CN109565056B - 催化剂担载量测定装置、涂敷系统以及催化剂担载量测定方法 - Google Patents

催化剂担载量测定装置、涂敷系统以及催化剂担载量测定方法 Download PDF

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Abstract

提供一种非破坏地且有效地测定金属催化剂的催化剂担载量的技术。电磁波振荡器52朝向基材90的表面输出在X轴方向上扇状地扩展的电磁波。多个检测元件540在X轴方向上排列,分别检测电磁波的电场强度。支撑辊240、242支撑在+Y方向上被搬运的基材90。编码器226检测基材90在Y轴方向上的移动距离。催化剂担载量确定部604的位置确定部6040基于各检测元件540、电磁波振荡器52、基材90之间的位置关系以及基材90的移动距离,确定入射至各检测元件540的电磁波透过的基材90上的各透过位置。催化剂担载量确定部604基于各检测元件540检测出的电磁波的电场强度,确定各透过位置的催化剂担载量。

Description

催化剂担载量测定装置、涂敷系统以及催化剂担载量测定 方法
技术领域
本发明涉及测定形成于基材的金属材料的催化剂层的催化剂担载量的技术。
背景技术
固体高分子型燃料电池(PEFC)是电解质由高分子构成的燃料电池。作为固体高分子电解质使用作为一例的离子交换树脂。PEFC隔着该固体高分子电解质配置负极以及正极这两电极,通过向负极侧供给作为燃料的氢气,另外向正极侧供给氧气或空气,从而发生电化学反应,由此产生电。
例如,在将氢气作为燃料的情况下,在负极发生下式的反应。
H2→2H++2e-
另外,在将氧气作为氧化剂的情况下,在正极发生下式的反应,从而生成水。
1/2O2+2H++2e-→H2O
为了最大限度地发挥该燃料电池的正极以及负极的反应,混合于正极以及负极的催化剂层很重要。
专利文献1涉及催化剂层的性能提高,在制作担载铂催化剂的碳膏时,根据浓度和膜厚实施与使用的铂量相关的调整。涂敷工序的结果所得的催化剂层的膜厚分布、铂纳米粒子的不均匀所导致的差异在作为最终制作物的燃料电池中被检验。
另外,专利文献2涉及电解质膜的性能提高,催化剂层由公知的方法制作,但涂敷工序的结果所得的催化剂层的膜厚分布、铂纳米粒子的不均匀所导致的差异在作为最终制作物的燃料电池中被检验。
另外,作为燃料电池的催化剂,在专利文献1中使用作为催化剂的铂以及铂合金,并使铂以及铂合金担载于炭黑等。
在专利文献3中,作为催化剂,使铂担载于铂胶体,使胶体粒子担载于炭黑等。
而且,在专利文献4中,使作为催化剂的使用了非铂金属的钯合金(钯钴合金)担载于炭黑等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2005-32668号公报
专利文献2:日本特开2008-288093号公报
专利文献3:国际公开第2012/090450号
专利文献4:日本特开2006-260909号公报
发明内容
发明要解决的问题
催化剂层中的催化剂担载量大大影响燃料电池的性能。因此,要求在金属催化剂无过多或不足的情况下,使催化剂担载。作为测量催化剂担载量的方法,已知具有如下方法:冲裁一部分,并测量其重量的冲裁重量测定方法。然而,该测定方法具有破坏制品的缺点。特别地,近年来,跟踪能力的重要性变高,要求零件的全品检查,但在上述的冲裁重量测定方法的情况下,由于伴随着零件的破坏,因此,难以适用于全品检查。另外,在冲裁重量测定方法的情况下,操作繁琐。
本发明的目的在于,提供一种非破坏地且有效地测定金属催化剂的催化剂担载量的技术。
解决问题的手段
为了解决上述的问题,第一技术方案提供一种催化剂担载量测定装置,用于测定涂敷于基材的金属催化剂的催化剂担载量,其中,包括:电磁波振荡器,朝向所述基材的表面输出在第一方向上扩展的电磁波;多个电磁波检测元件,在所述第一方向上排列,分别检测所述电磁波的电场强度;移动部,使所述基材相对于所述电磁波振荡器以及多个所述电磁波检测元件在与所述第一方向交叉的第二方向上移动;移动距离检测器,检测所述基材在所述第二方向上的相对移动距离;以及催化剂担载量确定部,基于各所述电磁波检测元件、所述电磁波振荡器、所述基材之间的位置关系以及所述相对移动距离,确定输入至各所述电磁波检测元件的电磁波透过的所述基材上的各透过位置,并且基于各所述电磁波检测元件检测的所述电磁波的电场强度,确定在所述透过位置的所述催化剂担载量。
另外,第二技术方案,在第一技术方案的催化剂担载量测定装置中,多个所述电磁波检测元件包括配置在检测端部透过电磁波的位置的电磁波检测元件,该端部透过电磁波透过所述基材上的未涂敷所述金属催化剂的宽度方向的端部的非涂敷区域,所述催化剂担载量确定部基于所述端部透过电磁波的电场强度和透过所述基材的各所述透过位置的电磁波的电场强度,确定各所述透过位置的所述催化剂担载量。
另外,第三技术方案,在第二技术方案的催化剂担载量测定装置中,多个所述电磁波检测元件包括检测通过所述基材的外侧的基材外通过电磁波的电磁波检测元件,所述催化剂担载量确定部基于所述基材外通过电磁波的电场强度,确定所述催化剂担载量。
另外,第四技术方案,在第一技术方案至第三技术方案中任一项所述的催化剂担载量测定装置中,在所述基材上,在所述第二方向上以恒定的间隔形成有未涂敷所述金属催化剂的非涂敷区域,所述催化剂担载量确定部基于由多个所述电磁波检测元件以规定的时间间隔检测出的透过所述非涂敷区域的电磁波的电场强度,确定所述透过位置的所述催化剂担载量。
另外,第五技术方案,在第一技术方案至第四技术方案中任一项所述的催化剂担载量测定装置中,多个所述电磁波检测元件以特定的间隔排列,该特定的间隔为能够检测在所述第一方向上以0.1mm~10mm的间隔透过所述基材的各所述电磁波的间隔。
另外,第六技术方案,在第一技术方案至第五技术方案中任一项所述的催化剂担载量测定装置中,所述催化剂担载量测定装置还具有通知部,在存在由所述催化剂担载量确定部确定的所述催化剂担载量超过预定的上限值的所述透过位置或未超过下限值的所述透过位置的情况下,所述通知部向外部通知。
另外,第七技术方案,在第一技术方案至第六技术方案中任一项所述的催化剂担载量测定装置中,所述电磁波振荡器输出的电磁波包括0.03~10THz的太赫兹波。
另外,第八技术方案,在第一技术方案至第七技术方案中任一项所述的催化剂担载量测定装置中,所述移动部包括:供给用辊,卷绕有所述基材,卷取辊,卷绕从所述供给用辊引出的所述基材,辊驱动部,使所述卷取辊旋转,以及一对支撑辊,在所述引出辊以及所述卷取辊之间在所述第二方向上隔开间隔地排列,多个所述电磁波检测元件配置在所述一对支撑辊之间。
另外,第九技术方案提供一种涂敷系统,用于制造涂敷有金属催化剂的基材,其中,包括:第八技术方案的催化剂担载量测定装置,涂敷部,在比所述一对支撑辊更靠上游侧的位置向所述基材涂敷所述金属催化剂。
另外,第十技术方案提供一种催化剂担载量测定方法,用于测定涂敷于基材的金属催化剂的催化剂担载量,其中,包括:从电磁波振荡器朝向所述基材的表面输出在第一方向上扩展的电磁波的工序;通过在所述第一方向上排列的多个电磁波检测元件检测所述电磁波的电场强度的工序;使所述基材相对于所述电磁波振荡器以及多个所述电磁波检测元件在与所述第一方向交叉的第二方向上移动的工序;检测所述基材在所述第二方向上的相对移动距离的工序;基于各所述电磁波检测元件、所述电磁波振荡器、所述基材之间的位置关系以及所述相对移动距离,确定输入至各所述电磁波检测元件的电磁波透过的所述基材上的各透过位置,并且基于各所述电磁波检测元件检测出的所述电磁波的电场强度,确定在各所述透过位置的所述催化剂担载量的工序。
发明效果
根据第一技术方案的催化剂担载量测定装置,就在第二方向上相对移动的基材而言,通过在基材上的第一方向的多个位置进行电磁波照射以及电磁波检测,能够同时地确定催化剂担载量。另外,通过利用移动部使基材相对地移动,能够有效地且非破坏地执行大范围的催化剂担载量的测定。
根据第二技术方案的催化剂担载量测定装置,通过检测透过非涂敷区域的电磁波的电场强度,能够基于透过催化剂层的电磁波的电场强度有效地去除因透过了基材自身而产生的误差成分。
根据第三技术方案的催化剂担载量测定装置,通过检测基材外通过电磁波的电场强度,能够获得基材以及形成于基材的催化剂层以外的环境变化的信息。因此,能够基于透过催化剂层的电磁波的电场强度有效地去除因环境原因所产生的误差成分。
根据第四技术方案的催化剂担载量测定装置,通过各电磁波检测元件能够获取透过间歇性地形成的非涂敷区域的电磁波的电场强度。由此,能够良好地确定涂敷区域的金属担载量。
根据第五技术方案的催化剂担载量测定装置,能够利用0.1mm~10mm的分辨率测定催化剂担载量。
根据第六技术方案的催化剂担载量测定装置,能够容易地识别催化剂担载量没有包含于下限值至上限值之间的部分存在的情况。
根据第七技术方案的催化剂担载量测定装置,通过检测与金属催化剂的催化剂担载量相应地衰减的太赫兹波的电场强度,能够良好地确定金属催化剂的催化剂担载量。
根据第八技术方案的催化剂担载量测定装置,就以辊到辊的方式被搬运的基材而言,能够高效地测定催化剂担载量。
根据第九技术方案的涂敷系统,能够一边对基材涂敷金属催化剂,一边高效地测定该涂敷的金属催化剂的催化剂担载量。
附图说明
图1是表示实施方式的涂敷系统10的结构的概略侧视图。
图2是表示实施方式的催化剂担载量测定部50的概略立体图。
图3是表示实施方式的催化剂担载量测定部50的概略主视图。
图4是表示实施方式的涂敷系统10的总线布线的图。
图5是表示催化剂担载量测定的流程的流程图。
具体实施方式
下面,一边参照附图一边说明本发明的实施方式。此外,本实施方式所记载的结构构件不过是例示,并不是将本发明的范围限定为该实施方式。在附图中,为了容易理解,存在根据需要夸张或简化各部的尺寸、数量而图示的情况。
<1.实施方式>
<涂敷系统10的结构>
图1是表示实施方式的涂敷系统10的结构的概略侧视图。图2是表示实施方式的催化剂担载量测定部50的概略立体图。图3是表示实施方式的催化剂担载量测定部50的概略主视图。图4是表示实施方式的涂敷系统10的总线布线的图。为了容易理解涂敷系统10的各结构构件的位置关系等,在图1~图3中带有XYZ直角坐标系。但是,该直角坐标系并不是限定各结构构件的位置关系等。
涂敷系统10是例如用于制造固体高分子型燃料电池(PEFC)的装置,具体而言,是向片状的电解质膜即基材90的表面涂敷铂等金属催化剂来制造带催化剂层电解质膜(CCM)的装置。
此外,涂敷系统也可以构成为:制造在CCM的催化剂层形成有气体扩散层(GDL)的膜电极接合体(MEA)。催化剂担载量测定部50适用于计测形成于CCM的催化剂层的催化剂担载量,但也可以适用于计测MEA的催化剂层的催化剂担载量。
涂敷系统10具有搬运基材90的搬运部20、涂敷部30、干燥部40、催化剂担载量测定部50以及控制部60。如后所述,搬运部20的供给用辊220、卷取用辊222、编码器226、支撑辊240、242、辊驱动部28、催化剂担载量测定部50、控制部60构成催化剂担载量测定装置。
<搬运部20>
搬运部20具有供给用辊220、卷取用辊222以及一对支撑辊240、242、搬运用辊260、262、264。另外,搬运部20具有使卷取用辊222旋转的辊驱动部28。这些辊分别在X轴方向上延伸且形成为圆筒状。
供给用辊220以及卷取用辊222形成为卷绕片状的基材90并能够对其进行保持。供给用辊220将未涂敷金属催化剂的基材90保持为卷绕状态。从供给用辊220引出的基材90被卷绕在卷取用辊222,该卷取用辊222通过辊驱动部28能动地旋转。搬运用辊260、262、264以及一对支撑辊240、242配置为:支撑被搭挂于供给用辊220以及卷取用辊222的基材90的中间部分。
在卷取用辊222上设置有编码器226。编码器226通过检测卷取用辊222的旋转量来检测出基材90的移动距离。即,编码器226是检测基材90在Y轴方向(第二方向)上相对于电磁波振荡器52以及电磁波检测器54的移动距离的移动距离检测器。被供给用辊220以及卷取用辊222搬运的基材90的搬运速度能够任意地设定,但设定为例如25mm/sec以下即可。
搬运用辊260、262、264配置于供给用辊220至涂敷部30之间,搬运用辊260、262、264一般对基材90一边施加适当的拉伸一边进行搬运。特别地,搬运用辊264配置在接触并支撑与基材90的利用涂敷部30涂敷金属催化剂的面相反的一侧的面的位置。
一对支撑辊240、242相比干燥部40更靠下游侧配置,分别设置在支撑基材90并且拉伸基材90而从基材90去除褶皱的位置。在一对支撑辊240、242之间的中间位置设置有催化剂担载量测定部50,对通过该中间位置的基材90照射来自电磁波振荡器52的电磁波。
如图1以及图2所示,基材90的搬运方向在支撑辊242从+Y方向向+Z侧弯折。由此,通过催化剂担载量测定部50的基材90的部分被适度地拉伸。因此,能够将从电磁波振荡器52输出的电磁波照射在抑制了褶皱的产生的基材90的部分,因此,能够高精度地确定催化剂担载量。此外,在支撑辊240也可以以基材90的搬运方向变化的方式配置支撑辊240。由此,在通过催化剂担载量测定部50的基材90的部分,能够进一步抑制褶皱的产生。
另外,支撑辊240、242的直径并不特别地限定,但为了抑制褶皱的产生,设定为1mm以下即可。另外,支撑辊240、242之间的距离并不特别地限定,但为了抑制褶皱的产生,设定为10mm以下即可。
<涂敷部30>
涂敷部30具有狭缝喷嘴32以及涂敷液供给部34。在狭缝喷嘴32的下端部形成有喷出口,该喷出口沿基材90的宽度方向(X轴方向)延伸且形成为狭缝状。涂敷液供给部34具有贮存金属催化剂的涂敷液的罐340、使涂敷液从该罐340供给至狭缝喷嘴32的泵342、执行来自喷出口的涂敷液的喷出的开始以及停止的电磁泵344。该电磁泵344的动作被控制部60控制。
狭缝喷嘴32的形成有喷出口的下端部配置在与搬运用辊264接近的位置。通过从狭缝喷嘴32的喷出口喷出涂敷液,向被搬运用辊264支撑的基材90涂敷涂敷液。
在本例中,狭缝喷嘴32的喷出口比基材90的宽度方向的长度短。因此,向基材90中的距宽度方向的两端隔开规定的距离的内侧的区域涂敷涂敷液。其结果,如图3所示,在除去基材90的两端部后的内侧的部分形成有涂敷金属催化剂的涂敷区域900。并且,在基材90的两端部形成有不涂敷金属催化剂的端部非涂敷区域902。
另外,在本例中,从狭缝喷嘴32间歇性地喷出涂敷液。详细地说,每当通过编码器226检测到基材90移动了既定的距离,就交替地进行涂敷液喷出的开始以及停止。由此,如图3所示,间歇性地形成涂敷区域900。即,在Y轴方向上相邻的涂敷区域900、900之间形成有不涂敷金属催化剂的中间非涂敷区域904。中间非涂敷区域904是在X轴方向上延伸的区域。
<干燥部40>
干燥部40具有框体,该框体在两端形成有基材90进入的进入口以及基材90退出的退出口。干燥部40在其框体的内部进行涂敷于基材90的单面的涂敷液的膜的干燥处理。作为一例,干燥部40通过向基材90供给热风来加热该基材90,由此,使包含于涂敷液的水分等溶剂蒸发。
<催化剂担载量测定部50>
催化剂担载量测定部50设置于干燥部40的下游侧,用于测定形成于基材90的催化剂层中的金属催化剂的担载量(催化剂担载量)。催化剂担载量测定部50具有电磁波振荡器52和电磁波检测器54。
电磁波振荡器52输出朝向-Z方向在X轴方向(第一方向)上扩展的扇状的电磁波。该电磁波为例如0.03至10THz的太赫兹波。从电磁波振荡器52输出的扇状的电磁波由圆柱形透镜520会聚,向位于一对支撑辊240、242之间的中间位置的基材90的部分照射。从电磁波振荡器52输出的电磁波在此为连续波,但也可以是脉冲波。
电磁波检测器54在X轴方向(第一方向)排列,各电磁波检测器54分别具有用于检测从电磁波振荡器52输出的电磁波的强度的多个检测元件540。
各检测元件540分别具有形成为四边形状的光导开关(光导天线),将入射至天线部的电磁波(太赫兹波)的强度转换为电信号。各检测元件540输出的电信号被控制部60所获取。此外,检测元件540也可以是包括例如非线性光学结晶、肖特基势垒二极管或等离子体检测器的元件。
如图3所示,多个检测元件540包括一对检测元件540a、540a、一对检测元件540b、540b以及多个检测元件540c。
一对检测元件540a、540a配置在X轴方向的两端。从Z轴方向观察,一对检测元件540a、540a配置在比基材90更靠X轴方向外侧的位置。一对检测元件540a、540a配置在检测通过比基材90更靠X轴方向外侧的电磁波(基材外通过电磁波)的位置。
一对检测元件540b、540b分别配置在与一对检测元件540a、540a的内侧相邻的位置。一对检测元件540b、540b配置在检测分别透过基材90的宽度方向两侧的端部非涂敷区域902、902的电磁波(端部透过电磁波)的位置。
多个检测元件540c在检测元件540b、540b之间排列配置。各检测元件540c用于检测透过涂敷区域900的各部分的电磁波(涂敷区域透过电磁波)。多个检测元件540c以能够检测例如在X轴方向上分别以0.1mm~10mm的间隔透过基材90的电磁波的间隔排列配置即可。由此,在X轴方向上,能够以0.1mm~10mm的分辨率来测定催化剂担载量。该分辨率是与现有的冲裁重量测定法(对形成有催化剂层的基材90的部分进行冲裁,并测量其重量,来确定催化剂担载量的测定方法)相同程度的分辨率。
<控制部60>
控制部60控制涂敷系统10整体的动作。控制部60的作为硬件的结构与一般的计算机相同。即,控制部60具有进行各种运算处理的CPU、存储基本程序的读取专用的存储器即ROM、存储各种信息的自由读写的存储器即RAM。控制部60与存储控制用应用或各种数据的存储部62连接。
图4所示的白噪声获取部602、参考获取部603、催化剂担载量确定部604、以及通知部606是通过控制部60的CPU根据应用进行动作而软件地实现的功能模块。此外,这些功能模块也可以由专用电路等硬件结构构成。
白噪声获取部602获取在从电磁波振荡器52输出的太赫兹波不入射的状态下分别从各检测元件540输出的电信号的白噪声信号(固定噪声)。白噪声获取部602将获取的白噪声信号作为用于修正从各检测元件540输出的信号的白噪声值620,存储于存储部62。
参考获取部603在基材90不存在的状态下,获取由各检测元件540测定从电磁波振荡器52输出的电磁波所得的电场强度。参考获取部603将获取的电场强度作为用于修正从各检测元件540输出的信号的参考值621,存储于存储部62。
此外,也可以设置使电磁波振荡器52以及电磁波检测器54在X轴方向上移动的X轴方向移动部。在该情况下,即使在基材90被支撑辊240、242支撑的状态下,也能通过使电磁波振荡器52以及电磁波检测器54在X轴方向错开,够获取参考值621。
催化剂担载量确定部604确定涂敷于基材90的金属催化剂的催化剂担载量。催化剂担载量确定部604具有位置确定部6040、修正部6041以及透过率获取部6042。
位置确定部6040确定分别入射至多个检测元件540中的各检测元件540的电磁波在基材90上透过的位置(透过位置)。如图3所示,位置确定部6040确定分别入射至各检测元件540c的电磁波在基材90上透过的各个透过位置。各个透过位置基于电磁波振荡器52、基材90、各检测元件540的位置关系(电磁波振荡器52、基材90以及各检测元件540的在XYZ直角坐标系中的坐标位置)、以及根据编码器226的输出而确定的基材90的移动距离来确定。
例如,如图3所示,电磁波振荡器52以及电磁波检测器54的中心一致。着眼于处于距中心L(j)的位置的指定的检测元件540。将入射至该检测元件540的电磁波在基材90上透过的透过位置设为LP1,将从中心至LP1的距离设为L(i)。另外,将从电磁波振荡器52至基材90的距离设为Db,将从基材90至检测元件540的距离设为Dd。于是,距离L(i)能够通过L(j)×Db÷(Db+Dd)(式1)来求出。由此,确定入射至电磁波检测器54的各检测元件540的电磁波在基材90上透过的宽度方向(X轴方向)的位置。
另外,位置确定部6040基于编码器226的输出,确定入射至各检测元件540的电磁波在基材90上透过的长度方向(Y轴方向)的位置。具体而言,位置确定部6040基于编码器226的输出,来确定在利用指定的检测元件540检测出电磁波的时刻的、基材90的移动距离(相对于电磁波检测器54的移动距离)。由此,确定该电磁波在基材90上透过的长度方向的位置。
如上所述,通过位置确定部6040确定基材90上的各电磁波透过的宽度方向的位置以及长度方向的位置,来确定各电磁波的基材90上的透过位置。
修正部6041通过执行规定的修正处理,从检测元件540检测出的电磁波强度去除因外部的原因所产生的误差成分。
例如,修正部6041也可以基于一对检测元件540a检测出的基材外通过电磁波的强度,修正各检测元件540c检测的涂敷区域透过电磁波的强度。基材外通过电磁波包括基材90或形成于基材90上的催化剂层以外的环境变化(湿度变化、温度变化等)的信息。通过基于基材外通过电磁波的强度变化来修正涂敷区域透过电磁波的电场强度,能够去除因环境原因所产生的误差成分。特别地,由于太赫兹波具有容易被水分吸收的性质,因此,去除环境原因的误差成分对于准确地确定催化剂担载量而言,是非常有效的。
在基于基材外通过电磁波的电场强度修正涂敷区域透过电磁波的情况下,例如,利用检测元件540a在某一时刻检测出的基材外通过电磁波的电场强度可以使检测元件540c在同一时刻检测出的涂敷区域透过电磁波的电场强度标准化。或者,在基材外通过电磁波的电场强度相比规定的基准值超过规定的阈值增加或减少的情况下,可以在涂敷区域透过电磁波的电场强度的基础上适当地减去或加上与该增减值相对应的值。
另外,修正部6041也可以基于一对检测元件540b检测出的端部透过电磁波,修正各检测元件540c检测出的涂敷区域透过电磁波的电场强度。端部透过电磁波是透过未形成催化剂层的基材90的部分的电磁波。因此,通过基于该端部透过电磁波的强度来修正涂敷区域透过电磁波,能够修正因透过基材90自身所产生的误差成分。
在基于端部透过电磁波的电场强度进行修正的情况下,例如,在端部透过电磁波的电场强度相比规定的基准值超过规定的阈值增加或减少的情况下,可以在涂敷区域透过电磁波的电场强度的基础上适当地减去或加上与该增减值相对应的值。
另外,修正部6041也可以基于透过中间非涂敷区域904的非涂敷区域透过电磁波的强度,修正各检测元件540c检测出的涂敷区域透过电磁波的电场强度。非涂敷区域透过电磁波也与端部透过电磁波同样,是透过基材90中的未形成有催化剂层的部分的电磁波。通过基于该非涂敷区域透过电磁波的强度来修正涂敷区域透过电磁波,能够修正因基材90的透过所产生的误差成分。
端部涂敷区域透过电磁波不由检测涂敷区域透过电磁波的检测元件540c来检测,而由一对检测元件540b来检测。就一对检测元件540b和多个检测元件540c而言,由于位置不同,因此,电磁波的受光能量不同,此外,也可能会在检测灵敏度上存在个体差异。相对于此,非涂敷区域透过电磁波能够被检测涂敷区域透过电磁波的各检测元件540c自身检测。因此,各个检测元件540c能够基于各自检测出的非涂敷区域透过电磁波的电场强度进行修正处理。因此,能够合适地修正包含于涂敷区域透过电磁波的电场强度的误差成分,而与受光能量的不同或检测灵敏度的个体差异无关。
如图2所示,在中间非涂敷区域904以规定的间隔间歇性地形成的情况下,非涂敷区域透过电磁波的电场强度也与该间隔相匹配地被检测。因此,在进行上述的修正处理的情况下,也可以基于之前检测出的透过最近的中间非涂敷区域904的非涂敷区域透过电磁波的电场强度,来修正各透过区域透过电磁波。由此,能够利用透过近位置的中间非涂敷区域904的电磁波的电场强度进行修正,因此,能够合适地去除误差成分。
透过率获取部6042获取涂敷区域透过电磁波的透过率。具体而言,透过率获取部6042使各检测元件540c检测出的涂敷区域透过电磁波的电场强度或其修正值减去白噪声值620所得的值,除以与各检测元件540c对应的参考值621。由此,透过率获取部6042获取由各检测元件540c检测出的涂敷区域透过电磁波的透过率。
催化剂担载量确定部604基于透过率获取部6042获取的透过率和存储于存储部62的相关信息622,确定催化剂担载量。相关信息622是表示透过催化剂层的电磁波的透过率和催化剂担载量的相关的信息。电磁波特别是太赫兹波在照射于金属催化剂时,根据金属催化剂的密度其一部分对应地被吸收或反射,因此,在电磁波的透过率与催化剂担载量之间具有高度相关。因此,基于电磁波的透过率和相关信息622,能够精密地计算出涂敷区域900的各透过位置的催化剂担载量。
可以预先使用形成有已知催化剂担载量的催化剂层的试料(基准试料),通过催化剂担载量测定部50测定透过的电磁波的透过率来获取相关信息622。此时,可以通过使用催化剂担载量不同的几个基准试料,来获取相关信息622。相关信息622可以作为将透过率和催化剂担载量一对一地对应处理的表数据,也可以作为示出了表示透过率和催化剂担载量之间的关系的一次式或多项式的关系式的校准线数据。
