CN109485460B - 一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其包括如下工艺步骤：1)在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的陶瓷胶水；2)在陶瓷胶水层上布施干粒；3)施面釉；4)于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠；5)施抛釉；6)烘干，经1180～1230℃烧成；步骤6)所述烧成的温度在步骤2)所述干粒的熔融温度范围内。本发明使陶瓷砖立体图案纹理无对位偏差，同时大大提高了陶瓷砖图案纹理的立体效果，且由于干粒粘度大，烧成过程中堆积在干粒中的空气来不及排出而被包覆在干粒层中，避免了空气排出破坏喷墨印花层和抛釉层造成陶瓷砖表面缺陷的弊端。

Description

一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷砖领域，特别涉及一种陶瓷砖的制备方法。
背景技术
建筑陶瓷砖是一种建筑装饰材料，在建筑装饰当中占有相当大的比例，由于其具有丰富的花色和表面纹理而受到消费者的喜爱，随着物质生活水平的提高。人们的审美水平也随之不断的提升，发色纯正，纹理效果逼真的建筑陶瓷产品往往更能得到消费者的青睐，但是传统的陶瓷砖的图案都在同一个平面上，无法表现立体效果，也有将模具制备成为凹凸模制备具有凹凸效果的陶瓷砖的，但是这样所以的坯体的凹凸效果都是一样的，如果要改变凹凸效果，那么就必须更换模具，这样费时也费力。
专利CN103419278A通过将辊筒制备成凹凸形状，通过辊筒在砖面的挤压作用在砖面上面形成凹凸纹理，这种制备方法可以形成一些图案各异的纹理，但是辊筒上面的凹凸纹理跟陶瓷砖表面的图案很难很好的对应起来，导致装饰图案整体呈现错位、模糊等弊端，而且，同样存在就每生产一次都需要更换新的雕辊的问题，费时费力。专利CN102924124A通过控制釉料的成分和相关的工艺参数来实现表面的凹凸纹理。
发明内容
本发明的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法。
本发明所采取的技术方案是：一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其包括如下工艺步骤：
1)在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的陶瓷胶水，得陶瓷胶水层；
2)在陶瓷胶水层上布施干粒，得干粒层；
3)施面釉，面釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得面釉层；
4)于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠，得喷墨印花层；
5)施抛釉，抛釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得抛釉层；
6)烘干，经1180～1230℃烧成，得成品；
步骤2)所述干粒的始熔温度不高于1160℃。
具体地，干粒的始熔温度是使得干粒层在烧成时融化但不融平的重要参数。
作为上述方案的进一步改进，步骤1)中所述陶瓷胶水的热分解温度在650～800℃范围内。
作为上述方案的进一步改进，步骤2)中所述干粒为高温乳浊干粒，其化学成分为45～55％的SiO2、13～20％的Al2O3、4～12％CaO、3～6％的MgO、3.5～5％的K2O、5～7％的ZnO、3～10％的ZrO2。具体地，本发明所述干粒在高温烧成时具有融化但不融平的特征，从而能形成对应的凸起纹理。
作为上述方案的进一步改进，步骤2)中所述干粒的粒径在100～200目范围内。
作为上述方案的进一步改进，步骤2)中所述干粒层的厚度为0.5～1mm。
作为上述方案的进一步改进，步骤5)中所述抛釉层的比重为1.3～1.5g/cm3，施釉量为100～160g/m2。
本发明的有益效果是：本发明通过陶瓷胶水层、干粒层与喷墨印花层的相互重合，使陶瓷砖立体图案纹理无对位偏差，同时干粒层融化但不融平形成的凸起纹理位于喷墨印花层下方，大大提高了陶瓷砖图案纹理的立体效果，且由于干粒粘度大，烧成过程中堆积在干粒中的空气来不及排出而被包覆在干粒层中，避免了空气排出破坏喷墨印花层和抛釉层造成陶瓷砖表面缺陷的弊端。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行具体描述，以便于所属技术领域的人员对本发明的理解。有必要在此特别指出的是，实施例只是用于对本发明做进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，所属领域技术熟练人员，根据上述发明内容对本发明作出的非本质性的改进和调整，应仍属于本发明的保护范围。同时下述所提及的原料未详细说明的，均为市售产品；未详细提及的工艺步骤或制备方法为均为本领域技术人员所知晓的工艺步骤或制备方法。
实施例1
一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其包括如下工艺步骤：
1)在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的热分解温度在650～800℃范围内的陶瓷胶水，得陶瓷胶水层；
2)在陶瓷胶水层上布施粒径在100～150目范围内的干粒，控制风机的转速为1500r/min，用风机吸走没有位于陶瓷胶水层上的干粒，得厚度为0.5mm的干粒层；
3)施面釉，面釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得面釉层；
4)于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠，得喷墨印花层；
5)施抛釉，调节抛釉比重为1.3g/cm3、施釉量为100g/m2，抛釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得抛釉层；
6)烘干，经1180℃烧成60min，得实施例1成品。
其中，步骤2)所述干粒的始熔温度不高于1160℃；所述干粒为高温乳浊干粒，其化学成分为45％的SiO2、20％的Al2O3、8.5％CaO、6％的MgO、3.5％的K2O、7％的ZnO、10％的ZrO2。
实施例2
一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其包括如下工艺步骤：
1)在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的热分解温度在650～800℃范围内的陶瓷胶水，得陶瓷胶水层；
2)在陶瓷胶水层上布施粒径在150～200目范围内的干粒，控制风机的转速为2000r/min，用风机吸走没有位于陶瓷胶水层上的干粒，得厚度为1mm的干粒层；
3)施面釉，面釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得面釉层；
4)于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠，得喷墨印花层；
5)施抛釉，调节抛釉比重为1.5g/cm3、施釉量为160g/m2，抛釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得抛釉层；
6)烘干，经1230℃烧成55min，得实施例2成品。
其中，步骤2)所述干粒的始熔温度不高于1160℃；所述干粒为高温乳浊干粒，其化学成分为55％的SiO2、13％的Al2O3、12％CaO、3％的MgO、5％的K2O、5％的ZnO、7％的ZrO2。
实施例3
一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其包括如下工艺步骤：
1)在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的热分解温度在650～800℃范围内的陶瓷胶水，得陶瓷胶水层；
2)在陶瓷胶水层上布施粒径在120～180目范围内的干粒，控制风机的转速为1800r/min，用风机吸走没有位于陶瓷胶水层上的干粒，得厚度为0.8mm的干粒层；
3)施面釉，面釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得面釉层；
4)于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠，得喷墨印花层；
5)施抛釉，调节抛釉比重为1.4g/cm3、施釉量为150g/m2，抛釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得抛釉层；
6)烘干，经1200℃烧成57min，得实施例3成品。
其中，步骤2)所述干粒的始熔温度不高于1160℃；所述干粒为高温乳浊干粒，其化学成分为55％的SiO2、20％的Al2O3、4％CaO、6％的MgO、5％的K2O、7％的ZnO、3％的ZrO2。
上述实施例为本发明的优选实施例，凡与本发明类似的工艺及所作的等效变化，均应属于本发明的保护范畴。

Claims (5)

1.一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其特征在于包括如下工艺步骤：
1）在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的陶瓷胶水，得陶瓷胶水层；
2）在陶瓷胶水层上布施干粒，得干粒层；
3）施面釉，面釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得面釉层；
4）于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠，得喷墨印花层；
5）施抛釉，抛釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得抛釉层；
6）烘干，经1180~1230℃烧成，得成品；
步骤2）所述干粒的始熔温度不高于1160℃；
步骤2）中所述干粒为高温乳浊干粒，其化学成分为45~55%的SiO2、13~20%的Al2O3、4~12%CaO、3~6%的MgO、3.5~5%的K2O、5~7%的ZnO、3~10%的ZrO2。
2.根据权利要求1所述的一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述陶瓷胶水的热分解温度在650~800℃范围内。
3.根据权利要求1所述的一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其特征在于：步骤2）中所述干粒的粒径在100~200目范围内。
4.根据权利要求1所述的一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其特征在于：步骤2）中所述干粒层的厚度为0.5~1mm。
5.根据权利要求1所述的一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法，其特征在于：步骤5）中所述抛釉层的比重为1.3~1.5g/cm3，施釉量为100~160g/m2。
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