CN109705854B - 一种铟、铊共掺的碘化铯闪烁体及其应用 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种铟、铊共掺的碘化铯闪烁体及其应用,所述闪烁体的化学组成通式为:(Cs1‑x‑yTlxIny)I1+2y,0<x≤0.05、0<y≤0.05。将铟、铊共掺的碘化铯闪烁体应用于制备的铟、铊共掺的碘化铯薄膜,薄膜采用热蒸发工艺制备。采用本发明所述的铟、铊共掺的碘化铯闪烁体制备的铟、铊共掺的碘化铯薄膜具有高闪烁效率和高稳定性,特别是稳定性的提高将对促使CsI闪烁材料在高分辨X成像领域的广泛应用具有重要价值。
Description
技术领域
本发明属于闪烁体材料技术领域,具体涉及一种铟、铊共掺的碘化铯闪烁体及其应用。
背景技术
碘化铯(CsI)系闪烁材料主要包括纯CsI产生的本征CsI系闪烁体材料及其掺杂后产生的非本征CsI系闪烁体材料。本征CsI系闪烁体具有均匀性高、光输出高、余辉较小等特点,但纯CsI晶体的荧光时间太短,电荷藕合器件图像传感器(CCD)不能够直接接受其信号。非本征闪烁体中掺铊碘化铯(CsI:Tl)晶体密度较大,转换后的可见光可以与CCD匹配,同时CsI:Tl晶体具有较高的光产额和优良的抗辐照能力,是一种综合性能优良的闪烁晶体。
然而,CsI:Tl晶体稳定性远不如CdWO4、BaF2等闪烁晶体材料,其较低稳定性极大的制约了该类闪烁材料的发展,如何提高CsI:Tl晶体的稳定性是研究此类材料的关键技术。卤素类闪烁材料(如NaI、CsI等)的稳定性主要是此类材料的潮解性引起的,抑制此类材料的潮解性是提高材料稳定性的关键。元素掺杂是改善材料和器件性能的有效手段之一。诸如通过对CsI进行Na元素掺杂可以有效增强闪烁体的光产能,通过对CsI进行Yb、Bi元素的掺杂进行余晖性能的减弱。但到目前为止,能显著提高CsI闪烁材料稳定性的元素掺杂未见报道。
发明内容
本发明的目的在于提供一种铟、铊共掺的碘化铯闪烁体及其应用,该闪烁体在具有高闪烁效率的基础上,还能具有较高的稳定性。
为实现上述目的,本发明提供了一种铟、铊共掺的碘化铯闪烁体,所述闪烁体的化学组成通式为:(Cs1-x-yTlxIny)I1+2y,0<x≤0.05、0<y≤0.05。
本发明所述的铟、铊共掺的碘化铯闪烁体可应用于制备的铟、铊共掺的碘化铯薄膜。
优选的,所述薄膜采用热蒸发工艺制备。
优选的,所述热蒸发工艺包括以下步骤:
(1)按组成通式:(Cs1-x-yTlxIny)I1+2y称取化学计量比的CsI、TlI和InI3,在混合均匀后装入固定在电极上的钼金属蒸发舟内;
(2)将衬底基片加热至150~250℃,并调节热蒸室内气压至10-5~10-3Torr,以的蒸镀速率进行蒸镀,在衬底基片上的薄膜厚度达到30~600μm后停止蒸镀;然后在100~350℃下进行退火处理30~90min,再自然降温至室温。
优选的,所述衬底基片选用铝片、玻璃、陶瓷材料、单晶硅片、石英片中的一种。
经过实验图谱分析可知,与现有技术相比,采用本发明所述的铟、铊共掺的碘化铯闪烁体制备的铟、铊共掺的碘化铯薄膜具有高闪烁效率和高稳定性,特别是稳定性的提高将对促使CsI闪烁材料在高分辨X成像领域的广泛应用具有重要价值。
附图说明
图1是本发明提供的掺铊碘化铯在共掺铟离子前后的X射线激发发光效率的差异图;
图中:曲线A是掺铊碘化铯薄膜样品的X射线激发发光效率曲线;曲线B是掺杂铟离子后的掺铊碘化铯薄膜样品的X射线激发发光效率曲线;
图2是掺铊碘化铯薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h前后的X射线衍射对比图谱;
图中:曲线A是掺铊碘化铯薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h前的X射线衍射图谱;曲线B是掺铊碘化铯薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h后的X射线衍射图谱;
图3是本发明提供的掺铊碘化铯在共掺铟离子后薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h前后的X射线衍射对比图谱;
图中:曲线C是本发明提供的掺铊碘化铯在共掺铟离子后薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h前的X射线衍射图谱;曲线D是本发明提供的掺铊碘化铯在共掺铟离子后薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h后的X射线衍射图谱。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
