CN109445251A - 一种减压干燥设备 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种减压干燥设备，该减压干燥设备包括密封腔室、气压调节装置以及位于密封腔室内的承载平台；承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；气压调节装置设置在所述密封腔室的侧边，气压调节装置包括向密封腔室通入保护气的主气管和支气管，支气管连接主气管，主气管在密封腔室的侧边表面上下对称设置。本发明实施例中采用上下对称主气管设计，缩短支气管供气距离，减少气流压降，使得上下气压稳定，产品特性稳定。

Description

一种减压干燥设备

技术领域

本发明涉及半导体生产设备技术领域，具体涉及一种减压干燥设备。

背景技术

TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，简称薄膜晶体管液晶显示器)的基板制作过程中，真空减压干燥(Vacuum Dry，简称VCD)是一道重要的工序。真空减压干燥是对涂布有光致抗蚀剂等膜层的涂覆液的基板进行减压干燥处理，使得膜层固化。

完整的光刻工艺通过光刻胶涂覆制程，曝光制程，显影制程三个主体步骤，完成基板上精密图形的定义。在涂覆制程后的减压干燥工序中，将涂布有光刻胶的基板置于密封腔室内，密封腔室内抽真空，使得光刻胶溶剂达到饱和蒸汽压快速挥发，挥发汽体进而随气流被抽走，达到初步干燥光刻胶的目的。

现有技术的减压干燥设备，主要是采用气流循环的方式带走玻璃基板表面光刻胶中的有机物。光刻胶本身为液态有一定的流动性，当减压干燥设备供气压力不稳定时，气流经过基板表面时有可能使光刻胶产生小范围流动，从而使得玻璃基板表面的光刻胶厚度发生不均匀的状况，影响产品特性。

发明内容

本发明实施例提供一种减压干燥设备，缩短支气管供气距离，减少气流压降，使得上下气压稳定，产品特性稳定。

为解决上述问题，本发明提供一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，所述减压干燥设备包括密封腔室、气压调节装置以及位于所述密封腔室内的承载平台；

所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；所述气压调节装置设置在所述密封腔室的侧边，所述气压调节装置包括向所述密封腔室通入保护气的主气管和支气管，所述支气管连接所述主气管，所述主气管在所述密封腔室的侧边表面上下对称设置。

进一步的，所述主气管包括上侧主气管和下侧主气管，所述上侧主气管和所述下侧主气管在所述密封腔室的侧边表面上下对称设置，所述密封腔室内可容纳2n片基板，所述上侧主气管为所述密封腔室内上侧n片基板供气，所述下侧主气管为所述密封腔室内下侧n片基板供气，其中，n为正整数。

进一步的，所述支气管采用双套管设计。

进一步的，所述支气管包括外管和内管，所述内管内形成第一空腔，所述外管和所述内管之间形成第二空腔。

进一步的，所述内管上设置有若干内管出气口，当进气通过所述主气管进入所述支气管时，填充所述第一空腔，再通过所述内管上若干内管出气口填充所述第二空腔。

进一步的，所述外管上设置有若干外管出气口，以向所述密封腔室通入保护气，使得所述密封腔室内基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。

进一步的，在所述支气管上设置有进气管，所述支气管通过所述进气管向所述密封腔室通入保护气，所述进气管上设置用于调节气流大小的蝴蝶阀。

进一步的，所述减压干燥设备还包括：

温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；其中，所述温度调节模块用以对密封腔室内基板进行局部温度调控，使得密封腔室内基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。

进一步的，所述温度调节模块嵌设于所述承载平台内，并且，所述温度调节模块的加热子模块靠近所述承载平台的上表面，所述冷却子模块贴合于所述加热子模块的底部。

进一步的，所述加热子模块为红外热辐射源，所述冷却子模块为循环水冷器。

本发明实施例减压干燥设备包括密封腔室、气压调节装置以及位于密封腔室内的承载平台；承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；气压调节装置设置在所述密封腔室的侧边，气压调节装置包括向密封腔室通入保护气的主气管和支气管，支气管连接主气管，主气管在密封腔室的侧边表面上下对称设置。本发明实施例中采用上下对称主气管设计，缩短支气管供气距离，减少气流压降，使得上下气压稳定，产品特性稳定。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有常规设计减压干燥设备的结构示意图；

图2是本发明实施例提供一种减压干燥设备的一个实施例结构示意图；

图3是本发明实施例提供的减压干燥设备中支气管的一个实施例结构示意图；

图4是本发明实施例提供的减压干燥设备中支气管的一个横截面结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体(Active-matrix organiclight-emitting diode，AMOLED)工艺中，减压干燥设备对有机光刻胶烘烤为一重要制程。目的是将光刻胶中的有机溶剂均匀的挥发出来，使得光刻胶高分子物质更好，更均匀的聚合。减压干燥设备烘烤制程主要是采用气流循环的方式带走玻璃基板表面光刻胶中的有机物。光刻胶本身为液态有一定的流动性，当减压干燥设备供气压力不稳定时，气流经过基板表面时有可能使光刻胶产生小范围流动，从而使得玻璃基板表面的光刻胶厚度发生不均匀的状况，影响产品特性。

如图1所示，为现有的一种减压干燥设备的常规结构示意图，在减压干燥设备侧边设置有向密封腔室通入保护气的总气管101和若干支气管102，密封腔室内可容纳10片基板，总气管101在设备侧边下方，自下向上供气，这样导致设备底部与上部气流压降明显，经过测试，设备底部气压明显高于上部气压，从而使得设备底部的基板与上部基板供气气流不均，从而使得设备内各玻璃基板表面的光刻胶厚度发生不均匀的状况，影响产品特性。

本发明实施例中提供一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，如图2所示，为本发明实施例中减压干燥设备的一个实施例示意图，该减压干燥设备包括密封腔室、气压调节装置以及位于该密封腔室内的承载平台；

该承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板，可以打开所述密封腔室，将待干燥处理的基板放置于所述承载平台上，或将干燥处理后的基板从密封腔室内取出。该气压调节装置设置在该密封腔室的侧边，该气压调节装置包括向该密封腔室通入保护气的主气管110和支气管120，该支气管120连接该主气管110，该主气管110在该密封腔室的侧边表面上下对称设置。

本发明实施例中采用上下对称主气管设计，缩短支气管供气距离，减少气流压降，本发明实施例中采用新设计改善后，气流模拟结果显示气流稳定性明显改善，使得上下气压稳定，产品特性稳定。

如图2所示，在本发明一些实施例中，主气管110包括上侧主气管111和下侧主气管112，该上侧主气管111和该下侧主气管112在密封腔室的侧边表面上下对称设置，该密封腔室内可容纳2n片基板，该上侧主气管111为密封腔室内上侧n片基板供气，该下侧主气管112为该密封腔室内下侧n片基板供气，其中，n为正整数，例如n为5，则密封腔室内容纳2*5＝10片基板。

本发明实施例中，在主气管采用上下对称设计时，支气管也在密封腔室侧边以中线为分割线，上下对称设计，即在密封腔室侧边上部设置若干支气管(就可以是如图2所示，并排设置若干支气管)，在密封腔室侧边下部也对称设计若干支气管。

进一步的，本发明实施例中支气管采用双套管设计。如图3所示，支气管包括外管121和内管122，该内管122内形成第一空腔123，该外管121和该内管122之间形成第二空腔124。其中，如图4所示，该外管121和内管122均截面均可以为圆形，即外管121和内管122均为圆管，外管121截面直径大于内管。

在本发明一些实施例中，该内管122上设置有若干内管出气口125，当进气通过该主气管110进入该支气管120时，填充该第一空腔123，再通过该内管122上若干内管出气口125填充该第二空腔124。

同样的，该外管121上也设置有若干外管出气口126，以向该密封腔室通入保护气，使得该密封腔室内基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。

在本发明一些实施例中，在支气管120上设置有进气管，该支气管120通过进气管向密封腔室通入保护气，该进气管上设置用于调节气流大小的蝴蝶阀，使得进气气流更加稳定均匀。

另外，承载平台可以设置于密封腔室内相对居中的位置，使得承载平台相对的两端部与密封腔室的侧壁之间存在第一空隙，并且，承载平台表面与密封腔室上盖和下盖之间具有第二空隙，承载平台相对的端部与密封腔室的侧壁之间的第一空隙以及承载平台表面与密封腔室上盖的第二空隙形成风道。

在本发明另一些实施例中，减压干燥设备还包括：温度调节模块，设置于承载平台上；该温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；其中，该温度调节模块用以对密封腔室内基板进行局部温度调控，使得密封腔室内基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。进一步的，该温度调节模块嵌设于承载平台内，并且，该温度调节模块的加热子模块靠近该承载平台的上表面，该冷却子模块贴合于该加热子模块的底部。

具体的，该承载平台包括一壳体，壳体内形成有容腔，容腔内设置有所述温度调节模块，温度调节模块包括一加热子模块与一冷却子模块，其中，加热子模块与冷却子模块层叠设置，并且，加热子模块位于冷却子模块上方，贴近承载平台的上表面，进而靠近位于承载平台表面的基板，以发挥较佳的加热效果，冷却子模块贴设于所述加热子模块的底部，以对相应的加热子模块迅速降温。

该承载平台上设置的温度调节模块至少为一个，当温度调节模块为一个时，该温度调节模块设置于承载平台的中心区域，以对基板的中心区域进行温度调控。设置于承载平台的中心区域的温度调节模块呈同心圆形分布，使得相邻的所述温度调节模块之间连接紧密，热量相互传递，利于对局部区域的快速升温与降温。

当承载平台上设置的温度调节模块为至少两个时，该温度调节模块分散设置于承载平台上；以对承载平台上的基板进行局部温度调控，使得基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。进一步的，该加热子模块为红外热辐射源，该冷却子模块为循环水冷器。

以上对本发明实施例所提供的一种减压干燥设备进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，其特征在于，所述减压干燥设备包括密封腔室、气压调节装置以及位于所述密封腔室内的承载平台；

所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；所述气压调节装置设置在所述密封腔室的侧边，所述气压调节装置包括向所述密封腔室通入保护气的主气管和支气管，所述支气管连接所述主气管，所述主气管在所述密封腔室的侧边表面上下对称设置。

2.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述主气管包括上侧主气管和下侧主气管，所述上侧主气管和所述下侧主气管在所述密封腔室的侧边表面上下对称设置，所述密封腔室内可容纳2n片基板，所述上侧主气管为所述密封腔室内上侧n片基板供气，所述下侧主气管为所述密封腔室内下侧n片基板供气，其中，n为正整数。

3.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述支气管采用双套管设计。

4.根据权利要求3所述的减压干燥设备，其特征在于，所述支气管包括外管和内管，所述内管内形成第一空腔，所述外管和所述内管之间形成第二空腔。

5.根据权利要求4所述的减压干燥设备，其特征在于，所述内管上设置有若干内管出气口，当进气通过所述主气管进入所述支气管时，填充所述第一空腔，再通过所述内管上若干内管出气口填充所述第二空腔。

6.根据权利要求4所述的减压干燥设备，其特征在于，所述外管上设置有若干外管出气口，以向所述密封腔室通入保护气，使得所述密封腔室内基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。

7.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，在所述支气管上设置有进气管，所述支气管通过所述进气管向所述密封腔室通入保护气，所述进气管上设置用于调节气流大小的蝴蝶阀。

8.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述减压干燥设备还包括：

温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；其中，所述温度调节模块用以对密封腔室内基板进行局部温度调控，使得密封腔室内基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。

9.根据权利要求8所述的减压干燥设备，其特征在于，所述温度调节模块嵌设于所述承载平台内，并且，所述温度调节模块的加热子模块靠近所述承载平台的上表面，所述冷却子模块贴合于所述加热子模块的底部。

10.根据权利要求8所述的减压干燥设备，其特征在于，所述加热子模块为红外热辐射源，所述冷却子模块为循环水冷器。