CN109551861A - 一种纳米晶覆膜设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种纳米晶覆膜设备，涉及覆膜装置技术领域；包括固定机架以及安装在固定机架上的微粘膜放料机构、纳米晶放料机构、成品膜放料机构、压料机构、CCD检测机构、覆膜收料机构、微粘膜收料机构；微粘膜放料机构与成品膜放料机构并排着固定在固定机架上，纳米晶放料机构位于微粘膜放料机构和成品膜放料机构的下方位置，压料机构和CCD检测机构依次排列在纳米晶放料机构的一侧，覆膜收料机构和微粘膜收料机构位于固定机架的尾端，且覆膜收料机构位于微粘膜收料机构的上方位置，微粘膜收料机构用于回收经过压料机构压合后形成的成品；本发明的有益效果是：实现了纳米晶产品的覆膜，可以实时的对压合力进行监控，并且便于对压合力进行调整。
Description
【技术领域】
本发明涉及覆膜装置技术领域，更具体的说，本发明涉及一种纳米晶覆膜设备。
【背景技术】
覆膜就是将塑料薄膜涂上粘合剂，将其与以纸张为承印物的印刷品，经橡皮滚筒和加热滚筒加压后合在一起，形成纸塑合一的产品。新式覆膜机适应于BOPP膜与纸张的复合工作，采用自动送纸、自动切纸的先进结构，降低了人工操作的劳动强度，提高生产效率,保证产品的质量。适用于各类美术印刷品的复膜，广泛应用于加工各类书刊封面、图片、包装纸盒、手提纸塑袋、挂历等。
现有技术中的覆膜设备，一般都包括有压合机构，通过压合机构实现多层材料的压合。在对不同厚度的材料进行压合时，需要对压合力进行调节，但是在现有技术中，压合机构的结构单一，无法对压合力进行准确的监控，同时压合力的调节方式繁琐，导致更换材料后，无法准确的对压合力进行调整。
【发明内容】
本发明的目的在于有效克服上述技术的不足，提供一种纳米晶覆膜设备，该纳米晶覆膜设备实现了纳米晶产品的覆膜，可以实时的对压合力进行监控，并且便于对压合力进行调整。
本发明的技术方案是这样实现的：一种纳米晶覆膜设备，其改进之处在于：包括固定机架以及安装在固定机架上的微粘膜放料机构、纳米晶放料机构、成品膜放料机构、压料机构、CCD检测机构、覆膜收料机构、微粘膜收料机构；
所述的微粘膜放料机构与成品膜放料机构并排着固定在固定机架上，所述的纳米晶放料机构位于微粘膜放料机构和成品膜放料机构的下方位置，所述压料机构和CCD检测机构依次排列在纳米晶放料机构的一侧，所述微粘膜放料机构提供的微粘膜、所述纳米晶放料机构提供的纳米晶以及成品膜放料机构提供的成品膜通过压料机构实现压合，并通过CCD检测机构进行检测；
所述的覆膜收料机构和微粘膜收料机构位于固定机架的尾端，且覆膜收料机构位于微粘膜收料机构的上方位置，所述的微粘膜收料机构用于回收经过压料机构压合后形成的成品；
所述的压料机构包括竖向底板、升降驱动装置、第一升降块、第二升降块、压力传感器、压料辊轴以及固定辊轴，所述的升降驱动装置安装在竖向底板上，第一升降块和第二升降块沿竖直方向并排的滑动安装在竖向底板的一侧面，其第一升降块和第二升降块之间夹持着多个压力传感器，升降驱动装置用于同步驱动第一升降块和第二升降块在竖向底板上滑动；所述的压料辊轴转动安装在第二升降块的底端，所述的固定辊轴设置在压料辊轴的下方。
在上述的结构中，所述的升降驱动装置包括升降电机、传动皮带、升降转轴、升降滑轨以及丝杆螺母；
所述的升降电机固定在竖向底板上，所述的升降转轴转动安装在竖向底板上，升降电机的电机轴顶端和升降转轴的顶端均安装有转动轮，所述的传动皮带套在升降电机的转动轮和升降转轴的转动轮之间；
两条滑轨沿竖直方向平行的固定在竖向底板上，升降滑轨上滑动安装有第一滑块和第二滑块，所述的第一升降块固定在第一滑块上，所述的第二升降块固定在第二滑块上；
所述的升降转轴上设置有两个丝杆螺母，两个丝杆螺母分别固定安装在第一升降块和第二升降块的背面。
在上述的结构中，所述的压料机构还包括驱动电机和辊轴座，所述的固定辊轴转动安装在辊轴座上，驱动电机固定在辊轴座的侧边，且驱动电机的电机轴与固定辊轴的中心轴相连接。
在上述的结构中，所述的压料机构还包括顶压块、S形弹性块、压紧块以及辊轴固定块；
所述的顶压块固定在第一升降块的外壁，所述的压紧块固定在第二升降块的外壁，所述的S形弹性块固定设置在顶压块与压紧块之间；
所述的辊轴固定块上沿竖直方向设置有条形孔，通过向条形孔内锁入螺丝，将辊轴固定块固定在第二升降块的外壁上，所述的压料辊轴转动安装在辊轴固定块的底部；所述的压紧块上设置有螺纹孔，该螺纹孔内设置有调节螺栓，且调节螺栓的下端压紧在所述的辊轴固定块上。
在上述的结构中，所述的压料机构还包括导杆，该导杆的一端固定在压紧块上，所述的顶压块上对应于导杆的位置设置有导向孔，导杆的另一端从导向孔中穿过。
在上述的结构中，所述的纳米晶覆膜设备还包括覆膜收废料机构，该覆膜收废料机构设置在成品膜放料机构的一侧。
在上述的结构中，所述的纳米晶放料机构与压料机构之间设置有前导引胶轴，所述的压料机构与微粘膜收料机构之间设置有后导引胶轴。
在上述的结构中，所述固定机架上还固定安装着一显示屏，固定机架的底部安装有支撑垫脚。
本发明的有益效果在于：本发明的一种纳米晶覆膜设备，由于压料机构的存在，压力传感器则对压合力实现实时的监控，当压合力过大或者过小时发出警报，以便于对压料辊轴的压合力进行控制；由于S形弹性块能够使得第一升降块与第二升降块之间具有良好的弹性力存在，使得卷带通过固定辊轴与压料辊轴之间时，压料辊轴具有向下运动的余量，同时也具有良好的压紧力，使之具有良好的覆膜效果。
【附图说明】
图1为本发明的一种纳米晶覆膜设备的立体结构示意图。
图2为本发明的一种纳米晶覆膜设备的压料机构的结构示意图。
【具体实施方式】
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的描述。
参照图1所示，本发明揭示的一种纳米晶覆膜设备，包括固定机架10以及安装在固定机架10上的微粘膜放料机构20、纳米晶放料机构30、成品膜放料机构40、压料机构50、CCD检测机构60、覆膜收料机构70、微粘膜收料机构80；所述的微粘膜放料机构20与成品膜放料机构40并排着固定在固定机架10上，所述的纳米晶放料机构30位于微粘膜放料机构20和成品膜放料机构40的下方位置，所述压料机构50和CCD检测机构60依次排列在纳米晶放料机构30的一侧，所述微粘膜放料机构20提供的微粘膜、所述纳米晶放料机构30提供的纳米晶以及成品膜放料机构40提供的成品膜通过压料机构50实现压合，并通过CCD检测机构60进行检测，此后便通过微粘膜收料机构80进行收料，覆膜收料机构80进行覆膜的收料；所述的覆膜收料机构70和微粘膜收料机构80位于固定机架10的尾端，且覆膜收料机构70位于微粘膜收料机构80的上方位置，所述的微粘膜收料机构80用于回收经过压料机构50压合后形成的成品。另外，所述的纳米晶覆膜设备还包括覆膜收废料机构90，该覆膜收废料机构90设置在成品膜放料机构40的一侧。
在上述的实施例中，如图1所示，所述的纳米晶放料机构30与压料机构50之间设置有前导引胶轴301，所述的压料机构50与微粘膜收料机构80之间设置有后导引胶轴302；所述固定机架10上还固定安装着一显示屏101，固定机架10的底部安装有支撑垫脚102。另外，所述的微粘膜放料机构20、纳米晶放料机构30、成品膜放料机构40以及覆膜收废料机构90均内置有纠偏结构，通过纠偏结构实现各个卷带的纠偏，避免卷带的位置出现偏移。
