CN109426097B - 曝光装置、调整方法和物品制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及曝光装置、调整方法和物品制造方法。提供一种曝光装置。装置中的照明光学系统包含衍射光学元件、会聚光学系统、检测从会聚光学系统出射的光束的检测器、以及能够在光路中在会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近的位置被插入/去除的第一光阑。第一光阑具有开口直径，使得当来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小。基于第一光阑被插入到所述位置中时的检测器的输出和第一光阑从所述位置缩回时的检测器的输出，控制器执行调整入射角度的处理。

Description

曝光装置、调整方法和物品制造方法
技术领域
本发明涉及曝光装置、调整方法和物品制造方法。
背景技术
通过照明光学装置照明原版(中间掩模(reticle)或掩模(mask))并且经由投影光学系统将原版的图案曝光到基板的投影曝光装置越来越需要分辨率和产量的增加。为了实现高分辨率，曝光用光的波长较短和投影光学系统的数值孔径(NA)增大(也称为“较高的NA”)是有效的。
另一方面，通过经修改的照明(环形照明、偶极照明或四极照明等)来照明原版对于提高曝光装置的分辨率是有效的。然后，衍射光学元件用于照明光学系统以形成经修改的照明是常规已知的。
如果进入衍射光学元件的光线的角度在这种照明系统中偏移，则有效光源的重心和对称性可能变差，并且曝光时的远心度(telecentricity)和覆盖性能可能劣化。如果光源单元为了缩短曝光用光的波长从相对小的超高压汞灯变为大的准分子激光器，则变得不可能将光源单元安装在曝光装置主体中，从而导致例如在第二层(floor)上布置曝光装置主体并且在第一层上布置光源单元。在这种情况下，曝光装置主体和光源单元的相对位置可能由于振动而改变，并且在照明光的光轴(中心光线)和照明光学装置的光轴之间可能发生位置偏移和角偏移。因此，必须校正位置偏移和角偏移。在常规的曝光装置中，作为校正位置偏移和角位移的方法，将曝光用光分支以将其引导到监视光学系统，并且通过专用监视器检测光轴(参见日本专利公开No.11-145033和No.2007-194600)。
但是，在常规方法中，为了检测光轴偏移，必须将光路分支以将其引导到与曝光用光不同的监视光学系统并通过专用监视器检测光轴。这种专用的监视器和监视光学系统导致设备笨重。
发明内容
本发明提供例如能够在抑制装置尺寸的增加的同时调整照明光学系统的曝光装置。
本发明在其第一方面中提供一种曝光装置，该曝光装置包括：包括：照明光学系统，被配置为用来自光源的光照射原版；投影光学系统，被配置为将原版的图案投影在基板上；和控制器，其中，照明光学系统包含：衍射光学元件，设置在光源与原版之间的光路中；会聚光学系统，被配置为会聚从衍射光学元件出射的光束；检测器，被配置为检测从会聚光学系统出射的光束；和第一光阑，能够在通过会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近被插入光路中/从光路被去除，第一光阑的开口直径被设定为使得当来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小，以及基于作为第一光阑在所述预先确定的面附近被插入光路中时的检测器的输出的第一输出和作为第一光阑在所述预先确定的面附近从光路缩回时的检测器的输出的第二输出，控制器执行调整入射角度的处理。
本发明在其第二方面中提供一种曝光装置，该曝光装置包括：照明光学系统，被配置为用来自光源的光照射原版；投影光学系统，被配置为将原版的图案投影在基板上；和控制器，其中，照明光学系统包含：衍射光学元件，设置在光源与原版之间的光路中；会聚光学系统，被配置为会聚从衍射光学元件出射的光束；检测器，被配置为检测从会聚光学系统出射的光束；和光阑，在通过会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近被布置于光路中并且具有可调整的开口直径，控制器被配置为：基于作为光阑的开口直径被设定为第一开口直径时的检测器的输出的第一输出和作为光阑的开口直径被设定为大于第一开口直径的第二开口直径时的检测器的输出的第二输出，执行调整来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度的处理，第一开口直径是当入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小的开口直径，以及
第二开口直径是即使当入射角度偏离目标角度时检测器的输出也不减小的开口直径。
本发明在其第三方面中提供一种调整照明光学系统的调整方法，该照明光学系统包括设置在光源与原版之间的光路中的衍射光学元件、被配置为会聚从衍射光学元件出射的光束的会聚光学系统和被配置为检测从会聚光学系统出射的光束的检测器，所述方法包括：通过在通过会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近将光阑布置在光路中，测量作为检测器的输出的第一输出，所述光阑被设定了当来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小的开口直径；和通过在所述预先确定的面附近从光路缩回所述光阑来测量作为检测器的输出的第二输出，其中，入射角度依次改变，在改变的入射角度中的每一个处重复第一输出的测量和第二输出的测量，并且调整入射角度，以将入射角度设定为作为第一输出与第二输出的比获得的光量比被最大化的角度。
本发明在其第四方面中提供一种调整照明光学系统的调整方法，该照明光学系统包括设置在光源与原版之间的光路中的衍射光学元件、被配置为会聚从衍射光学元件出射的光束的会聚光学系统和被配置为检测从会聚光学系统出射的光束的检测器，所述方法包括：通过将光阑的开口直径设定为当来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小的第一开口直径，测量作为检测器的输出的第一输出，所述光阑在通过会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近被布置于光路中；和通过将光阑的开口直径设定为即使当入射角度偏离目标角度时检测器的输出也不减小的第二开口直径，测量作为检测器的输出的第二输出，其中，入射角度依次改变，在改变的入射角度中的每一个处重复第一输出的测量和第二输出的测量，并且调整入射角度，以将入射角度设定为作为第一输出与第二输出的比获得的光量比被最大化的角度。
本发明在其第五方面中提供一种制造物品的物品制造方法，该方法包括：通过使用在第一方面中限定的曝光装置曝光基板；和显影在曝光中曝光了的基板，其中，从经显影的基板制造物品。
从(参照附图)对示例性实施例的以下描述，本发明的其它特征将变得清晰。
附图说明
图1是示出根据实施例的曝光装置的布置的示图；
图2是示出光阑的细节的示图；
图3是用于解释调整进入衍射光学元件的光的角度和位置的机构的示图；
图4是示出在傅立叶变换面上形成的光量分布的例子的示图；
图5A～5B是示出光线进入衍射光学元件的角度和位置的调整方法的流程图。
具体实施方式
以下将参照附图详细描述本发明的各种示例性实施例、特征和方面。
以下将参照附图详细描述本发明的实施例。注意，以下的实施例仅是本发明的实施例的特定例子，并且不限制本发明。另外，不是在以下的实施例中描述的特性特征的所有组合都是解决本发明的问题所必需的。
图1是示出根据实施例的曝光装置的布置的示图。曝光装置包括通过来自光源1的光束照明原版(掩模或中间掩模)18的照明光学系统和将原版18的图案投影在基板(晶片或液晶基板)20上的投影光学系统19。本实施例的曝光装置可以是步进扫描型曝光装置或步进重复型曝光装置。
光源1可以包括生成光(光束)的准分子激光器或汞灯。照明光学系统包括中继光学系统2、反射镜3、平行板4、光学积分器5、衍射光学元件6、会聚器透镜7、光阑9和棱镜单元10。照明光学系统还包括变焦透镜单元11、多束形成单元12、光阑13和会聚器透镜14。
中继光学系统2被设置在光源1与光学积分器5之间，并且将来自光源1的光束引导到光学积分器5。照明衍射光学元件6的光学积分器5被设置在衍射光学元件6的光源侧，并且在保持光束的发散角恒定的同时将来自光源1的光束引导到衍射光学元件6。光学积分器5可以由蝇眼透镜或微透镜阵列等形成。
衍射光学元件6被布置在用作被照明的面的原版18的共轭面或与照明光学系统的光瞳面具有傅立叶变换关系的面上。衍射光学元件6通过衍射效应变换来自光源1的光束的光强度分布，以在与投影光学系统19的光瞳面共轭的照明光学系统的光瞳面上或者照明光学系统的光瞳面的共轭面上形成期望的光强度分布。衍射光学元件6可以使用通过计算机设计的计算机生成的全息图，以在衍射图案面上获得期望的衍射图案。在投影光学系统19的光瞳面上形成的光源形状将被称为有效光源形状。衍射光学元件6被设置在光学积分器5与会聚器透镜7之间。来自光学积分器5的光束照射衍射光学元件6，通过衍射光学元件6被衍射，并且被引导到会聚器透镜7。
衍射光学元件6可以是选自形成不同的有效光源形状的多个衍射光学元件的衍射光学元件。例如，多个衍射光学元件中的每一个被安装在塔台(turret，未示出)的多个狭槽中的相应的狭槽上。多个有效光源形状可以包括小圆形形状(相对小的圆形形状)、大圆形形状(相对大的圆形形状)、环形形状、偶极、四极和另一形状。通过环形形状、偶极和四极的有效光源形状的照明方法将被称为经修改的照明。
