CN109449290B - 柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN109449290B
CN109449290B CN201811151703.9A CN201811151703A CN109449290B CN 109449290 B CN109449290 B CN 109449290B CN 201811151703 A CN201811151703 A CN 201811151703A CN 109449290 B CN109449290 B CN 109449290B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
pattern
pattern layer
substrate
film layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201811151703.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109449290A (zh
Inventor
黄振
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangzhou Guoxian Technology Co Ltd
Original Assignee
Guangzhou Guoxian Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangzhou Guoxian Technology Co Ltd filed Critical Guangzhou Guoxian Technology Co Ltd
Priority to CN201811151703.9A priority Critical patent/CN109449290B/zh
Publication of CN109449290A publication Critical patent/CN109449290A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109449290B publication Critical patent/CN109449290B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111Flexible substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1218Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition or structure of the substrate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置,柔性基板包括设置在衬底上的至少一层图案层和至少一层阻挡层,且至少一层所述图案层包括设在所述衬底上的第一图案层以及至少部分图案位于所述第一图案层上的第二图案层,所述阻挡层覆盖所述衬底、所述第一图案层和所述第二图案层,其中,所述图案层和覆盖在所述图案层上的所述阻挡层中其中一个为无机膜层,另一个为有机膜层。本发明提供的柔性基板解决了现有柔性显示屏中有机膜层和无机膜层之间容易出现分离的技术问题。

Description

柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置。
背景技术
柔性显示屏因具有可弯曲或可折叠等特点已被广泛用于便携式电子器件(例如可以用于移动通讯终端、平板电脑、电子书以及导航设备)以及大屏化电子装置等诸多领域,其中,有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称:OLED)因具有低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性逐渐被应用到柔性显示屏中。
目前,采用OLED的柔性显示屏通常包括:柔性基板以及设置在柔性基板上的薄膜晶体管层、若干个发光单元以及薄膜封装层,其中,柔性基板通常包括玻璃衬底和设在所述玻璃衬底上的膜层结构,其中膜层结构主要由有机膜层和无机膜层交替重叠组成。
然而,柔性显示屏在弯折过程中,柔性基板中的有机膜层和无机膜层之间的粘附力较差,易出现有机膜层和无机膜层剥离或断裂的现象。
发明内容
针对现有技术中的上述缺陷,本发明提供了一种膜层结构及其制作方法、柔性基板以及柔性显示装置,以解决现有柔性显示屏中有机膜层和无机膜层粘附力较差的问题。
为了实现上述目的,本发明提供一种柔性基板,包括:
设置在衬底上的至少一层图案层和至少一层阻挡层,且至少一层所述图案层包括设在所述衬底上的第一图案层以及至少部分图案位于所述第一图案层上的第二图案层,所述阻挡层覆盖所述衬底、所述第一图案层和所述第二图案层;
其中,所述图案层和覆盖在所述图案层上的所述阻挡层中其中一个为无机膜层,另一个为有机膜层。
本发明提供的柔性基板中,图案层包括设在衬底上的第一图案层以及至少部分图案位于第一图案层上的第二图案层,阻挡层覆盖衬底、第一图案层和第二图案层,且图案层和覆盖在图案层上的阻挡层中其中一个为无机膜层,另一个为有机膜层,这样阻挡层与第一图案层和第二图案层的图案均进行接触,从而增大了阻挡层与图案层之间的接触面积,这样阻挡层与图案层之间的粘附力增大,此外,阻挡层与衬底中其中一个为有机膜层,另一个为无机膜层时,衬底与图案层为属性相同的膜层,这样阻挡层覆盖在衬底上时,阻挡层与衬底之间由于图案层的存在而使得阻挡层与衬底的接触面积增大,这样阻挡层与衬底之间的粘附力增强,阻挡层与衬底之间间不易发生剥离,因此,本发明实施例提供的柔性基板,解决了现有技术中柔性基板中有机膜层和无机膜层由于粘附力差而易发生剥离的问题。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述图案层包括顶图案层以及设在所述衬底上的底图案层,所述阻挡层包括底阻挡层和顶阻挡层,其中,所述底阻挡层覆盖所述底图案层和所述衬底,所述顶图案层设在所述底阻挡层上,所述顶阻挡层覆盖所述顶图案层和所述底阻挡层;
且所述顶图案层和所述底图案层中至少一个包括所述第一图案层和至少部分图案位于所述第一图案层上的第二图案层。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述图案层还包括:至少一层中间图案层,所述阻挡层还包括至少一层中间阻挡层,其中,所述中间图案层设在所述底阻挡层上,所述中间阻挡层覆盖所述中间图案层和所述底阻挡层,所述顶图案层设在所述中间阻挡层上,所述顶阻挡层覆盖所述顶图案层和所述中间阻挡层;
且所述顶图案层、所述中间图案层和所述底图案层中至少一个包括所述第一图案层和至少部分图案位于所述第一图案层上的第二图案层。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述顶图案层、所述中间图案层和所述底图案层均包括所述第一图案层和所述第二图案层;
且所述第一图案层的各个图案的中心线与相邻图案层中的所述第一图案层的各个图案的中心线在垂向上相互错开;
所述第二图案层的各个图案的中心线与相邻图案层中的所述第二图案层的各个图案中心线在垂向上相互错开。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述第一图案层中的图案形状与相邻图案层中的所述第一图案层的图案形状不同。
本发明的具体实施例方式中,可选的,位于同一图案层中的所述第一图案层和所述第二图案层的图案形状不同。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述第一图案层包括间隔设置的多个第一图案,且所述第一图案在纵向上的截面形状为T型、L型或梯形。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述第二图案层包括间隔设置的多个第二图案,且至少部分所述第二图案位于所述第一图案上,且所述第二图案在纵向上的截面形状为三角形、方形或梯形。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述柔性基板还包括衬底,且所述衬底包括离型基板和设在所述离型基板上且与所述离型基板可剥离的薄膜层,所述阻挡层覆盖在所述图案层和所述薄膜层上。
本发明提供还提供一种阵列基板,至少包括上述权任一所述的柔性基板以及设在所述柔性基板上的薄膜晶体管。
本发明提供还提供一种显示面板,至少包括上述所述的阵列基板以及设在所述阵列基板上的若干发光单元。
本发明提供还提供一种显示装置,至少包括上述所述的显示面板。
本发明提供还提供一种柔性基板的制作方法,所述方法包括:
在衬底上形成膜层,且所述膜层经过至少两次图案化处理,形成图案层,且所述图案层包括位于所述衬底上的第一图案层以及至少部分图案位于所述第一图案层上的第二图案层;
在形成了所述第一图案层和所述第二图案层的所述衬底上,沉积阻挡层,所述阻挡层覆盖所述第一图案层、所述第二图案层和所述衬底;
其中,所述膜层和所述阻挡层中其中一个为无机膜层,另一个为有机膜层。
本发明的具体实施例方式中,可选的,当所述第一图案层中的图案在纵向上的截面形状为L型时,所述膜层经过至少两次图案化处理,形成图案层,包括:
对所述膜层进行第一次图案化处理,形成初始图案层;
对形成了所述初始图案层的所述膜层进行第二次图案化处理,形成所述图案层,所述图案层包括第一图案层以及第二图案层,且所述第一图案层中的图案在纵向的截面形状为L型,所述第二图案层中的其中一部分图案位于所述第一图案层的L型图案上,另一部分图案位于所述第一图案层的相邻两个图案的间隙中。
本发明的具体实施例方式中,可选的,当所述第一图案层中的图案在纵向上的截面形状为T型时,所述在衬底上形成膜层,且所述膜层经过至少两次图案化处理形成图案层,包括:
在所述衬底上形成第一膜层,并对所述第一膜层进行第一次图案化处理,形成多个间隔设置的柱状结构;
在形成了所述柱状结构的所述衬底上填充可移除的第一有机胶层,其中,所述第一有机胶层与所述柱状结构平齐;
在所述第一有机胶层和所述柱状结构上沉积第二膜层,并对所述第二膜层进行图案化处理,形成多个间隔设置的块状结构,且所述块状结构与所述柱状结构形成纵向截面呈T型的第一图案层;
在所述块状结构之间填充可移除的第二有机胶层,且所述第二有机胶层与所述块状结构平齐;
在所述第二有机胶层和所述块状结构上沉积第三膜层,并对所述第三膜层进行图案化处理,形成多个图案相互间隔的第二图案层,且所述第二图案层中的图案均位于所述第一图案层上;
移除所述第一有机胶层和所述第二有机胶层,形成所述图案层。
本发明的具体实施例方式中,可选的,所述在衬底上形成膜层之前,还包括:
在所述衬底上形成与所述衬底可剥离的薄膜层。
在所述衬底上形成膜层,包括:
在所述薄膜层上形成所述膜层。
本发明的构造以及它的其他发明目的及有益效果将会通过结合附图而对优选实施例的描述而更加明显易懂。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一提供的柔性面板的剖面结构示意图;
图2为本发明实施例一提供的又一柔性面板的剖面结构示意图;
图3为本发明实施例二提供的柔性面板的剖面结构示意图;
图4为本发明实施例二提供的又一柔性面板的剖面结构示意图;
图5为本发明实施例三提供的柔性面板的剖面结构示意图;
图6为本发明实施例三提供的又一柔性面板的剖面结构示意图;
图7为本发明实施例三提供的再一柔性面板的剖面结构示意图;
图8为本发明实施例四提供的柔性面板的剖面结构示意图;
图9为本发明实施例四提供的又一柔性面板的剖面结构示意图;
图10为本发明实施例五提供的柔性面板的剖面结构示意图;
图11为本发明实施例六提供的柔性面板的制作方法的流程示意图;
图12为本发明实施例六提供的柔性面板的制作方法的又一流程示意图;
图13为本发明实施例七提供的柔性面板的制作方法的流程示意图。
附图标记说明:
10-衬底;
11-离型基板;
12-薄膜层;
20-图案层;
20a-底图案层;
20b-顶图案层;
20c-中间图案层;
21-第一图案层;
22-第二图案层;
30-阻挡层;
30a-底阻挡层;
30b-顶阻挡层;
30c-中间阻挡层。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明的优选实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中,自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的柔性面板的剖面结构示意图,图2为本发明实施例一提供的又一柔性面板的剖面结构示意图。
本实施例提供一种柔性基板,如图1所示,柔性基板具体可包括:设置在衬底10上的至少一层图案层20和至少一层阻挡层30,即图案层20可以为一个,或者图案层20可以为若干个,例如可以分别为处于柔性基板上部的顶图案层20b,处于柔性基板下部的底图案层20a,或者处于柔性基板中间的中间图案层20c,本实施例中,如图1所示,图案层20为一个,其中,由于阻挡层30需覆盖在图案层20上,所以阻挡层30的层数与图案层20的层数相同,即当图案层20为一层时,阻挡层30也为一层,当图案层20为若干层时,则阻挡层30也为若干层,且图案层20为若干层时,图案层20与阻挡层30在衬底10上依次交替层叠设置。
其中,本实施例中,图案层20和覆盖在图案层20上的阻挡层30中其中一个为有机膜层,另一个为无机膜层,例如图1中的图案层20为有机膜层,则覆盖在图案层20上的阻挡层30为无机膜层,需要说明的是,当柔性基板中的图案层20和阻挡层30如图2所示的交替层叠设置时,这样某一阻挡层30(例如底阻挡层30aa)上还设有一图案层20(即中间图案层20c),此时,由于底阻挡层30aa未覆盖在中间图案层20c上,所以此种情况下,该底阻挡层30aa和中间图案层20c中并不是一个为有机膜层,另一个为无机膜层,底阻挡层30aa和中间图案层20c可以均为有机膜层或均为无机膜层
其中,本实施例中,有机膜层的材料具体可以为聚酰亚胺(Polyimide:PI),无机膜层的材料具体可以为氧化硅(SiOx),也可以为非晶硅(a-Si)。
其中,本实施例中,为了增大柔性基板中有机膜层和无机膜层之间的粘附力,所以,至少一层图案层20包括设在衬底10上的第一图案层21以及至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,阻挡层30覆盖衬底10、第一图案层21和第二图案层22,即本实施例中,图案层20包括第一图案层21和第二图案层22,且第二图案层22中至少部分图案位于第一图案层21上,如图1所示,第二图案层22中的一部分图案位于第一图案层21的图案上,第二图案层22中另一部分图案设置在衬底10上且位于第一图案层21中相邻两个图案之间的间隙中,或者如图2所示,第二图案层22中的图案全部位于第一图案层21的图案上,其中,与现有的单层图案层相比,本实施例中,由于第二图案层22中的至少部分图案位于第一图案层21的图案上,即第一图案层21中的图案上又增加了第二图案层22的图案,这样形成的图案的表面大大增大,阻挡层30覆盖在第一图案层21、第二图案层22以及衬底10上时,阻挡层30与图案层20的接触面积增大,这样阻挡层30与图案层20之间的粘附力增大,即有机膜层与无机膜层之间的粘附力增大,有机膜层和无机膜层在弯折过程中不易剥离,同时,第一图案层21中的图案和第二图案层22中的图案的更利于膜层之间的应力释放,不易造成膜层之间由于应力集中而发生剥离的现象。
同时,本实施例中,对于阻挡层30和衬底10而言,阻挡层30也覆盖在衬底10上,所以衬底10为无机膜层,阻挡层30为有机膜层时,此时,由于阻挡层30为有机膜层,所以图案层20为无机膜层,这样图案层20设置在衬底10上时,即相当于无机膜层上设置无机的图案层20,当阻挡层30覆盖在图案层20和衬底10上,即有机膜层覆盖在无机膜层和无机图案层20上,由于图案层20包括第一图案层21和第二图案层22,这样有机膜层与无机膜层之间的接触面积增大,粘附力增强,有机膜层与无机膜层在弯折过程中不易剥离,即阻挡层30与衬底10之间的粘附力增大,阻挡层30与衬底10之间在弯折过程中不易剥离。
其中,本实施例中,如图1所示,图案层20中的第一图案层21包括间隔设置的多个第一图案,且第一图案层21中的第一图案在纵向上的截面形状为L型,即第一图案为L型图案,或者,如图2所示,第一图案层21中的第一图案在纵向上的截面形状为T型,即第一图案层21中的第一图案为T型图案,或者第一图案层21中的第一图案在纵向上的截面形状如下述图7中所示的梯形,其中,本实施例中,第一图案层21中的第一图案还可以为其他形状,例如方形或圆形等,同时,本实施例中,第二图案层22包括间隔设置的多个第二图案,且至少部分第二图案位于第一图案上,且第二图案在纵向上的截面形状可以为如图1所示的三角形,也可以为方形,还可以如下述图6所示的梯形。
其中,本实施例中,位于同一图案层20中的第一图案层21和第二图案层22的图案形状不同,例如,如图1所示,第一图案层21中的第一图案为L型图案,第二图案层22的第二图案可以为圆锥或三棱柱,本实施例中,通过将第一图案层21和第二图案层22的图案形状设置为不同时,这样图案层20中第一图案和第二图案组成的图案的表面增多,从而更利于增加阻挡层30与图案的接触面积,使得阻挡层30与图案层20之间的粘附力增强。
实施例二
图3为本发明实施例二提供的柔性面板的剖面结构示意图,图4为本发明实施例二提供的又一柔性面板的剖面结构示意图。
本实施例中,如图3和4所示,柔性基板中的图案层20和阻挡层30分别为两个,即本实施例的柔性基板为5层结构的基板,具体的,两个图案层20分别为底图案层20a和顶图案层20b,即图案层20包括底图案层20a和顶图案层20b,阻挡层30包括底阻挡层30a和顶阻挡层30b,其中,底阻挡层30a覆盖底图案层20a和衬底10,顶图案层20b设在底阻挡层30a上,顶阻挡层30b覆盖顶图案层20b和底阻挡层30a,即柔性基板包括层叠设置在衬底10上的底图案层20a、底阻挡层30a、顶图案层20b和顶阻挡层30b,且顶图案层20b和底图案层20a中至少一个包括第一图案层21和至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,即本实施例中,两个图案层20中,可以是顶图案层20b中包括:第一图案层21和至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,或者是底图案层20a中包括:第一图案层21和至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,或者如图3所示,顶图案层20b包括第一图案层21和第二图案层22,同时,底图案层20a也包括第一图案层21和第二图案层22,其中,顶阻挡层30b覆盖在底阻挡层30a上,所以对于底阻挡层30a和顶阻挡层30b这两层膜层来说,若底阻挡层30a为有机膜层,顶阻挡层30b为无机膜层,此时,顶图案层20b则为有机膜层,这样相当在有机膜层上设置有机图案层20,当无机膜层覆盖有机膜层和有机图案层20时,此时由于图案层20包括的设置,所以无机膜层与有机膜层之间的接触面积增大,粘附力增强,即底阻挡层30a和顶阻挡层30b之间的粘附力增大,底阻挡层30a和顶阻挡层30b在弯折过程中不易剥离。
本实施例中,当顶图案层20b和底图案层20a中其中一个包括第一图案层21和至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22时,这样柔性基板中衬底10和顶阻挡层30b中的其中一个与底阻挡层30a之间由于第一图案层21和第二图案层22的设置而相互之间的接触面积增大,使得柔性基板中其中两层膜层之间的粘附力增强,不易发生剥离,与现有技术膜层数相同的柔性基板相比,本实施例提供的柔性基板,减少了柔性基板中发生剥离的有机膜层和无机膜层,当顶图案层20b和底图案层20a如图3所示的均包括第一图案层21和第二图案层22时,此时,底阻挡层30a与顶阻挡层30b之间由于顶图案层20b的存在而使得底阻挡层30a与顶阻挡层30b之间的接触面积增大,粘附力增大,底阻挡层30a与顶阻挡层30b之间不易发生剥离,相应的,底阻挡层30a与衬底10之间由于底图案层20a的存在而使得底阻挡层30a与衬底10之间的接触面积增大,粘附力增强,底阻挡层30a与衬底10之间不易发生剥离,从而避免了柔性基板中有机膜层和无机膜层的剥离,
因此,本实施例提供的柔性基板中,至少一个有机膜层和至少一个无机膜层之间粘附力增强,从而减少或避免了柔性基板中有机膜层和无机膜层发生剥离的问题。
进一步的,本实施例中,柔性基板中包括顶图案层20b和底图案层20a时,当两个图案层20中的图案在垂向上重合时,这样膜层界面处释放应力的位置在垂向上重合,弯折时,膜层之间的应力在垂向上比较集中,从而易引起膜层开裂,为此,本实施例中,当顶图案层20b和底图案层20a均包括第一图案层21和第二图案层22时,顶图案层20b中的第一图案层21的各个图案的中心线与底图案层20a中的第一图案层21的各个图案的中心线在垂向上相互错开,即两个图案层20中的第一图案层21中的图案中心线在垂向上不重合,这样保证两个图案层20中的第一图案层21的图案在垂向上不完全重合,相应的,第二图案层22的各个图案的中心线与相邻图案层20中的第二图案层22的各个图案中心线在垂向上相互错开,即顶图案层20b的第二图案层22的图案和底图案层20a中的第二图案层22的图案在垂向上完全重合,这样,柔性基板中各个图案层20中的图案在垂向上间隔分布,这样保证柔性基板弯折时,各个膜层界面处的应力在垂向上释放的位置间隔,不易造成膜层在垂向上的应力集中,从而不易造成膜层开裂或分离。
进一步的,本实施例中,当顶图案层20b和底图案层20a均包括第一图案层21和第二图案层22时,第一图案层21中的图案形状与相邻图案层20中的第一图案层21的图案形状不同,如图3,底图案层20a中的第一图案层21的图案呈L型图案,顶图案层20b中的第一图案层21的图案呈T型,顶图案层20b和底图案层20a中的第二图案层22的形状可以相同(如图3中第二图案层22的图案纵向截面形状均为三角形),也可以不同(如图3中第二图案层22的图案纵向截面形状分布为三角形和梯形),其中,本实施例中,当相邻两个图案层20中的第一图案层21的形状不同时,这样覆盖在第一图案层21上的阻挡层30与第一图案层21的接触面积不同,粘附力不同个,从而满足不同膜层之间所需的不同粘附力,需要说明的是,本实施例中,当膜层之间所需的粘附力不需要不同时,则第一图案层21中的图案形状与相邻图案层20中的第一图案层21的图案形状也可以相同的,例如顶图案层20b的第一图案层21的图案和底图案层20a中的第一图案层21的图案的形状相同,这样覆盖在其上的阻挡层30与图案层20之间的接触面积相同,粘附力相同。
实施例三
图5为本发明实施例三提供的柔性面板的剖面结构示意图,图6为本发明实施例三提供的又一柔性面板的剖面结构示意图,图7为本发明实施例三提供的再一柔性面板的剖面结构示意图。
本实施例中提供的柔性基板中包括至少三个图案层20和至少三个阻挡层30,即柔性基板可以为7层结构(即衬底10+三个图案层20+三个阻挡层30)或7层以上的结构,具体的,图案层20还包括:至少一层中间图案层20c,阻挡层30还包括至少一层中间阻挡层30c,本实施例中,如图5所示,中间图案层20c为一个,中间阻挡层30c也为一个,具体的,中间图案层20c设在底阻挡层30a上,中间阻挡层30c覆盖中间图案层20c和底阻挡层30a,顶图案层20b设在中间阻挡层30c上,顶阻挡层30b覆盖顶图案层20b和中间阻挡层30c,即本实施例中,中间阻挡层30c分别与底阻挡层30a和顶阻挡层30b相接触,或者本实施例中,中间图案层20c可以为多个,中间阻挡层30c也为多个,组成7层以上的柔性基板。
其中,本实施例中,顶图案层20b、中间图案层20c和底图案层20a中至少一个包括第一图案层21和至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,例如如图7所示,三个图案层20中只有中间图案层20c包括第一图案层21和第二图案层22,中间图案层20c为双层图案层20,顶图案层20b和底图案层20a为单层图案层,这样对于中间阻挡层30c和底阻挡层30a而言,当中间阻挡层30c为有机膜层,底阻挡层30a为无机膜层时,此时中间图案层20c为无机膜层,这样,底阻挡层30a上设置中间图案时,即相当于在无机膜层上形成无机图案层20,中间阻挡层30c(即有机膜层)覆盖在底阻挡层30a(无机膜层)和中间图案层20c(无机图案层20)上时,由于无机图案层20(中间图案层20c)中包括第一图案层21和第二图案层22,所以有机膜层(中间阻挡层30c)与无机膜层(底阻挡层30a)之间的接触面积增大,粘附力增大,与现有技术中膜层数相同的柔性基板相比,本实施例提供的柔性基板中其中一个有机膜层和一个无机膜层之间粘附力增大,这样减少了柔性基板中有机膜层和无机膜层发生剥离的问题。
或者,本实施例中,如图5和图6所示,顶图案层20b、中间图案层20c和底图案层20a这三个图案层20中均包括第一图案层21和至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,这样,对于中间阻挡层30c、顶阻挡层30b和底阻挡层30a而言,若中间阻挡层30c为有机膜层,顶阻挡层30b和底阻挡层30a均为无机膜层时,此时,中间图案层20c为无机膜层(由于中间图案层20c和覆盖在中间图案层20c上的中间阻挡层30c中其中一个为有机膜层,另一个则为无机膜层),顶图案层20b为有机膜层,此时,中间阻挡层30c覆盖在中间图案层20c和底阻挡层30a上时,即相当于有机膜层覆盖在无机膜层和无机图案层20上,而无机图案层20包括第一图案层21和第二图案层22,所以有机膜层和无机膜层之间的接触面积增大,粘附力增强,即中间阻挡层30c与底阻挡层30a之间的粘附力增强,不易发生剥离,同理,中间阻挡层30c与顶阻挡层30b之间由于顶图案层20b的设置而相互之间接触面积增大,粘附力增强,膜层不易剥离。
本实施例中,当顶图案层20b、中间图案层20c和底图案层20a这三个图案层20均包括第一图案层21和第二图案层22时,则第一图案层21的各个图案的中心线与相邻图案层20中的第一图案层21的各个图案的中心线在垂向上相互错开,第二图案层22的各个图案的中心线与相邻图案层20中的第二图案层22的各个图案中心线在垂向上相互错开,例如,中间图案层20c中的第一图案层21的图案中心线分别与顶图案层20b和底图案层20a中的第一图案层21的图案中心线在垂向上相互错开,相应的,中间图案层20c中的第二图案层22的图案中心线分别与顶图案层20b和底图案层20a中的第二图案层22的图案中心线在垂向上相互错开,这样使得中间阻挡层30c与顶阻挡层30b之间的应力释放点与中间阻挡层30c与抵阻挡层30之间的应力释放点在垂向上重合,相互错开,从而不易出现应力在垂向上集中而造成膜层开裂或剥离。
进一步的,在上述实施例一、实施例二和实施例三的基础上,本实施例中,具体的,柔性基板还包括衬底10,其中,当衬底10为玻璃基板时,在玻璃基板上若直接形成图案层20时,如果当玻璃基板的表面凹凸不平,则图案层20和阻挡层30完成制作并从玻璃基板上取下后,图案层20的底面出现不平整,或者即使玻璃基板的表面平整,但是当图案层20和阻挡层30完成制作需从玻璃基板上剥离时,由于玻璃基板与图案层20以及阻挡层30之间的粘附力较大,这样剥离过程中,易对图案层20的底面造成损伤,所以本实施例中,为了解决上述问题,具体的,衬底10具体可包括离型基板11和设在离型基板11上且与离型基板11可剥离的薄膜层12,图案层20直接设置在薄膜层12上,阻挡层30覆盖在图案层20和薄膜层12上,制作完成时,离型基板11与薄膜层12进行分离,其中,由于薄膜层12的设置,这样即使离型基板11的表面不平整,但是薄膜层12使得衬底10的表面平整,这样图案层20的底面不会出现凹凸不平,而且剥离过程中,薄膜层12对图案层20起到保护作用,避免图案层20出现损伤,本实施例中,离型基板11具体可以为玻璃基板,其中,薄膜层12可以为有机膜层,也可以为无机膜层,优选的,薄膜层12可为有机膜层,这样薄膜层12与玻璃基板之间粘附力差,易发生剥离,其中,当薄膜层12为有机膜层时,设在薄膜层12上的图案层20也为有机膜层,此时,覆盖在图案层20上的阻挡层30为无机膜层,这样阻挡层30与薄膜层12之间由于图案层20而接触面积积增大,粘附力增强,阻挡层30与薄膜层12之间不易剥离。
实施例四
图8为本发明实施例四提供的柔性面板的剖面结构示意图,图9为本发明实施例四提供的又一柔性面板的剖面结构示意图。
本实施例提供一种柔性基板,具体的,包括设在衬底10上的图案层20和阻挡层30,且图案层20中的图案在纵向上的截面形状为T型(如图8所示)或L型(如图9所示),阻挡层30覆盖在图案层20和衬底10上,本实施例中,通过将图案层20中的图案设置为截面呈T型或L型时,这样与现有技术中的梯形或倒梯形图案层20相比,本实施例中的T型或L型的图案与阻挡层30之间的接触面积增大,粘附力增强,图案层20与阻挡层30之间不易发生剥离,同时,阻挡层30与衬底10之间由于图案层20中的L型或T型图案而接触面积增大,粘附力增强。
其中,本实施例中,图案层20与图案层20上覆盖的阻挡层30中其中一个为有机膜层,另一个为无机膜层,所以对于阻挡层30和衬底10而言,当阻挡层30为有机膜层,衬底10为无机膜层时,此时,图案层20为无机膜层,所以衬底10上设有无机的图案层20,当阻挡层30覆盖在衬底10和图案层20上时,相当于有机膜层覆盖在无机膜层和无机的图案层20上,所以有机膜层与无机膜层之间由于图案层20中的L型或T型图案而接触面积增大,粘附力增强,从而使得有机膜层和无机膜层不易发生剥离,所以,本实施例中,柔性基板中的阻挡层30与衬底10之间粘附力增强,不易发生剥离。
实施例五
图10为本发明实施例五提供的柔性面板的剖面结构示意图。
本实施例提供的柔性基板中包括多个图案层20和多个阻挡层30,即柔性基板可以为5层结构或者7层结构,具体的,如图10所示,柔性基板包括依次设在衬底10上的底图案层20a、底阻挡层30a、中间图案层20c、中间阻挡层30c、顶图案层20b和顶阻挡层30b,即图10中的柔性基板为7层结构,其中,底图案层20a、中间图案层20c和顶图案层20b中的图案在纵向上的截面形状可以均为T型,也可以均为L型,或者还可以将其中一个图案层20中的图案的在纵向上的截面形状为T型,另一个图案层20中的图案的在纵向上的截面形状为L型,第三个图案层20中的图案的在纵向上的截面形状可以为T型,也可以为L型。
本实施例中,柔性基板的多层膜层中,各膜层之间通过设置截面呈T型和L型的图案,使得各膜层之间的接触面增大,粘附力增强,各膜层之间不易发生剥离。
实施例六
图11为本发明实施例六提供的柔性面板的制作方法的流程示意图。图12为本发明实施例六提供的柔性面板的制作方法的又一流程示意图。
本实施例提供一种柔性基板的制作方法,方法包括如下步骤:
步骤101:在衬底10上形成膜层;
其中,衬底10具体可以玻璃基板,在衬底10上形成膜层时,具体可以通过气相沉积、溅射或热蒸发等方法在衬底10上形成膜层。
步骤102:膜层经过至少两次图案化处理,形成图案层20,且图案层20包括位于衬底10上的第一图案层21以及至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22;
其中,本实施例中,图案层20具体是通过对膜层进行了至少两次图案化处理形成的,即对膜层可以首先进行第一次图案化处理,然后对图案化处理后的膜层进行第二次图案化处理,这样获得的图案层20包括位于衬底10上的第一图案层21以及至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,即本实施例中,图案层20中包括第一图案层21和第二图案层22,第二图案层22中的至少部分图案位于第一图案层21上,例如,如图1所示,第二图案层22中的其中一部分图案位于第一图案层21的第一图案上,另一部分图案位于衬底10上,或者如图2所示,第二图案层22中的第二图案全部位于第一图案层21的第一图案上,本实施例中,由于形成的图案包括第一图案以及位于第一图案上的第二图案,这样使得图案层20中的图案的表面增多,阻挡层30覆盖在图案层20和衬底10上时,阻挡层30与图案层20之间的接触面积增大,粘附力增大,阻挡层30与图案层20以及衬底10之间不易发生剥离,其中,本实施例中,图案化处理具体采用干法刻蚀(例如气体刻蚀)形成所需的图案,其中,本实施例中,第一图案层21中包括间隔设置在衬底10上的多个第一图案,第二图案层22包括间隔设在第一图案上和/或衬底10上的多个第二图案。
本实施例中,第一图案层21中的第一图案在纵向上的截面形状可以为T型,也可以为L型,还可以为梯形,第二图案层22中的第二图案在纵向上的截面形状可以为三角形,也可以为梯形,还可以为方形,其中,本实施例中,当图案层20中的第二图案为三角形或梯形时,刻蚀时,例如可以选用45°~60°的刻蚀角度,这样形成的第二图案的侧面与衬底10之间的夹角为45°~60°。
步骤103:在形成了第一图案层21和第二图案层22的衬底10上,沉积阻挡层30,阻挡层30覆盖第一图案层21、第二图案层22和衬底10;
其中,本实施例中,膜层和阻挡层30中其中一个为无机膜层,另一个为有机膜层,例如,膜层为无机膜层时,阻挡层30为有机膜层,当膜层为有机膜层时,则阻挡层30为无机膜层,其中,无机膜层和有机膜层的材料具体可以参考上述实施例一中记载的,本实施例中不再赘述。
其中,本实施例中,膜层和阻挡层30的厚度以及图案层20中的图案间隔具体可以实际需求进行设定,本实施例中不加限定。
通过上述方法可以形成如图1或图2所示的柔性基板。
本实施例提供的柔性基板的制作方法,通过对膜层经过至少两次图案化处理,形成图案层20,且图案层20包括位于衬底10上的第一图案层21以及至少部分图案位于第一图案层21上的第二图案层22,这样阻挡层30覆盖在第一图案层21、第二图案层22以及衬底10上时,阻挡层30与第一图案层21和第二图案层22的图案均进行接触,增大了阻挡层30与图案层20之间的接触面积,这样阻挡层30与图案层20之间的粘附力增大,同时,阻挡层30与衬底10之间由于图案层20而接触面积增大,粘附力增强,膜层间不易发生剥离,因此,本实施例提供的柔性基板的制作方法,解决了现有技术中柔性基板中有机膜层和无机膜层由于粘附力差而易发生剥离的问题。
本实施例中,当第一图案层21中的图案在纵向上的截面形状为L型时,则上述步骤102具体包括如下步骤:
步骤102a:对膜层进行第一次图案化处理,形成初始图案层;
其中,需要说明的是,初始图案层并不是图案层20中的第一图案层21,初始图案层只是膜层经过第一次图案化处理后形成的图案,且该图案并不是第一图案或第二图案,例如,本实施例中,初始图案层具体可以为间隔的矩形块,本实施例中,初始图案层中的图案的长度具体可以为7.0μm,间隔具体可以为1.0μm,沉积在衬底上的膜层厚度具体可以为0.1μm,所以形成的初始图案层中的图案高度为0.1μm。
步骤102b:对形成了初始图案层的膜层进行第二次图案化处理,形成图案层20,图案层20包括第一图案层21以及第二图案层22,且第一图案层21中的图案在纵向的截面形状为L型,第二图案层22中的其中一部分图案位于第一图案层21的L型图案上,另一部分图案位于第一图案层21的相邻两个图案的间隙中。
本实施例中,对形成初始层的膜层进行第二次图案化处理,处理后形成具有第一图案的第一图案层21和具有第二图案的第二图案层22,即本实施例中,第一图案和第二图案是在第二次图案化处理后形成的,其中,第二图案层22中的第二图案(例如截面呈三角形)的高度可以为0.05μm,彼此间隔可以为1.0μm,刻蚀角度具体可以为45°~60°。
因此,本实施例中,通过上述制备方法,如图1所示的柔性基板中,即图案层20中的第一图案呈L型图案。
进一步的,在步骤101之前,即在衬底10上形成膜层之前,还包括在衬底10上形成与衬底10可剥离的薄膜层12,这样步骤101即为:在薄膜层12上形成膜层,通过设置薄膜层12可以避免衬底10与图案层20剥离过程中损坏图案层20,而且确保了图案层20的底面为平整底面。
实施例七
图13为本发明实施例七提供的柔性面板的制作方法的流程示意图。
本实施例中,当第一图案层21中的图案在纵向上的截面形状为T型时,制作方法包括如下步骤:
步骤101a:在衬底10上形成第一膜层;
其中,本实施例中,在衬底10上形成第一膜层具体可以参考上述实施例中的步骤101,其中,本实施例中,第一膜层的厚度具体可以为0.2μm。
步骤1021:对第一膜层进行第一次图案化处理,形成多个间隔设置的柱状结构;
其中,本实施例中,刻蚀形成的柱状结构中,柱状结构的宽度可以为3.0μm左右,柱状结构彼此之间的间距可以为1.0μm。
步骤1022:在形成了柱状结构的衬底10上填充可移除的第一有机胶层,其中,第一有机胶层与柱状结构平齐;
其中,本实施例中,为了形成T型图案,所以需再次沉积一层膜层,所以在沉积膜层之前在柱状结构之间的缝隙区域内填充第一有机胶层,第一有机胶层与柱状结构的顶端平齐,第一有机胶层具体可以为热解胶,这样加热后可以移除。
步骤1023:在第一有机胶层和柱状结构上沉积第二膜层,并对第二膜层进行图案化处理,形成多个间隔设置的块状结构,且块状结构与柱状结构形成纵向截面呈T型的第一图案层21;
具体的,第二膜层的厚度可以为0.1μm,对第二膜层刻蚀形成块状结构,具体刻蚀时,块状结构的长度可以为6.0μm,彼此间隔可以为4.0μm,其中,本实施例中,第一膜层和第二膜层经刻蚀形成T型图案,所以第一膜层和第二膜层的材料相同,例如可以为PI膜层,或者为SiOx
步骤1024:在块状结构之间填充可移除的第二有机胶层,且第二有机胶层与块状结构平齐;
其中,本实施例中,第二有机胶层与第一有机胶层的材料可以相同,均为热解胶。
步骤1025:在第二有机胶层和块状结构上沉积第三膜层,并对第三膜层进行图案化处理,形成多个图案相互间隔的第二图案层22,且第二图案层22中的图案均位于第一图案层21上;
其中,本实施例中,第三膜层和第二膜层可以均为有机膜层或无机膜层,但是,为了便于进行刻蚀,第三膜层和第二膜层选用的材料可以不同,例如,第二膜层为SiOx无机膜层,则第三膜层可以为a-Si无机膜层,其中,本实施例中,第二图案层22中的图案纵向截面形状可以为三角形或梯形,其中,T型图案上形成截面形状为三角形或梯形的第二图案(类似小岛)时,可以在T型图案形成两个间隔设置的第二图案,其中,两个第二图案的间距可以为1.0μm。
步骤1026:移除第一有机胶层和第二有机胶层,形成图案层20。
步骤103:在形成了第一图案层21和第二图案层22的衬底10上,沉积阻挡层30,阻挡层30覆盖第一图案层21、第二图案层22和衬底10。
通过上述方法,制得如图2所示的柔性基板,柔性基板中图案层20的第一图案呈T型。
其中,本实施例中,需要说明的是,步骤1023中,当在第一有机胶层和柱状结构上沉积第二膜层后,可以继续在第二膜层上沉积第三膜层,接着对第二膜层和第三膜层进行刻蚀,依次刻蚀出与柱状结构一起构成T型图案的块状图案和类似小岛的第二图案,最后移除第一有机胶层,这样避免在缝隙中填充第一有机胶层。
其中,实施例六和实施例七中的制作方法为图1和图2所示的柔性基板的制作方法,当柔性基板为图3-图7所示的结构时,则可以在实施例六和实施例七中的步骤103之后,在阻挡层30上形成膜层,重新执行步骤102-103,从而形成包括有多个图案层20和阻挡层30的柔性基板,具体步骤本实施例中不在赘述。
实施例八
本实施例提供一种阵列基板,其中,阵列基板至少包括上述任一实施例的柔性基板以及设在柔性基板上的薄膜晶体管(thin-film transistor:TFT)。
本实施例中,通过包括柔性基板,而柔性基板中的图案层20包括第一图案层21和第二图案层22,这样使得柔性基板中的有机膜层和无机膜层之间的接触面积增大,这样膜层间的粘附力增强,膜层间不易发生剥离,这样阵列基板弯折时,柔性基板中有机膜层和无机膜层不易剥离,确保了阵列基板的正常使用。
实施例九
本实施例提供一种显示面板,其中,显示面板至少包括上述实施例八中的阵列基板,以及设在阵列基板上的若干发光单元,其中,发光单元通过像素限定层隔开。
本实施例中,通过阵列基板中包括上述的柔性基板,而柔性基板中的图案层20包括第一图案层21和第二图案层22,这样使得柔性基板中的有机膜层和无机膜层之间的接触面积增大,这样膜层间的粘附力增强,膜层间不易发生剥离,这样显示面板弯折时,显示面板中的柔性基板的有机膜层和无机膜层不易剥离,确保了显示面板的正常使用。
实施例十
本实施例提供一种显示装置,其中,显示装置至少包括上述实施例九中的显示面板。
本实施例中,通过显示面板中包括上述的柔性基板,而柔性基板中的图案层20包括第一图案层21和第二图案层22,这样使得柔性基板中的有机膜层和无机膜层之间的接触面积增大,这样膜层间的粘附力增强,膜层间不易发生剥离,这样显示装置弯折时,显示面板中的柔性基板的有机膜层和无机膜层不易剥离,确保了显示装置的正常使用。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应作广义理解,例如,可以使固定连接,也可以是通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或者两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非是另有精确具体地规定。
本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (2)