选择常用的掺铊碘化铯作为对比例:制备(Cs0.999Tl0.001)I薄膜
将259.55g CsI和0.331g TlI混合均匀后,装入固定在电极上的钼金属蒸发舟内,通过电阻加热的方式对铝片加热至180℃,并调节热蒸室内气压为10-3torr,以的蒸镀速率进行蒸镀,蒸发时基片架旋转以保证薄膜均匀性,待薄膜厚度达到80μm后停止蒸镀,待温度降至150℃后保温30min退火,自然冷却到室温,生长得到的薄膜样品无色透明,与铝片结合牢固。
实施例1:制备(Cs0.9985Tl0.001In0.0005)I1.001薄膜
将259.42CsI、0.331g TlI和0.248g InI3充分混合均匀后,装入固定在电极上的钼金属蒸发舟内,通过电阻加热的方式对单晶硅片加热至180℃,并调节热蒸室内气压为10-3torr,以的蒸镀速率进行蒸镀,蒸发时基片架旋转以保证薄膜均匀性,待薄膜厚度达到80μm后停止蒸镀,待温度降至150℃后保温30min退火,自然冷却到室温,生长得到的薄膜样品无色透明,与单晶硅片结合牢固,所述单晶硅片也可选用铝片或陶瓷片来替换。
将对比例和实施例1所制得的薄膜样品分别进行X射线激发发光效率检测,结果如图1所示。由图1分析可知,铟、铊共掺CsI薄膜与掺杂铊的CsI薄膜都具有CsI的衍射峰,且铟、铊共掺CsI薄膜的闪烁效率明显高于掺杂铊的CsI薄膜。
图2是对比例所制得的薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h前后的X射线衍射对比图谱;由图2分析可知,掺杂铊的CsI薄膜样品暴露在空气后,衍射峰强度明显降低,说明该样品的结晶度下降,样品部分成分产生降解,性能不稳定。
图3是实施例1所制得的薄膜样品在空气中(25℃,80%RH)放置240h前后的X射线衍射对比图谱;由图3分析可知,本发明提供的掺铊碘化铯在共掺铟离子后薄膜样品暴露在空气后,衍射峰强度基本没有变化,说明共掺杂铟离子后的碘化铯样品在空气中无降解,样品稳定性好。
实施例2:制备(Cs0.998Tl0.001In0.001)I1.002薄膜
将259.30g CsI、0.331g TlI和0.496g InI3充分混合均匀后,装入固定在电极上的钼金属蒸发舟,通过电阻加热的方式对玻璃片加热至250℃,并调节热蒸室内气压为10- 5torr,以的蒸镀速率进行蒸镀,蒸发时基片架旋转以保证薄膜均匀性,待薄膜厚度达到600μm后停止蒸镀,待温度降至350℃后保温90min退火,自然冷却到室温,生长得到的薄膜样品无色透明,与玻璃片结合牢固,所述玻璃片也可选用铝片或陶瓷片来替换。
本实施例的检测结果与实施例1类似,通过检测结果分析表明铟、铊共掺CsI薄膜与掺杂铊的CsI薄膜都具有CsI的衍射峰,且铟、铊共掺CsI薄膜的闪烁效率明显高于掺杂铊的CsI薄膜。另外,铟、铊共掺CsI薄膜的稳定性优于掺杂铊的CsI薄膜。
实施例3:制备(Cs0.9975Tl0.001In0.0015)(I1.003)薄膜
将259.16g CsI、0.331g TlI和0.743g InI3充分混合后,装入固定在电极上的钼金属蒸发舟,通过电阻加热的方式对石英片加热至150℃,热蒸室内气压降至10-4torr,以的蒸镀速率进行蒸镀,蒸发时基片架旋转以保证薄膜均匀性,待薄膜厚度达到30μm后停止蒸镀,待温度降至100℃后保温40min退火,自然冷却到室温,生长得到的薄膜样品无色透明,与石英片结合牢固,所述石英片也可选用铝片或陶瓷片来替换。
本实施例的检测结果与实施例1类似,通过检测结果分析表明铟、铊共掺CsI薄膜与掺杂铊的CsI薄膜都具有CsI的衍射峰,且铟、铊共掺CsI薄膜的闪烁效率明显高于掺杂铊的CsI薄膜。另外,铟、铊共掺CsI薄膜的稳定性优于掺杂铊的CsI薄膜。
Claims (5)
1.一种铟、铊共掺的碘化铯闪烁体,其特征在于:所述闪烁体的化学组成通式为:(Cs1-x-yTlxIny)I1+2y,0<x≤0.05、0<y≤0.05。
2.一种应用权利要求1所述的铟、铊共掺的碘化铯闪烁体制备的铟、铊共掺的碘化铯薄膜。
3.根据权利要求2所述的铟、铊共掺的碘化铯薄膜,其特征在于:所述薄膜采用热蒸发工艺制备。
5.根据权利要求4所述的铟、铊共掺的碘化铯薄膜,其特征在于:所述衬底基片选用铝片、玻璃、陶瓷材料、单晶硅片、石英片中的一种。
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