如图2所示，对于所述的压料机构50，本发明提供了一具体实施例，所述的压料机构50包括竖向底板501、升降驱动装置、第一升降块503、第二升降块504、压力传感器505、压料辊轴506以及固定辊轴507，所述的升降驱动装置安装在竖向底板501上，第一升降块503和第二升降块504沿竖直方向并排的滑动安装在竖向底板501的一侧面，其第一升降块503和第二升降块504之间夹持着多个压力传感器505，升降驱动装置用于同步驱动第一升降块503和第二升降块504在竖向底板501上滑动；所述的压料辊轴506转动安装在第二升降块504的底端，所述的固定辊轴507设置在压料辊轴506的下方。通过这种结构，当微粘膜放料机构20提供的微粘膜、纳米晶放料机构30提供的纳米晶以及成品膜放料机构40提供的成品膜同时从固定辊轴507和压料辊轴506之间穿过时，通过升降驱动装置，调节压料辊轴506与固定辊轴507之间的压合程度，对压紧力进行调整，同时，由于反作用力的存在，第二升降块504则压紧在压力传感器505上，压力传感器505则对压合力实现实时的监控，当压合力过大或者过小时发出警报，以便于对压料辊轴506的压合力进行控制。图2中，竖向底板501的两侧面均设置有驱动压料辊轴506上下运动的结构，并且结构完全相同，本实施例中仅以竖向底板501其中一面的结构为例进行说明。
对于所述的升降驱动装置，如图2所示，本发明提供了一具体实施例，所述的升降驱动装置包括升降电机5021、传动皮带5022、升降转轴5023、升降滑轨5024以及丝杆螺母(图中不可见)；所述的升降电机5021固定在竖向底板501上，所述的升降转轴5023转动安装在竖向底板501上，升降电机5021的电机轴顶端和升降转轴5023的顶端均安装有转动轮，所述的传动皮带5022套在升降电机5021的转动轮和升降转轴5023的转动轮之间；两条滑轨沿竖直方向平行的固定在竖向底板501上，升降滑轨5024上滑动安装有第一滑块和第二滑块，所述的第一升降块503固定在第一滑块上，所述的第二升降块504固定在第二滑块上；所述的升降转轴5023上设置有两个丝杆螺母，两个丝杆螺母分别固定安装在第一升降块503和第二升降块504的背面。另外，所述的压料机构50还包括驱动电机508和辊轴座509，所述的固定辊轴507转动安装在辊轴座509上，驱动电机508固定在辊轴座509的侧边，且驱动电机508的电机轴与固定辊轴507的中心轴相连接。
在上述的实施例中，所述的压料机构50还包括顶压块510、S形弹性块511、压紧块512以及辊轴固定块513；所述的顶压块510固定在第一升降块503的外壁，所述的压紧块512固定在第二升降块504的外壁，所述的S形弹性块511固定设置在顶压块510与压紧块512之间；由于S形弹性块511能够使得第一升降块503与第二升降块504之间具有良好的弹性力存在，使得卷带通过固定辊轴507与压料辊轴506之间时，压料辊轴506具有向下运动的余量，同时也具有良好的压紧力，使之具有良好的覆膜效果。进一步的，所述的辊轴固定块513上沿竖直方向设置有条形孔，通过向条形孔内锁入螺丝，将辊轴固定块513固定在第二升降块504的外壁上，所述的压料辊轴506转动安装在辊轴固定块513的底部；所述的压紧块512上设置有螺纹孔，该螺纹孔内设置有调节螺栓，且调节螺栓的下端压紧在所述的辊轴固定块513上。通过这种方式，可以对辊轴固定块513与第二升降块504的相对位置进行调整，进而调整压料辊轴506相对于固定滚轴的位置，以适应不同厚度卷料、不同压合力需求的覆膜操作。
更进一步的，所述的压料机构50还包括导杆514，该导杆514的一端固定在压紧块512上，所述的顶压块510上对应于导杆514的位置设置有导向孔，导杆514的另一端从导向孔中穿过，当压紧块512相对于顶压块510升降运动时，通过导杆514与导向孔的配合，对压紧块512、辊轴固定块513以及压料辊轴506的移动进行导向，避免在竖直方向的运动过程中出现位置偏移，提高了压合的精度。
以上所描述的仅为本发明的较佳实施例，上述具体实施例不是对本发明的限制。在本发明的技术思想范畴内，可以出现各种变形及修改，凡本领域的普通技术人员根据以上描述所做的润饰、修改或等同替换，均属于本发明所保护的范围。
Claims (8)
1.一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：包括固定机架以及安装在固定机架上的微粘膜放料机构、纳米晶放料机构、成品膜放料机构、压料机构、CCD检测机构、覆膜收料机构、微粘膜收料机构；
所述的微粘膜放料机构与成品膜放料机构并排着固定在固定机架上，所述的纳米晶放料机构位于微粘膜放料机构和成品膜放料机构的下方位置，所述压料机构和CCD检测机构依次排列在纳米晶放料机构的一侧，所述微粘膜放料机构提供的微粘膜、所述纳米晶放料机构提供的纳米晶以及成品膜放料机构提供的成品膜通过压料机构实现压合，并通过CCD检测机构进行检测；
所述的覆膜收料机构和微粘膜收料机构位于固定机架的尾端，且覆膜收料机构位于微粘膜收料机构的上方位置，所述的微粘膜收料机构用于回收经过压料机构压合后形成的成品；
所述的压料机构包括竖向底板、升降驱动装置、第一升降块、第二升降块、压力传感器、压料辊轴以及固定辊轴，所述的升降驱动装置安装在竖向底板上，第一升降块和第二升降块沿竖直方向并排的滑动安装在竖向底板的一侧面，其第一升降块和第二升降块之间夹持着多个压力传感器，升降驱动装置用于同步驱动第一升降块和第二升降块在竖向底板上滑动；所述的压料辊轴转动安装在第二升降块的底端，所述的固定辊轴设置在压料辊轴的下方。
2.根据权利要求1所述的一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：所述的升降驱动装置包括升降电机、传动皮带、升降转轴、升降滑轨以及丝杆螺母；
所述的升降电机固定在竖向底板上，所述的升降转轴转动安装在竖向底板上，升降电机的电机轴顶端和升降转轴的顶端均安装有转动轮，所述的传动皮带套在升降电机的转动轮和升降转轴的转动轮之间；
两条滑轨沿竖直方向平行的固定在竖向底板上，升降滑轨上滑动安装有第一滑块和第二滑块，所述的第一升降块固定在第一滑块上，所述的第二升降块固定在第二滑块上；
所述的升降转轴上设置有两个丝杆螺母，两个丝杆螺母分别固定安装在第一升降块和第二升降块的背面。
3.根据权利要求2所述的一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：所述的压料机构还包括驱动电机和辊轴座，所述的固定辊轴转动安装在辊轴座上，驱动电机固定在辊轴座的侧边，且驱动电机的电机轴与固定辊轴的中心轴相连接。
4.根据权利要求1所述的一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：所述的压料机构还包括顶压块、S形弹性块、压紧块以及辊轴固定块；
所述的顶压块固定在第一升降块的外壁，所述的压紧块固定在第二升降块的外壁，所述的S形弹性块固定设置在顶压块与压紧块之间；
所述的辊轴固定块上沿竖直方向设置有条形孔，通过向条形孔内锁入螺丝，将辊轴固定块固定在第二升降块的外壁上，所述的压料辊轴转动安装在辊轴固定块的底部；所述的压紧块上设置有螺纹孔，该螺纹孔内设置有调节螺栓，且调节螺栓的下端压紧在所述的辊轴固定块上。
5.根据权利要求1所述的一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：所述的压料机构还包括导杆，该导杆的一端固定在压紧块上，所述的顶压块上对应于导杆的位置设置有导向孔，导杆的另一端从导向孔中穿过。
6.根据权利要求1所述的一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：所述的纳米晶覆膜设备还包括覆膜收废料机构，该覆膜收废料机构设置在成品膜放料机构的一侧。
7.根据权利要求1所述的一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：所述的纳米晶放料机构与压料机构之间设置有前导引胶轴，所述的压料机构与微粘膜收料机构之间设置有后导引胶轴。
8.根据权利要求1所述的一种纳米晶覆膜设备，其特征在于：所述固定机架上还固定安装着一显示屏，固定机架的底部安装有支撑垫脚。
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