催化剂担载量确定部604将确定的催化剂担载量与位置确定部6040确定的基材90上的透过位置对应处理,并作为催化剂担载量数据624保存于存储部62。
此外,催化剂担载量确定部604的测定频率(由各检测元件540获取电磁波强度的每单位时间的次数)并不特别地限定,但可设为1Hz以上。例如,在各检测元件540每隔0.5秒获取一次检测出的电磁波强度的情况下,若基材90的搬运速度为10mm/sec,则能够每隔5mm获取电磁波强度。通过以0.1mm~10mm的测定间隔获取电磁波强度,在Y轴方向上,能够以0.1mm~10mm的分辨率测定催化剂担载量。该分辨率是与现有的冲裁重量测定法相同程度的分辨率。
通知部606基于催化剂担载量数据624,向外部输出与基材90上的催化剂担载量相关的数据。例如,通知部606将基于催化剂担载量数据624表示基材90上的催化剂担载量的分布的催化剂担载量分布图像显示在显示部64。催化剂担载量分布图像也可以是以颜色或图案等表示各透过位置的催化剂担载量的大小的二维图像或以三维图表现各透过位置的催化剂担载量的大小的三维图像。
另外,在存在催化剂担载量超过既定的上限值的透过位置、以及催化剂担载量未超过既定的下限值的透过位置的情况下,通知部606向外部通知。上限值以及下限值是表示催化剂担载量的正常的范围的值。上限值以及下限值可以为,操作者能够经由由输入设备构成的操作输入部66向控制部60输入。上限值以及下限值分别作为上限值数据626以及下限值数据628存储于存储部62。
通过通知部606向外部通知存在催化剂担载量超过上限值的透过位置或未超过下限值的透过位置,操作者等能够容易地识别催化剂担载量处于正常值的范围外。此时,通过在催化剂担载量分布图像上以规定的方法来表示该透过位置,操作者能够容易地确定该位置。此外,通知部606也可以通过例如灯的点亮等向外部通知催化剂担载量的异常的有无。
<催化剂担载量测定的流程>
接着,说明催化剂担载量测定的流程。图5是表示催化剂担载量测定的流程的流程图。除非另有说明,否则图5所示的步骤S10~S17通过控制部60控制涂敷系统10的各构件的动作来进行。
首先,进行白噪声值620以及参考值621的获取(步骤S10)。在基材90未被支撑于一对支撑辊240、242上的状态,即,在电磁波振荡器52与多个检测元件540之间不存在基材90的状态下进行该步骤S10。
此外,也可以在基材90被支撑于一对支撑辊240、242的状态下进行白噪声值的获取。另外,如上所述,在具有使催化剂担载量测定部50在X轴方向上偏移的X轴方向移动部的情况下,也可以在基材90被支撑于一对支撑辊240、242的状态下进行参考值的获取。
在接下来的步骤S11,开始基材90的涂敷处理(步骤S11)。即,如图1所示,通过操作者将从供给用辊220引出的基材90的端部安装于卷取用辊222。并且,从供给用辊220至卷取用辊222为止的基材90的部分被搭挂在包括一对支撑辊240、242的各辊。在该状态下,通过辊驱动部28使卷取用辊222旋转,来进行基材90的辊到辊的搬运。
另外,若开始基材的搬运,则从涂敷部30的狭缝喷嘴32向基材90的表面涂敷包含铂等金属催化剂的涂敷液。涂敷有金属催化剂的部分在干燥部40接受干燥处理,从而形成催化剂层。此外,如图2所示,由于间歇性地形成催化剂层,因此,在基材90上沿长度方向交替地形成与催化剂层对应的涂敷区域900、以及中间非涂敷区域904。
在接下来的步骤S12中,进行电磁波测量。如上所述,从电磁波振荡器52向基材90扇状地输出电磁波,电磁波检测器54的多个检测元件540检测透过该基材90的电磁波。透过涂敷区域900的涂敷区域透过电磁波被多个检测元件540c检测。另外,透过端部非涂敷区域902的端部透过电磁波被一对检测元件540b检测。而且,通过基材90的外侧的基材外通过电磁波被一对检测元件540a检测。电磁波检测器54将各检测元件540检测出的电磁波强度转换为电信号,并将该电信号向控制部60输出。
在接下来的步骤S13中,进行催化剂担载量的确定。具体而言,如上所述,催化剂担载量确定部604的位置确定部6040确定入射至各检测元件540的电磁波在基材90上透过的透过位置。另外,修正部6041利用检测元件540a、540b检测出的基材外通过电磁波的电场强度以及端部透过电磁波的电场强度,来合适地修正检测元件540c检测出的涂敷区域透过电磁波的电场强度。另外,在各检测元件540c检测透过中间非涂敷区域904的非涂敷区域透过电磁波的电场强度的情况下,修正部6041利用该非涂敷区域透过电磁波的电场强度进行修正。而且,透过率获取部6042基于由修正部6041获取的修正后的电场强度获取透过率。基于该透过率和相关信息622,来获取各透过位置的催化剂担载量。
在接下来的步骤S14中,进行催化剂担载量的值是否发生异常的判定。具体而言,通知部606基于由催化剂担载量确定部604确定的催化剂担载量是否在既定的上限值以下或是否在既定的下限值以上,来进行步骤S14的判定。
在步骤S14中判定为存在异常的情况下(YES(是)的情况),在接下来的步骤S15中,通知部606向外部通知异常。具体而言,进行灯的点亮或在显示部64中显示表示异常部位的图像等。
在步骤S14中判定为不存在异常的情况下(NO(否)的情况),或者在步骤S15完成之后,在接下来的步骤S16中,判定测定是否结束。就步骤S16的判定而言,例如,基于由编码器226检测出的基材90的移动量是否超过了规定值来进行判定。
在步骤S16中判定为测定结束的情况下(YES(是)的情况),在接下来的步骤S17中,向外部通知催化剂担载量的测定结果。具体而言,将表现为二维图像或三维图像的催化剂担载量分布图像显示于显示部64。另外,通过使由辊驱动部28进行的卷取用辊222的旋转停止,停止基材90的搬运。
在步骤S16中判定测定未结束的情况(NO(否)的情况)下,再次进行步骤S12的电磁波测量处理、步骤S13的催化剂担载量的确定处理、步骤S14、S15的异常通知处理。
此外,在上述说明中,每当通过步骤S12的电磁波测量来获取电磁波强度,就进行步骤S13的催化剂担载量的确定。然而,也可以在先对基材90的规定的距离的部分进行电磁波测量后,进行该部分的催化剂担载量的确定处理。
另外,步骤S14、S15的异常通知处理也可以与步骤S17的催化剂担载量的测定结果的通知一起进行。
另外,也可以在与步骤S15的异常通知处理的同时,能够停止基材90的搬运。
如上所述,就催化剂担载量测定部50而言,通过在X轴方向的多个位置进行电磁波照射以及电磁波检测,能够同时地确定催化剂担载量。另外,通过搬运部20使基材90相对于电磁波振荡器52以及电磁波检测器54移动,由此,能够有效地且非破坏地执行大范围的催化剂担载量的测定。
<2.变形例>
以上,对实施方式进行了说明,但本发明并不限于上述那样的实施方式,能够进行各种变形。
例如,在上述的实施方式中,编码器226也可以与卷取用辊222以外的辊连接,来检测该连接的辊的旋转量。另外,移动距离检测器并不限定于编码器226。移动距离检测器也可以直接检测基材90的移动量。在该情况下,例如,也可以是接触式或非接触式的传感器中的任一种。作为非接触式的传感器可以采用例如光学传感器(图像传感器)。通过利用光学传感器识别涂敷区域900和中间非涂敷区域904,能够测量基材90的移动量。
另外,各检测元件540并非必须在X轴方向上排成一列。也可以使多个检测元件540在Y轴方向错开的同时在X轴方向排列。例如,通过检测元件540彼此以在Y轴方向上部分地重叠的方式排列,能够排列更多的检测元件540,因此,能够提高X轴方向的分辨率。另外,在装载于电磁波检测器54的检测元件540的数量少的情况下,也可以使多台电磁波检测器54在X轴方向上排列。此时,也可以使多个电磁波检测器54在Y轴方向错开的同时在X轴方向排列。
虽然详细地说明了本发明,但上述的说明在所有方面均为例示,本发明并不限定于此。应当理解为,在不脱离本发明的范围的情况下,能够想到未例示的无数的变形例。在上述的各实施方式以及各变形例中说明的各结构只要不相互矛盾,能够合适地组合或省略。
附图标记的说明:
10 涂敷系统
20 搬运部
220 供给用辊
222 卷取用辊
226 编码器(移动距离检测器)
240、242 支撑辊
28 辊驱动部
30 涂敷部
40 干燥部
50 催化剂担载量测定部
52 电磁波振荡器
54 电磁波检测器
540、540a、540b、540c 检测元件(电磁波检测元件)
60 控制部
602 白噪声获取部
603 参考获取部
604 催化剂担载量确定部
6040 位置确定部
6041 修正部
6042 透过率获取部
606 通知部
62 存储部
620 白噪声值
621 参考值
622 相关信息
624 催化剂担载量数据
626 上限值数据
628 下限值数据
64 显示部
66 操作输入部
90 基材
900 涂敷区域
902 端部非涂敷区域
904 中间非涂敷区域

Claims (10)

1.一种催化剂担载量测定装置,用于测定涂敷于基材的金属催化剂的催化剂担载量,其中,
包括:
电磁波振荡器,朝向所述基材的表面输出在第一方向上扩展的电磁波,
多个电磁波检测元件,在所述第一方向上排列,分别检测所述电磁波的电场强度,
移动部,使所述基材相对于所述电磁波振荡器以及多个所述电磁波检测元件在与所述第一方向交叉的第二方向上移动,
移动距离检测器,检测所述基材在所述第二方向上的相对移动距离,以及
催化剂担载量确定部,基于各所述电磁波检测元件、所述电磁波振荡器、所述基材之间的位置关系以及所述相对移动距离,确定输入至各所述电磁波检测元件的电磁波在所述基材上透过的各透过位置,并且基于各所述电磁波检测元件检测的所述电磁波的电场强度,确定在所述透过位置的所述催化剂担载量,
多个所述电磁波检测元件包括配置在检测端部透过电磁波的位置的电磁波检测元件,该端部透过电磁波透过所述基材上的未涂敷所述金属催化剂的宽度方向的端部的非涂敷区域,
所述催化剂担载量确定部基于所述端部透过电磁波的电场强度和透过所述基材的各所述透过位置的电磁波的电场强度,确定各所述透过位置的所述催化剂担载量。
2.如权利要求1所述的催化剂担载量测定装置,其中,
多个所述电磁波检测元件包括检测通过所述基材的外侧的基材外通过电磁波的电磁波检测元件,
所述催化剂担载量确定部基于所述基材外通过电磁波的电场强度,确定所述催化剂担载量。
3.一种催化剂担载量测定装置,用于测定涂敷于基材的金属催化剂的催化剂担载量,其中,
包括:
电磁波振荡器,朝向所述基材的表面输出在第一方向上扩展的电磁波,
多个电磁波检测元件,在所述第一方向上排列,分别检测所述电磁波的电场强度,
移动部,使所述基材相对于所述电磁波振荡器以及多个所述电磁波检测元件在与所述第一方向交叉的第二方向上移动,
移动距离检测器,检测所述基材在所述第二方向上的相对移动距离,以及
催化剂担载量确定部,基于各所述电磁波检测元件、所述电磁波振荡器、所述基材之间的位置关系以及所述相对移动距离,确定输入至各所述电磁波检测元件的电磁波在所述基材上透过的各透过位置,并且基于各所述电磁波检测元件检测的所述电磁波的电场强度,确定在所述透过位置的所述催化剂担载量,其中,
在所述基材上,在所述第二方向上以恒定的间隔形成有未涂敷所述金属催化剂的非涂敷区域,
所述催化剂担载量确定部基于由多个所述电磁波检测元件以规定的时间间隔检测出的透过所述非涂敷区域的电磁波的电场强度,确定所述透过位置的所述催化剂担载量。
4.如权利要求1~3中任一项所述的催化剂担载量测定装置,其中,
多个所述电磁波检测元件以特定的间隔排列,该特定的间隔为能够检测在所述第一方向上以0.1mm~10mm的间隔透过所述基材的各所述电磁波的间隔。
5.如权利要求1~3中任一项所述的催化剂担载量测定装置,其中,
所述催化剂担载量测定装置还具有通知部,在存在由所述催化剂担载量确定部确定的所述催化剂担载量超过预定的上限值的所述透过位置或未超过下限值的所述透过位置的情况下,所述通知部向外部通知。
6.如权利要求1~3中任一项所述的催化剂担载量测定装置,其中,
所述电磁波振荡器输出的电磁波包括0.03~10THz的太赫兹波。
7.如权利要求1~3中任一项所述的催化剂担载量测定装置,其中,
所述移动部包括:
供给用辊,卷绕有所述基材,
卷取辊,卷绕从所述供给用辊引出的所述基材,
辊驱动部,使所述卷取辊旋转,以及
一对支撑辊,在所述供给用辊以及所述卷取辊之间在所述第二方向上隔开间隔地排列,
多个所述电磁波检测元件配置在所述一对支撑辊之间。
8.一种涂敷系统,用于制造涂敷有金属催化剂的基材,其中,
包括:
权利要求7所述的催化剂担载量测定装置,
涂敷部,在比所述一对支撑辊更靠上游侧的位置向所述基材涂敷所述金属催化剂。
9.一种催化剂担载量测定方法,用于测定涂敷于基材的金属催化剂的催化剂担载量,其中,
包括:
从电磁波振荡器朝向所述基材的表面输出在第一方向上扩展的电磁波的工序,
通过在所述第一方向上排列的多个电磁波检测元件检测所述电磁波的电场强度的工序,
使所述基材相对于所述电磁波振荡器以及多个所述电磁波检测元件在与所述第一方向交叉的第二方向上移动的工序,
检测所述基材在所述第二方向上的相对移动距离的工序,
基于各所述电磁波检测元件、所述电磁波振荡器、所述基材之间的位置关系以及所述相对移动距离,确定输入至各所述电磁波检测元件的电磁波在所述基材上透过的各透过位置,并且基于各所述电磁波检测元件检测出的所述电磁波的电场强度,确定在各所述透过位置的所述催化剂担载量的工序,
多个所述电磁波检测元件包括配置在检测端部透过电磁波的位置的电磁波检测元件,该端部透过电磁波透过所述基材上的未涂敷所述金属催化剂的宽度方向的端部的非涂敷区域,
确定所述催化剂担载量的工序包括:基于所述端部透过电磁波的电场强度和透过所述基材的各所述透过位置的电磁波的电场强度,确定各所述透过位置的所述催化剂担载量的工序。
10.一种催化剂担载量测定方法,用于测定涂敷于基材的金属催化剂的催化剂担载量,其中,
包括:
从电磁波振荡器朝向所述基材的表面输出在第一方向上扩展的电磁波的工序,
通过在所述第一方向上排列的多个电磁波检测元件检测所述电磁波的电场强度的工序,
使所述基材相对于所述电磁波振荡器以及多个所述电磁波检测元件在与所述第一方向交叉的第二方向上移动的工序,
检测所述基材在所述第二方向上的相对移动距离的工序,
基于各所述电磁波检测元件、所述电磁波振荡器、所述基材之间的位置关系以及所述相对移动距离,确定输入至各所述电磁波检测元件的电磁波在所述基材上透过的各透过位置,并且基于各所述电磁波检测元件检测出的所述电磁波的电场强度,确定在各所述透过位置的所述催化剂担载量的工序,
在所述基材上,在所述第二方向上以恒定的间隔形成有未涂敷所述金属催化剂的非涂敷区域,
确定所述催化剂担载量的工序包括:基于由多个所述电磁波检测元件以规定的时间间隔检测出的透过所述非涂敷区域的电磁波的电场强度,确定所述透过位置的所述催化剂担载量的工序。
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