1.一种柔性基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
在衬底上形成膜层,且所述膜层经过至少两次图案化处理,形成图案层,且所述图案层包括位于所述衬底上的第一图案层以及至少部分图案位于所述第一图案层上的第二图案层;
在形成了所述第一图案层和所述第二图案层的所述衬底上,沉积阻挡层,所述阻挡层覆盖所述第一图案层、所述第二图案层和所述衬底;
其中,所述膜层和所述阻挡层中其中一个为无机膜层,另一个为有机膜层;
当所述第一图案层中的图案在纵向上的截面形状为T型时,所述在衬底上形成膜层,且所述膜层经过至少两次图案化处理形成图案层,包括:
在所述衬底上形成第一膜层,并对所述第一膜层进行第一次图案化处理,形成多个间隔设置的柱状结构;
在形成了所述柱状结构的所述衬底上填充可移除的第一有机胶层,其中,所述第一有机胶层与所述柱状结构平齐;
在所述第一有机胶层和所述柱状结构上沉积第二膜层,并对所述第二膜层进行图案化处理,形成多个间隔设置的块状结构,且所述块状结构与所述柱状结构形成纵向截面呈T型的第一图案层;
在所述块状结构之间填充可移除的第二有机胶层,且所述第二有机胶层与所述块状结构平齐;
在所述第二有机胶层和所述块状结构上沉积第三膜层,并对所述第三膜层进行图案化处理,形成多个图案相互间隔的第二图案层,且所述第二图案层中的图案均位于所述第一图案层上;
移除所述第一有机胶层和所述第二有机胶层,形成所述图案层。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在衬底上形成膜层之前,还包括:
在所述衬底上形成与所述衬底可剥离的薄膜层;
在所述衬底上形成膜层,包括:
在所述薄膜层上形成所述膜层。
CN201811151703.9A 2018-09-29 2018-09-29 柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置 Active CN109449290B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811151703.9A CN109449290B (zh) 2018-09-29 2018-09-29 柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811151703.9A CN109449290B (zh) 2018-09-29 2018-09-29 柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109449290A CN109449290A (zh) 2019-03-08
CN109449290B true CN109449290B (zh) 2023-05-19

Family

ID=65545878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811151703.9A Active CN109449290B (zh) 2018-09-29 2018-09-29 柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109449290B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110112292A (zh) * 2019-05-14 2019-08-09 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性显示屏及其制作方法、智能设备
CN110379923A (zh) * 2019-07-30 2019-10-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性基板及其制造方法、有机发光显示面板
CN111383535B (zh) * 2020-03-25 2022-07-08 合肥维信诺科技有限公司 显示面板及显示装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107085323A (zh) * 2017-05-26 2017-08-22 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及其制作方法、显示装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002064524A1 (fr) * 2001-02-16 2002-08-22 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Film irregulier et son procede de fabrication
KR100972148B1 (ko) * 2002-12-31 2010-07-23 엘지디스플레이 주식회사 씰패턴 하부의 적층구조에 특징을 가지는 액정표시장치
US9073287B2 (en) * 2008-12-15 2015-07-07 Industrial Technology Research Insititute Organic/inorganic multi-layered gas barrier film
EP3016090B1 (en) * 2013-12-04 2021-01-27 LG Chem, Ltd. Method for manufacturing an organic electronic device
CN104392901B (zh) * 2014-10-28 2017-08-25 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性衬底基板及其制作方法
CN104733507B (zh) * 2015-04-09 2018-05-01 京东方科技集团股份有限公司 柔性显示装置和柔性显示装置的封装方法
CN105355634B (zh) * 2015-11-20 2019-11-15 深圳市华星光电技术有限公司 薄膜晶体管阵列面板及其制作方法
CN105552247B (zh) * 2015-12-08 2018-10-26 上海天马微电子有限公司 复合基板、柔性显示装置及其制备方法
CN105702624A (zh) * 2016-03-30 2016-06-22 武汉华星光电技术有限公司 叠层柔性基板及制作方法
CN106158740A (zh) * 2016-09-26 2016-11-23 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 柔性衬底基板和柔性oled显示器的制备方法
CN106847832B (zh) * 2017-03-23 2019-04-26 武汉华星光电技术有限公司 柔性基板及柔性显示器
CN107611162A (zh) * 2017-09-13 2018-01-19 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性oled显示面板及其制作方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107085323A (zh) * 2017-05-26 2017-08-22 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及其制作方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN109449290A (zh) 2019-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109449290B (zh) 柔性基板及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置
WO2020199306A1 (zh) 显示面板和显示面板制作方法
JP2023015130A (ja) 発光装置
KR101446226B1 (ko) 플렉서블 표시장치 및 그 제조 방법
KR101238308B1 (ko) 칩렛을 갖는 가요성 oled 디스플레이
JP4472961B2 (ja) 表示装置用基板、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
EP3675169A1 (en) Method for manufacturing flexible display panel, and flexible display panel
CN105789262A (zh) 一种柔性显示基板及其制备方法、柔性显示器件
TWI524232B (zh) 觸控面板及其製造方法
CN104103648A (zh) 柔性显示设备、柔性显示母板及其制作方法
CN110349973B (zh) 阵列基板及其制作方法、显示装置
WO2019192075A1 (zh) 柔性显示器及其制作方法
CN110783382A (zh) 显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
WO2023098113A1 (zh) 触控面板以及显示装置
TW201416952A (zh) 觸控感測結構及其形成方法
TW201801303A (zh) 顯示裝置
CN109508117B (zh) 触控面板
WO2020124968A1 (zh) 柔性衬底及其制备方法
CN109935516A (zh) 一种阵列基板、其制备方法及显示装置
KR20150055212A (ko) 터치 패널 및 터치 패널의 제조 방법
US10963113B2 (en) Touch panel and fabrication method thereof
CN102360145A (zh) 一种液晶显示面板及其制作方法
CN106354319A (zh) 触摸屏的制备方法、及触控显示装置的制备方法
TW201523372A (zh) 觸控感測結構及其形成方法
WO2022179185A1 (zh) 一种可拉伸显示基板及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Application publication date: 20190308

Assignee: BAZHOU YUNGU ELECTRONIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.|KUNSHAN NEW FLAT PANEL DISPLAY TECHNOLOGY CENTER Co.,Ltd.|KUNSHAN GO-VISIONOX OPTO-ELECTRONICS Co.,Ltd.

Assignor: YUNGU (GU'AN) TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Contract record no.: X2019990000155

Denomination of invention: Flexible base plate and manufacturing method thereof, array base plate, display panel and display device

License type: Common License

Record date: 20191030

TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20191210

Address after: No. 2 Xiangshan Avenue, Yongning Street, Zengcheng District, Guangzhou, Guangdong province (the core of Zengcheng economic and Technological Development Zone)

Applicant after: Guangzhou Guoxian Technology Co.,Ltd.

Address before: 065500 Hebei Langfang County Guan emerging industry demonstration area

Applicant before: YUNGU (GU'AN) TECHNOLOGY Co.,Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant