CN1096321A - 高效干洗净及其加工工艺 - Google Patents

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CN1096321A
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CN
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CN 93111527
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Inventor
刘正华
彭成来
桂明翔
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New Tech Development Centre Of Guichi City Anhui Prov
Original Assignee
New Tech Development Centre Of Guichi City Anhui Prov
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Abstract

一种高效干洗净及其加工工艺,它可用于各种油 污,灰尘的干洗,它由水,聚乙烯、丙三酸、聚乙二醇, 异丙醇、苯甲醇、十六烷基三甲基溴化胺,珍珠粉,烷 基苯磺酸钠,香精通过加温,乳化,冷却,灌装工序加 工而成,它具有高效去污,杀菌消毒,同时具有护肤功 效,其加工工艺简单,制造成本低。

Description

本发明涉及一种干洗净,特别为一种广泛用于各种油污,灰尘干洗的干洗净及其加工工艺。
目前市售的干洗净,擦试后不能直接去污,而需借助其它物品来擦洗,且不具有护肤效果,
本发明的目的就是为了解决现有技术的上述缺陷而提供一种擦洗后可直接去污,并具有护肤效果的干洗净及其制造工艺
本发明的技术解决方案如下:
一种高效干洗净,在于它由聚乙烯、丙三醇、聚乙二醇,异丙醇、苯甲醇、十六烷基三甲基溴化胺,珍珠粉,烷基苯磺酸钠,香精通过加温,乳化,冷却,灌装工序加工而成,其各组分重量百分比含量为
聚乙烯  5%  苯甲醇  0.5%
水  77.8%  十六烷基三甲基溴化胺  2.5%
丙三醇  1%  珍珠粉  0.2%
聚乙二醇  5%  烷基苯磺酸钠  2%
异丙醇  5%  香精  1%
一种高效干洗净的加工工艺,它包括有加温,乳化,冷却,灌装等工序,首先在加温工序中,将水加温至80度左右,然后在乳化工序中在加温的水中加入聚乙烯,并不停搅拌至均匀,再加入丙三醇和聚乙二醇,并继续搅拌均匀,此时将混合物温度降至60度左右,加入异丙醇,并不停搅拌,继续加入苯甲醇和十六烷基三甲基溴化胺,再继续搅拌降温至30度左右,加珍珠粉,烷基苯磺酸钠和香精,完成乳化工序,将乳化工序中所得的混合物温度降至室温,完成冷却工序后灌装得成品。
本发明的优点在于因它采用对人体无害的吸收剂,除菌剂和护肤剂精制而成,使其具有高效去污,使用方便杀菌消毒,同时由于采用了营养剂还可用于妇女化妆,洗面除污和面膜,并具有效的护肤作用。本产品是一种高效多用途清洁剂,它不仅适用于矿山,油田和车间工人、驾驶员、环卫工作人员还适用于用手接触油彩、带菌物、污物的医院、剧院和实验人员。对缺乏水源的野外作业者、旅游者、部队战士更是必备之物。
本发明在制作时,首先将77.8%的水加温至80度,同时加入聚乙烯1750±50  5%,同时不断搅拌,然后加入丙三醇1%左右和聚乙二醇5%,同时继续搅拌均匀后将温度降至60度加入异丙醇5%,同时搅拌并继续加入苯甲醇0.5%和十六烷基三甲基溴化胺2.5%继续搅拌降温至30度加珍珠粉0.2%,烷基苯磺醇钠2%和香精1%,然后将温度降至室温,灌装成成品即可。

Claims (2)

1、一种高效干洗净,其特征在于它由聚乙烯、水、丙三醇、聚乙二醇,异丙醇、苯甲醇、十六烷基三甲基溴化胺,珍珠粉,烷基苯磺酸钠,香精通过加温,乳化,冷却,灌装工序加工而成,其各组分重量百分比含量为
聚乙烯    5%     苯甲醇               0.5%
水        77.8%  十六烷基三甲基溴化胺  2.5%
丙三醇    1%     珍珠粉               0.2%
聚乙二醇  5%     烷基苯磺酸钠          2%
异丙醇    5%     香精                  1%
2、一种高效干洗净的加工工艺,它包括有加温,乳化,冷却,灌装等工序,其特征在于首先在加温工序中,将水加温至80度左右,然后在乳化工序中在加温的水中加入聚乙烯,并不停搅拌至均匀,再加入丙三醇和聚乙二醇,并继续搅拌均匀,此时将混合物温度降至60度左右,加入异丙醇,并不停搅拌,继续加入苯甲醇和十六烷基三甲基溴化胺,再继续搅拌降温至30度左右,加珍珠粉,烷基苯磺酸钠和香精,完成乳化工序,将乳化工序中所得的混合物温度降至室温,完成冷却工序后灌装得成品。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101016499B (zh) * 2007-01-26 2011-05-18 顺德职业技术学院 压敏胶残留物水基清洗剂

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PB01 Publication
C01 Deemed withdrawal of patent application (patent law 1993)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication