔽，以便于不会彼此相互影响。电缆中组合五个扭转的且单屏蔽的芯对。因为电缆延伸在中空主体中，可以省略电缆的外屏蔽。这十分有利于电缆的柔性，因为例如具有柔性线网的电缆屏蔽引起了以这种方法屏蔽的电缆的大部分刚性。

根据装置的其他实施例，柔性印刷电路板在多个层中包括多个导体道，其中至少一个导体道在至少每隔一个层延伸。

通过选择单独导体道的尺寸以及相应地单独导体道的布置，还可以用柔性印刷电路板至少实现单屏蔽的导体道对。作为示例，两个导体道彼此并排地布置在中央层中。在各种情况下中央层上的这些导体道旁边的外部区域上，提供了连接到接地电位的两个其他导体道。此外，在上层中和下层中提供相应的导体道，选择这些导体道的宽度使得它们重叠了在中央层上布置的四个导体道。上层和下层的导体道同样连接到接地电位。这样的布置使得单独屏蔽首先提及的两个导体道成为可能，该两个导体道例如针对差动信号传输构成内部导体道。除了该示例性实施例，可以促成改进的屏蔽的各种其他布置是可想到的。

根据装置的其他实施例，由重叠区段的区域中的第一部分主体的第一边缘结构和第二部分主体的第二边缘结构来形成间隙，所述第二边缘结构对应于第一边缘结构。在这种情况下，第一边缘结构和第二边缘结构是互相啮合的结构。

因此，第一边缘结构和第二边缘结构形成件和对应件。在该实施例中，电磁干扰场穿透到内部中可以被有效地抑制。此外，还可以由该方法阻止穿透，特别是氢气扩散。

根据装置的其他实施例，中空主体布置在第一结构处并且导电连接于此。此外，它形成为具有面向第二结构的开口的完整中空主体。中空主体的朝向开口的边缘与第二结构一起形成间隙。在这种情况下，第二结构特别地包括与中空主体的边缘对应的边缘结构。

在这种情况下，第二结构的边缘结构不属于中空主体。特别地，甚至在以整体的方式形成的中空主体的情况下，边缘结构使得可以实现在边缘区域中的改进的对电磁干扰场的屏蔽，并且降低气体原子的穿透。

根据第二方面，提出了光刻设备，其包括根据第一方面或第一方面的实施例中的一个的传输电信号的装置。

根据第三方面，提出了光刻设备中传输电信号的装置。该装置包括第一接口元件和第二接口元件，该第一接口元件布置在光刻设备的第一结构处，该第二接口元件布置在光刻设备的第二结构处。经由传输电信号的柔性印刷电路板，将第一接口元件连接到第二接口元件。柔性印刷电路板包括多层，其中提供具有导体道的至少三层，所述层是一层位于另一层的上方。导体道布置为使得，中央层中布置的至少一个导体道被中央层和/或其他层中的其他导体道电磁屏蔽。

在这种情况下，第一方面的实施例还构成第三方面的实施例。

本发明其他可能的实现方式还包括关于示例性实施例在上文或下文描述的特征或实施例的没有明确提到的组合。在这种情况下，本领域技术人员还将增加单独方面，作为对本发明的相应的基本形式的改进或补充。

本发明的其他有利的配置和方面是从属权利要求的主题，并且也是在下文中描述的本发明示例性实施例的主题。在下文中，参考附图基于优选的实施例更详细地解释本发明。

附图说明

图1a示出了EUV光刻设备的示意图；

图1b示出了DUV光刻设备的示意图；

图2示出了传输电信号的装置的第一示例性实施例的横截面；

图3示出了传输电信号的装置的第二示例性实施例的横截面；

图4示出了传输电信号的装置的第三示例性实施例的横截面；

图5示出了传输电信号的装置的第四示例性实施例的横截面；

图6示出了传输电信号的装置的第五示例性实施例的横截面；

图7示出了柔性印刷电路板的一个示例性实施例的横截面；

图8a示意性示出了来自一个区段中旋转以形成螺旋形状的柔性印刷电路板的局部；

图8b示出了柔性印刷电路板的指定区段的一个实施例的示意图；

图8c示出了柔性印刷电路板的指定区段的其他实施例的示意图；

图9示意性示出了作为真空衬套的印刷电路板的一个示例性实施例；以及

图10a-10c示出了形成间隙的边缘结构的各种示例性实施例。

具体实施方式

除非另外指示，附图中已经将相同的附图标记提供给相同的元件或者具有相同功能的元件。

图1a示出了EUV光刻设备100A的示意图，该EUV光刻设备100A包括束成形和照明系统102以及投射系统104。在这种情况下，EUV表示“极紫外”(EUV)，并且表示在0.1和30nm之间的工作光(还叫做所使用的辐射)的波长。束成形和照明系统102和投射系统104布置在真空外壳101中。借助于抽真空的装置(未示出)来将真空外壳101抽真空。真空外壳101被机械室(未示出)围绕，该机械室中例如提供设定光学元件的控制器。

为了传输电信号，光刻设备100A包括装置1。装置1包括在第一结构10处布置的第一接口11，该第一结构10在现在的情况下构成真空外壳101的外壳部件。此外，装置1包括在第二结构20处布置的第二接口21。在现在的情况下，第二结构20是投射系统104的外壳的部件。此外，装置1包括中空主体40和电导体30，该电导体30延伸在该中空主体40中并且将第一接口10连接到第二接口20。特别地，中空主体40配置为使得其内部构成实质上没有电磁干扰场的体积42。图2-图6中示出装置1的各种示例性实施例。

EUV光刻设备100A包括EUV光源106A。可以提供等离子体源(或同步加速器)例如作为EUV光源106A，该等离子体源发射在EUV范围中(极紫外范围中，即例如在0.1nm至30nm的波长范围中)的辐射108A。在束成形和照明系统102中，聚焦EUV辐射108A，并且从EUV辐射108A中过滤出期望的操作波长。由EUV光源106A产生的EUV辐射108A具有穿过空气相对低的透过率，因此在束成形和照明系统102中和在投射系统104中的束引导空间被抽真空。

图1a中示出的束成形和照明系统102具有五个反射镜110、112、114、116、118。在通过束成形和照明系统102后，EUV辐射108A被指引到光掩模(掩模母版)120上。光掩模120例如形成为反射光学元件并且可以布置在系统102、104的外部。另外，通过反射镜122可以将EUV辐射108A指引到光掩模120上。光掩模120包括通过投射系统104以缩小的方式成像到晶片124等上的结构。在这种情况下，晶片124布置在投射系统104的像平面中。

投射系统104(还被称为投射镜头)具有六个反射镜M1-M6，用于将光掩模120成像到晶片124上。在这种情况下，投射系统104的单独反射镜M1-M6可以关于投射系统104的光轴126对称地布置。应该注意到，EUV光刻设备100A的反射镜的数目不限于所示的数目。还可以提供更多或更少数目的反射镜。此外，反射镜通常在其前侧弯曲，用于束成形。

图1b示出了DUV光刻设备100B的示意图，该DUV光刻设备100B包括束成形和照明系统102以及投射系统104。在这种情况下，DUV表示“深紫外”(DUV)，并且表示在30和250nm之间的工作光(还叫做所使用的辐射)的波长。束成形和照明系统102和投射系统104——如参考图1a已经描述的——可以布置在真空外壳中和/或被具有对应的控制装置的机械室围绕。图1b仅示出了包括投射系统104、光掩模120和装置1的真空外壳101。装置1——如参考图1a同样描述的——配置为将电信号传输到投射系统104。图2-图6中示出装置1的各种示例性实施例。

DUV光刻设备100B具有DUV光源106B。作为示例，可以提供发射在193nm的DUV范围中的辐射108B的ArF准分子激光器作为DUV光源106B。

在图1b中所示的束成形和照明系统102将DUV辐射108B引导到光掩模120上。光掩模120实施为透射光学元件，并且可以布置在系统102、104的外部。光掩模120包括通过投射系统104以缩小的方式成像到晶片124等上的结构。在这种情况下，晶片124布置在投射系统104的像平面中。

投射系统104具有多个透镜元件128和/或反射镜130，用于将光掩模120成像到晶片124上。在这种情况下，投射系统104的单独的透镜元件128和/或反射镜130可以关于投射系统104的光轴126对称地布置。应该注意到，DUV光刻设备100B的透镜元件和反射镜的数目不限于所示的数目。还可以提供更多或更少数目的透镜元件和/或反射镜。此外，反射镜通常在其前面弯曲，用于束成形。

最后的透镜元件128和晶片124之间的空气间隙可以替换为具有>1的折射率的液体介质132。例如，液体介质可以是高纯度的水。这样的构造还被称为浸没式光刻，并且具有增强的光刻分辨率。

如图2-图6所示的装置1的示例性实施例各适合于例如图1a和图1b中所示的光刻设备100A、100B中的一个中信息、功率或数据传输。

图2示出了在第一结构10和第二结构20之间传输电信号的装置1的第一示例性实施例的横截面。在第一示例性实施例中，中空主体40形成为完整的中空主体40，其布置在第一结构10处并且导电连接于此。中空主体40具有朝第二结构20形成开口的边缘41。间隙43形成在边缘41和第二结构20之间。中空主体40围绕体积42，其在图2中以点状的背景示出并且构成实质上没有干扰场的体积42。第一接口元件11布置在第一结构10处，并且经由电导体30连接到第二结构20处布置的第二接口元件21，该电导体30形成为柔性电缆30并且在体积42中延伸。由于间隙43，第二结构20和中空主体40可以彼此独立地移动，只要移动振幅不大于间隙43。在示例性实施例中，将第一结构10和第二结构20还有中空主体40连接到接地电位(未示出)。

图3示出了在第一结构10和第二结构20之间传输电信号的装置1的第二示例性实施例的横截面。在该示例性实施例中，中空主体40包括两个部分主体44和45，它们在重叠区段46中重叠。间隙43形成在所述重叠区段46中。第一部分主体44布置在第一结构10处并且导电连接于此。第二部分主体45布置在第二结构20处并且导电连接于此。其他特征对应于图2中的第一示例性实施例的特征。

图4示出了在第一结构10和第二结构20之间传输电信号的装置1的第三示例性实施例的横截面。在该示例性实施例中，如图3中的第二示例性实施例，中空主体40构造为两部分的形式。此外，在此提供印刷电路板32、33，其中相应的印刷电路板32、33布置在部分主体44、45的一个中。第一接口元件11包括四个单独的接口，它们通过硬性线38连接到第一印刷电路板32上对应的接触件11’。接口元件21也包括四个单独的接口，它们通过硬性线38连接到第二印刷电路板33上对应的接触件21’。经由具有所需数目的单独芯的柔性电缆30，将第一印刷电路板32连接到第二印刷电路板33。该示例性实施例的其他特征对应于图3中的示例性实施例的特征。

图5示出了在第一结构10和第二结构20之间传输电信号的装置1的第四示例性实施例的横截面。所示的第四示例性实施例与图4中的第三示例性实施例的区别在于，为代替柔性电缆30，柔性印刷电路板31连接了在部分主体44、45中布置的两个印刷电路板32和33。其他特征对应于第三示例性实施例的特征。

图6示出了在第一结构10和第二结构20之间传输电信号的装置1的第五示例性实施例的横截面。该示例性实施例与图5中的第四示例性实施例的区别在于，第二接口元件21形成为印刷电路板21，将其经由柔性印刷电路板31连接到第一部分主体44中的第一印刷电路板32。还可以陈述的是，第二印刷电路板33(参见图5)布置在第二结构20处。其他特征对应于第三或第四实施例的特征。

在图示上方，替代地或附加地，第一接口元件11可以形成为印刷电路板。

图7示出了柔性印刷电路板31的一个示例性实施例的横截面。图示是使得柔性印刷电路板31进入附图的平面或从附图的平面出现。所示的印刷电路板31包括一层在另一层上方布置的总共五层。在这种情况下，在第一、第三和第五层分别提供导体道321、322、323。第二和第四层充当柔性印刷电路板31的基板，该基板在机械上稳定该柔性印刷电路板，保持层在一起，并且将一个在另一个上方布置的导体道321、322、323彼此绝缘。例如，基板材料324是聚酰亚胺。特别地，在第三层中，多个导体道321、322、323彼此并排布置，并且通过其间布置的基板材料324而彼此绝缘。在该示例性实施例中，导体道321和322用于信号传输，其中可以提供差分信号传输。第一和第五层中各提供宽导体道323。将导体道323连接到接地电位。所示的布置因此具有中央布置的导体道321和322的屏蔽性质。根据该示例性实施例所构造的柔性印刷电路板31适合于例如用在根据装置1的任何上述示例性实施例的装置1中。

图8a示意性示出了来自一个区段中旋转以形成螺旋形状的柔性印刷电路板31的局部。在该示图中，柔性印刷电路板31从左往右延伸。此外，示图中印刷电路板31的顶侧和底侧由不同阴影线标识。柔性印刷电路板31包括第一边缘区段35和相对的第二边缘区段36。从左边看，第二边缘区段36是上部边缘区段。在该取向上，印刷电路板31的顶侧指向附图平面的外侧。沿着印刷电路板31朝右的路线，印刷电路板31包括柔性印刷电路板31旋转的区段37。在所述区段37中，边缘区段35、36形成螺旋形状。例如，该示例性实施例中的旋转角是180°。这具有以下效果：跟随区段37进一步朝右，边缘区段互换使得现在第一边缘区段35是上部边缘区段。此外，在该取向上，现在印刷电路板31的底侧指向附图平面的外侧。此外，图8a中描绘了两个辅助线(未指定)，所述辅助线示出取向的变化。附图的平面中，所示的实施例具有柔性，这在没有旋转的区段37的情况下将不存在或将仅仅非常轻微地存在。

图8b示出了柔性印刷电路板31的指定区段的一个实施例的示意图。在该示图中，图8b中的柔性印刷电路板31从左往右延伸。图8b中的柔性印刷电路板31的指定区段弯曲。换言之，柔性印刷电路板31的所述区段的纵向轴线不会形成直路径，而是弧形。图8b中柔性印刷电路板31的纵向轴线的法线向量n具有不同方向并且位于平面中。

图8c示出了柔性印刷电路板31的指定区段的其他实施例的示意图。根据图8c的柔性印刷电路板31的指定区段旋转。在此，旋转意味着在所述指定区段中柔性印刷电路板31的指定区段的纵向轴线的法线向量n具有不同方向，并且每组三个法线向量n相对于彼此线性无关。后者的性质还可以描述为，图8c中每组三个法线向量n总是跨越三维空间。

图9示意性示出了用作真空衬套的印刷电路板32的一个示例性实施例。为此，印刷电路板32并入到第一结构10中。第一压力在第一结构10的第一侧12上占优势，并且与第一压力相比增加的第二压力在第一结构10的第二侧13上占优势。第一接口元件11形成在第一侧12上的印刷电路板32上，并且其他接口元件14形成在第二侧13上的印刷电路板32上。所示的布置还可以类似地应用到第二结构20(参见图1-6中的任一个)。

图10a-图10c示出了形成间隙43的边缘结构47、48的各种示例性实施例。所示的示例性实施例基于以两部分方式形成的中空主体40，例如根据装置1的第二、第三、第四或第五示例性实施例。在这种情况下，将边缘结构47分配到部分主体44，并且将边缘结构48分配到部分主体45。边缘结构47形成例如件，并且边缘结构48形成对应件。两个边缘结构47、48在重叠区段46中重叠。图10a-10c中，边缘结构47、48之间形成的间隙43各以蛇形方式延伸。这还可以被称为之字形或曲折形状。这样的间隙形状可以改进屏蔽。此外，这样的间隙形状可以构成改进的穿透屏障或扩散屏障。

除了具有两个部分主体44、45的示图，边缘区段47、48中的一个可以直接地布置在结构10、20中的一个处。在该情况下，中空主体40还可以以整体的方式形成，例如如装置1的第一实施例中所示。

虽然基于示例性实施例已经描述了本发明，但是仍可以通过多种多样的方式来修改本发明。

附图标记列表

1 装置

10 第一结构

11 第一接口元件

11’ 接触件

12 第一结构的第一侧

13 第一结构的第二侧

14 其他接口元件

20 第二结构

21 第二接口元件

21’ 接触件

30 电导体

31 柔性印刷电路板

32 第一印刷电路板

33 第二印刷电路板

35 第一边缘区段

36 第二边缘区段

37 区段

38 线

40 中空主体

41 边缘

42 电磁屏蔽的体积

43 间隙

44 第一部分主体

45 第二部分主体

46 重叠区段

47 边缘结构

48 边缘结构

100 光刻设备

100A EUV光刻设备

100B DUV光刻设备

101 真空外壳

102 束成形和照明系统

104 投射系统

106A EUV光源

106B DUV光源

108A EUV辐射

108B DUV辐射

110-118 反射镜

120 光掩模

122 反射镜

124 晶片

126 光轴

128 透镜元件

130 反射镜

132 浸没式液体

321 导体道

322 导体道

323 导体道

324 基板材料

M1-M6 反射镜

n 法线向量

Claims (19)

1.一种传输电信号的装置，所述装置在第一接口元件(11)和第二接口元件(21)之间传输电信号，所述第一接口元件(11)在光刻设备(100)的第一结构(10)处布置，所述第二接口元件(21)在所述光刻设备(100)的第二结构(20)处布置，其中电导体(30)连接了所述第一接口元件(11)和所述第二接口元件(21)，并且提供中空主体(40)，所述中空主体(40)至少在区段中围绕所述电导体(30)并且用于电磁屏蔽所述电导体(30)，其中间隙(43)提供在所述中空主体(40)中或者在所述中空主体(40)和所述结构(10、20)中的一个之间，所述间隙允许所述第一结构(10)和所述第二结构(20)的相对移动以将所述第一结构(10)与所述第二结构(20)机械解耦，以及其中所述中空主体(40)包括两个部分主体(44、45)，其中第一部分主体(44)布置在所述第一结构(10)处且导电连接于所述第一结构，并且第二部分主体(45)布置在第二结构(20)处且导电连接于所述第二结构，其中所述间隙(43)形成在所述中空主体(40)中的两个部分主体(44、45)之间的重叠区段(46)中。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述装置(1)布置在真空外壳(101)中。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述电导体(30)至少在区段中形成为柔性印刷电路板(31)。

4.根据权利要求1或2所述的装置，其中在所述第一部分主体(44)中提供了电连接到所述第一接口元件(11)的第一印刷电路板(32)，并且在所述第二部分主体(45)中提供了电连接到所述第二接口元件(21)的第二印刷电路板(33)，其中经由所述电导体(30)将所述第一印刷电路板(32)连接到所述第二印刷电路板(33)。

5.根据权利要求4所述的装置，其中经由柔性印刷电路板(31)将所述第一印刷电路板(32)连接到所述第二印刷电路板(33)。

6.根据权利要求3所述的装置，其中所述柔性印刷电路板(31)具有第一边缘区段(35)和相对于所述第一边缘区段(35)的第二边缘区段(36)，其中所述柔性印刷电路板(31)沿着其路线旋转，使得所述柔性印刷电路板具有其中所述第一边缘区段(35)和所述第二边缘区段(36)形成螺旋形状的区段(37)。

7.根据权利要求3所述的装置，其中所述柔性印刷电路板(31)的至少一个指定区段弯曲和/或旋转。

8.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述装置(1)布置在具有升高的氢气含量的低压气氛中，并且所述间隙(43)配置为使得抑制氢气穿透到所述中空主体(40)中。

9.根据权利要求1或2所述的装置，其中第一压力在所述第一结构(10)的第一侧(12)上占优势，并且与所述第一压力相比增加的第二压力在所述第一结构(10)的第二侧(13)上占优势，其中所述第一接口元件(11)在所述第一侧(12)上形成在印刷电路板上，并且所述印刷电路板在所述第二侧(13)上具有其他接口元件(14)。

10.根据权利要求1或2所述的装置，其中形成所述间隙(43)，使得其允许在所述第一结构(10)和所述第二结构(20)之间的相对移动为至多200μm。

11.根据权利要求10所述的装置，其中所述相对移动为至多100μm。

12.根据权利要求10所述的装置，其中所述相对移动为至多10μm。

13.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述电导体(30)的机械联接强度为至多200N/m。

14.根据权利要求13所述的装置，其中所述机械联接强度为至多100N/m。

15.根据权利要求13所述的装置，其中所述机械联接强度为至多20N/m。

16.根据权利要求13所述的装置，其中所述机械联接强度为至多7N/m。

17.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述电导体(30)形成为电缆的部件，其连接了所述第一接口元件(11)和所述第二接口元件(21)并且在电缆护套中包括多个单屏蔽的芯对和/或多个电压供应线。

18.根据权利要求1或2所述的装置，其中由所述第一部分主体(44)的第一边缘结构(47)和所述第二部分主体(45)的第二边缘结构(48)在所述重叠区段(46)的区域中形成所述间隙(43)，所述第二边缘结构(48)对应于所述第一边缘结构(47)，其中所述第一边缘结构(47)和所述第二边缘结构(48)是相互啮合的结构。

19.一种光刻设备(100)，包括根据权利要求1-18中任一项所述的传输电信号的装置。

Images