CN109607553A - 一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 118
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 57
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 55
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 54
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 claims description 25
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 8
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 7
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M tetraoctylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 claims description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 2
- 230000031709 bromination Effects 0.000 claims description 2
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 claims 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 17
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 abstract description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 abstract 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 6
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- ODJZWVFLHZHURI-UHFFFAOYSA-M [Br-].C(CCC)[P+](CCCC)(CCCC)CCCC.[NH4+].[Br-] Chemical compound [Br-].C(CCC)[P+](CCCC)(CCCC)CCCC.[NH4+].[Br-] ODJZWVFLHZHURI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 5
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 5
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 5
- VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) silicon(4+) titanium(4+) Chemical compound [Si+4].[O-2].[O-2].[Ti+4] VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000002336 sorption--desorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- JYVHOGDBFNJNMR-UHFFFAOYSA-N hexane;hydrate Chemical compound O.CCCCCC JYVHOGDBFNJNMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003837 high-temperature calcination Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004530 micro-emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000009938 salting Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
- C01P2004/52—Particles with a specific particle size distribution highly monodisperse size distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/16—Pore diameter
- C01P2006/17—Pore diameter distribution
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
本发明的一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法属于二氧化硅粒子制备技术领域。以正硅酸四乙酯作为硅源，氨水作为催化剂，低碳链的季铵盐作为尺寸调节剂，在醇/水体系中反应，制备出单分散的大尺寸二氧化硅粒子。本发明实现了在溶胶‑凝胶法过程中，仅一步就制备出单分散的、大尺寸二氧化硅粒子。该方法制备的粒子单分散性好，具有密实的微孔结构，通过改变低碳链的季铵盐的种类调控产物表面的浸润性质，在半导体器件绝缘、微流体器件、无机涂层等方面具有良好的应用价值。
Description
技术领域：
本发明属于二氧化硅粒子制备技术领域，具体涉及一种单分散的、大尺寸二氧化硅粒子的制备方法。
技术背景：
二氧化硅粒子因其独特的性质被广泛应用于医药、色谱及催化等领域，而在500～1100nm区间的、单分散的、具有微孔结构的大尺寸二氧化硅粒子在阵列、组装、光子学晶体及液晶显示薄膜等领域具有更加实用的应用价值。一般粒子单分散性越好，粒子的品质就会越高，越有利于其功能化和应用。在常见的二氧化硅粒子的制备方法中，利用溶胶-凝胶法仅可以制备出尺寸为50～400nm之间的单分散的二氧化硅粒子(J.Colloid InterfaceSci.1968,26,62-69)。而若想制备出500～1100nm的大尺寸二氧化硅粒子往往需要采用种子法或额外引入电解质的方法。目前，种子法常以300～500nm的二氧化硅粒子作为种子，但受到种子粒子的尺寸限制，如果想要制备出更大尺寸的二氧化硅粒子，往往需要进行多次的种子再生长，这在实际操作中，极易发生自成核或粒子聚沉等现象。如，Woo-Sik Kim小组利用种子法，最终可制备出300～1400nm的二氧化硅粒子，但这一制备方法在操作过程中，受“硅源”浓度、滴加速率、进料时间以及搅拌速度等变量因素的影响，很难控制其进行有效的“单体添加生长”，最终导致粒子自成核，单分散性变差(见J.Colloid InterfaceSci.2005,286(2):536-542，Fig.2)；而电解质法虽然简化了实验操作，但由于受到离子强度的影响，也很难制备出单分散性良好的大尺寸二氧化硅粒子。如Mikio Konno小组在反应过程中引入氯化钾，虽然粒子的尺寸能够随着盐浓度的增高而明显增大，但高盐浓度会促使粒子发生明显的聚集，粒子的单分散性变差(Langmuir.2010,26(10),7512–7515)；此外，也有人利用微乳液体系，在表面活性剂的诱导下制备大尺寸的介孔二氧化硅粒子。如YanoK.等人，利用正硅酸四甲酯作为硅源(TMOS)，十烷基三甲基溴化铵(C10TMABr)作为结构诱导剂，在适当醇、水体积比条件下，一步法就制备出大尺寸的介孔二氧化硅粒子。虽然该方法制备的大尺寸粒子单分散性也较好，但介孔结构不利于阵列或光子学晶体的应用，此外，在后期高温煅烧去除有机杂质时，也会在一定程度上破坏粒子的表面微结构和表面性质(如“硅羟基”密度等)，不利于大尺寸二氧化硅粒子的进一步功能化。
综上，现有的制备大尺寸二氧化硅粒子的方法还有待改进。
粒子多分散度是粒子尺寸分布宽窄的一个量度，可用粒子尺寸偏差来表示，其常规计算方法是从透射电镜照片中，选取200个以上的粒子，分别测量其粒径尺寸，然后计算其尺寸偏差(J.Colloid Interface Sci.2000,232,102-110)。偏差越小，表明粒子尺寸分布越窄，粒径更为均一，对应的粒子多分散度值越低。当粒子多分散度值<5％时，就认为粒子是单分散的(Langmuir 2008,24,1714-1720.)。
发明内容：
本发明的目的在于克服背景技术存在的不足，提供一种简单有效的一步法制备单分散的、大尺寸微孔结构的二氧化硅粒子。单分散的粒子是指粒子多分散度值<5％，大尺寸是指粒子尺寸在500～1100nm之间可调，微孔结构是指二氧化硅粒子内部的孔道尺寸<1nm。该制备方法操作简便，产物尺寸均一性高，此外，该方法还可轻易调控二氧化硅粒子的表面浸润性。
本发明的技术方案如下：
一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法，是以正硅酸四乙酯作为硅源，氨水作为催化剂，低碳链的季铵盐作为尺寸调节剂，在醇/水体系中反应，制备出单分散的大尺寸二氧化硅粒子，具体的实验步骤为，依次向醇/水体系中加入低碳链的季胺盐、氨水以及正硅酸四乙酯，在15℃条件下搅拌反应8小时，得到具有单分散的大尺寸二氧化硅粒子。
在本发明的一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法中，所述低碳链的季胺盐是指3～8个碳链的季胺盐，优选四丙基溴化铵、四丁基溴化铵或四辛基溴化铵；其中，使用四丙基溴化铵或四丁基溴化铵时得到亲水表面的大尺寸二氧化硅粒子，而使用四辛基溴化铵时得到亲油表面的大尺寸二氧化硅粒子。
在本发明的一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法中，在醇/水反应体系中，所述的低碳链季胺盐的浓度优选5～30mmol/L；所述的氨水的浓度优选1.5mol/L；所述的正硅酸四乙酯的浓度优选0.1mol/L。
在本发明的一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法中，所述的醇/水体系，优选体积比为49:1的乙醇与水的混合溶剂。
有益效果：
1、本发明实现了在溶胶-凝胶法过程中，仅一步就制备出单分散的、大尺寸二氧化硅粒子。该方法制备的粒子单分散性好，多分散度值<5％，粒子尺寸在500～1100nm可调，且该方法制备的大尺寸二氧化硅粒子具有密实的微孔结构。
2、本发明制备的单分散的、大尺寸无孔二氧化硅粒子可通过改变低碳链的季铵盐的种类调控其表面的浸润性质，在半导体器件绝缘、微流体器件、无机涂层等方面具有良好的应用价值。
3、本发明的一种一步法制备单分散的、大尺寸二氧化硅粒子的方法，在适当低碳链的季铵盐浓度条件下，还可配成高效的种子溶液，使粒子发生有效的“单体添加生长”，这也为更大尺寸的、单分散性良好的、微米级二氧化硅粒子的制备提供了可能。
附图说明
图1为本发明实施例1制备的单分散的、524nm二氧化硅粒子的透射电子显微镜照片。
图2为本发明实施例2制备的单分散的、667nm二氧化硅粒子的透射电子显微镜照片。
图3为本发明实施例3制备的单分散的、868nm二氧化硅粒子的透射电子显微镜照片。
图4为本发明实施例4制备的单分散的、1020nm二氧化硅粒子的透射电子显微镜照片。
图5为本发明实施例4单分散的、1020nm二氧化硅粒子的吸附-脱附曲线。
图6为本发明实施例4单分散的、1020nm二氧化硅粒子的HK算法的孔分布曲线。
图7为本发明实施例4制备的单分散的、1020nm二氧化硅粒子分别分散于水中(左)和环己烷(右)中的照片。
图8为本发明实施例5制备的单分散的、1060nm二氧化硅粒子分别分散于水中(左)和环己烷(右)中的照片。
图9为本发明实施例7制备的单分散的、1508nm二氧化硅粒子的透射电子显微镜照片。
具体实施方式：
以下是本发明的具体实施例用的基本条件，但本发明能实施的范围并不限于这些条件，也不限于这些实施例：
环境温度25℃，1个大气压；
四丁基溴化铵，分子量259.47g/mol。
四辛基溴化铵，分子量546.793g/mol。
氨水，质量分数25％，密度0.90g/mL，分子量17g/mol；
正硅酸四乙酯(TEOS)，密度0.931g/mL，分子量208.33g/mol；
环己烷，质量分数99％，密度0.78g/mL，分子量84.16g/mol。
实施例1：
首先配制醇/水混合溶剂，在19.6mL乙醇溶剂中加入0.4mL水，再向醇/水溶剂中依次加入0.25mL浓度为0.4mol/L的四丁基溴化铵溶液和2.25mL质量分数为25％的浓氨水，反应温度稳定到15℃后，最后加入0.4mL正硅酸四乙酯，搅拌反应8h，反应结束后，离心去上清，水洗后，70℃将粒子烘干，得到纯净的单分散的、524nm二氧化硅粒子。其透射电镜照片如图1所示。
实施例2：
首先配制醇/水混合溶剂，在19.6mL乙醇溶剂中加入0.4mL水，再向醇/水溶剂中依次加入0.50mL浓度为0.4mol/L的四丁基溴化铵溶液和2.25mL质量分数为25％的浓氨水，反应温度稳定到15℃后，最后加入0.4mL正硅酸四乙酯，搅拌反应8h，反应结束后，离心去上清，水洗后，70℃将粒子烘干，得到纯净的单分散的、667nm二氧化硅粒子。其透射电镜照片如图2所示。
实施例3：
首先配制醇/水混合溶剂，在19.6mL乙醇溶剂中加入0.4mL水，再向醇/水溶剂中依次加入0.75mL浓度为0.4mol/L的四丁基溴化铵溶液和2.25mL质量分数为25％的浓氨水，反应温度稳定到15℃后，最后加入0.4mL正硅酸四乙酯，搅拌反应8h，反应结束后，离心去上清，水洗后，70℃将粒子烘干，得到纯净的单分散的、868nm二氧化硅粒子。其透射电镜照片如图3所示。
实施例4：
首先配制醇/水混合溶剂，在19.6mL乙醇溶剂中加入0.4mL水，再向醇/水溶剂中依次加入1.00mL浓度为0.4mol/L的四丁基溴化铵溶液和2.25mL质量分数为25％的浓氨水，反应温度稳定到15℃后，最后加入0.4mL正硅酸四乙酯，搅拌反应8h，反应结束后，离心去上清，水洗后，70℃将粒子烘干，得到纯净的单分散的、1020nm二氧化硅粒子。产物的透射电镜照片如图4所示，产物的吸附-脱附曲线和HK算法的孔分布曲线如图5和图6所示，可以看出本实施例制备的产物具有密实的微孔结构。
实施例5：
首先配制醇/水混合溶剂，在19.6mL乙醇溶剂中加入0.4mL水，再向醇/水溶剂中依次加入1.00mL浓度为0.4mol/L的四辛基溴化铵溶液和2.25mL质量分数为25％的浓氨水，反应温度稳定到15℃后，最后加入0.4mL正硅酸四乙酯，搅拌反应8h，反应结束后，离心去上清，水洗后，70℃将粒子烘干，得到纯净的、单分散的、1060nm二氧化硅粒子。
实施例6：
对实施例4和实施例5制备的产物进行亲水(油)性质实验。取0.2克样品，分别分散于20mL水和环己烷溶剂中，实施例4制备的1020nm二氧化硅粒子的结果如附图7所示；实施例5制备的1060nm二氧化硅粒子的结果如附图8所示，在图7和图8中，左边溶剂是水，右边溶剂是环己烷，可见例4利用四丁基溴化铵溶液制备的二氧化硅粒子极易分散于水而不分散于环己烷中；例5利用四辛基溴化铵制备的二氧化硅粒子则极易分散于环己烷而不分散于水中，这一特殊性质在半导体器件绝缘、微流体器件、无机涂层等方面具有良好的应用价值。
实施例7：
以实施例4中的粒子作为种子粒子，应用于种子法以制备更大尺寸的二氧化硅粒子。称取0.083克1020nm的二氧化硅粒子，加入4.99mL乙醇溶剂和10μL超纯水，超声分散2min，再向其中依次加入100μL浓度为0.4mol/L的季胺盐溶液和150μL质量分数为25％的浓氨水，反应温度稳定到15℃后，最后加入33.75μL正硅酸四乙酯，搅拌反应8h，反应结束后，离心去上清，水洗后，70℃将粒子烘干，得到纯净的单分散的、1508nm二氧化硅粒子，其透射电镜照片如图9所示。
Claims (4)
1.一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法，是以正硅酸四乙酯作为硅源，氨水作为催化剂，低碳链的季铵盐作为尺寸调节剂，在醇/水体系中反应，制备出单分散的大尺寸二氧化硅粒子，具体的实验步骤为，依次向醇/水体系中加入低碳链的季胺盐、氨水以及正硅酸四乙酯，在15℃条件下搅拌反应8小时，得到具有单分散的大尺寸二氧化硅粒子；所述的低碳链的季胺盐是指3～8个碳链的季胺盐。
2.根据权利要求1所述的一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法，其特征在于，所述低碳链的季胺盐是四丙基溴化铵、四丁基溴化铵或四辛基溴化铵；其中，使用四丙基溴化铵或四丁基溴化铵时得到亲水表面的大尺寸二氧化硅粒子，而使用四辛基溴化铵时得到亲油表面的大尺寸二氧化硅粒子。
3.根据权利要求1所述的一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法，其特征在于，在醇/水反应体系中，低碳链季胺盐的浓度为5～30mmol/L；氨水的浓度为1.5mol/L；正硅酸四乙酯的浓度为0.1mol/L。
4.根据权利要求1～3任一所述的一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法，其特征在于，所述的醇/水体系，是体积比为49:1的乙醇与水的混合溶剂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910056447.3A CN109607553B (zh) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | 一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910056447.3A CN109607553B (zh) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | 一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109607553A true CN109607553A (zh) | 2019-04-12 |
| CN109607553B CN109607553B (zh) | 2021-07-30 |
Family
ID=66017925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910056447.3A Expired - Fee Related CN109607553B (zh) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | 一种单分散大尺寸二氧化硅粒子的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109607553B (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010043730A1 (es) * | 2008-10-16 | 2010-04-22 | Universidad De Cádiz | Material compuesto de aerogel de sílice y polvo de larnita y su uso en el almacenamiento y fijación de gases |
| CN103803559A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-05-21 | 江西恒隆实业有限公司 | 低水份含量的白炭黑加工工艺 |
| CN105253890A (zh) * | 2015-12-01 | 2016-01-20 | 吉林大学 | 一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法 |
| CN108862291A (zh) * | 2018-09-10 | 2018-11-23 | 吉林大学 | 一种非球形二氧化硅粒子的制备方法 |
-
2019
- 2019-01-22 CN CN201910056447.3A patent/CN109607553B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010043730A1 (es) * | 2008-10-16 | 2010-04-22 | Universidad De Cádiz | Material compuesto de aerogel de sílice y polvo de larnita y su uso en el almacenamiento y fijación de gases |
| CN103803559A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-05-21 | 江西恒隆实业有限公司 | 低水份含量的白炭黑加工工艺 |
| CN105253890A (zh) * | 2015-12-01 | 2016-01-20 | 吉林大学 | 一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法 |
| CN108862291A (zh) * | 2018-09-10 | 2018-11-23 | 吉林大学 | 一种非球形二氧化硅粒子的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109607553B (zh) | 2021-07-30 |
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