被设置在衍射光学元件6与棱镜单元10之间的会聚器透镜7是会聚从衍射光学元件6出射的光束的会聚光学系统。会聚器透镜7会聚通过衍射光学元件6衍射的光束并且在傅立叶变换面8上形成衍射图案。傅立叶变换面8是多束形成单元12(光学积分器)与衍射光学元件6之间的面，并且在光学上与衍射光学元件6具有傅立叶变换关系。如果位于光路中的衍射光学元件6被交换，则能够改变在傅立叶变换面8上形成的衍射图案的形状。
光阑9在光路中被布置于会聚器透镜7(会聚光学系统)会聚光束的预先确定的面(傅立叶变换面8)上或预先确定的面附近的位置处。各光阑9可以由例如叶片或过滤器等形成。光阑9被布置为在会聚器透镜7(会聚光学系统)会聚光束的预先确定的面(傅立叶变换面8)附近的位置被插入光路中/从光路去除。在本实施例中，通过形成多个不同的光阑的塔台90实现这种可插入/可去除布置。具有小的开口直径的第一光阑(在后面描述其细节)和具有大的开口直径的第二光阑被安装于塔台90中的多个狭槽中的相应的狭槽上。塔台90可以另外安装用于经修改的照明的光阑。用作选择单元的塔台90通过控制器50的控制被驱动，并且选择多个光阑中的对应于衍射光学元件6的光阑以在光路中布置它。塔台90以可旋转的方式通过致动器91被驱动，从而在光路中布置选自多个光阑中的光阑。
图2示出塔台90的例子。塔台90包含可以与小圆形照明兼容的第一光阑9a和可以与大圆形照明兼容并且具有比第一光阑9a大的开口直径的第二光阑9b。塔台90还可以包括用于四极照明的四极光阑9c和用于环形照明的环形光阑9d。当改变照明光的入射光源的形状时，需要的光阑被选择并且被插入光路中。特别地，在后面描述的调整入射到光学积分器5的光束(即，入射到衍射光学元件6的光束)的位置和角度的处理中使用第一光阑9a和第二光阑9b。
重新参照图1，棱镜单元10和变焦透镜单元11被设置在光阑9与多束形成单元12(光学积分器)之间，并且用作放大在傅立叶变换面8上形成的光强度分布的变焦光学系统。棱镜单元10可以通过调整环形比等将在傅立叶变换面8上形成的衍射图案(光强度分布)引导到变焦透镜单元11。
变焦透镜单元11被设置在棱镜单元10与多束形成单元12之间。变焦透镜单元11可以通过调整与作为基准的照明光学系统的NA和投影光学系统的NA的比相关的σ值将在傅立叶变换面8上形成的衍射图案引导到多束形成单元12。
多束形成单元12被设置在变焦透镜单元11与会聚器透镜14之间，并且根据环形比、开口角度和具有调整的σ值的衍射图案，形成许多二维光源并且将它们引导到会聚器透镜14。多束形成单元12可以是由蝇眼透镜、光学导管、衍射光学元件或微透镜阵列等形成的光学积分器。光阑13被设置在多束形成单元12与会聚器透镜14之间。
会聚器透镜14被设置在多束形成单元12与原版18之间。这使得能够通过会聚从多束形成单元12引导的许多光束并且以重叠的方式照明原版18来均匀地照明原版18。
照明光学系统还包括检测从会聚器透镜7出射的光束的检测器21。例如，半反射镜15被布置于会聚器透镜14与原版18之间，并且被半反射镜15反射的光被引导到检测器21。检测器21可以包括测量光学系统16和传感器17。来自半反射镜15的光入射到测量光学系统16，并且，从测量光学系统16出射的光入射到传感器17。控制器50可以基于检测器21的输出测量光量。
控制器50综合地控制曝光装置的各单元。控制器50可以基于例如通过使用检测器21测量的光量适当地控制曝光时的曝光量。控制器50可以由包括例如CPU 51和存储器52的计算机形成。
原版18被布置于会聚器透镜14与投影光学系统19之间的位置处，并且具有被转印到基板20的图案(例如，电路图案)。原版18通过原版台架(未示出)被支撑和驱动。投影光学系统19将原版18的图案的图像投影在基板20上。投影光学系统19被设置在原版18与基板20之间，并且以光学共轭的关系保持它们。基板20通过基板台架(未示出)被支撑和驱动。
在曝光时，照明光学系统照明原版18，并且投影光学系统19将原版18的图案投影在基板20上。有效光源的形状影响被投影在基板20上的原版18的图案的分辨率。因此，能够通过形成适当的有效光源分布来提高图案的分辨率。
在本实施例中，照明光学系统还在中继光学系统2与光学积分器5(衍射光学元件6)之间包括使来自光源1的光弯曲并且将其引导到光学积分器5的反射镜3。照明光学系统还包括设置在反射镜3与光学积分器5之间的光路中的平行板4。
从光源1供给的矩形平行光束经由反射镜3和平行板4入射到光学积分器5。通过反射镜3和平行板4，能够调整入射到光学积分器5的光束(即，入射到衍射光学元件6的光束)的位置和角度。
下面将参照图3描述反射镜3和平行板4的调整机构。在本实施例中，照明光学系统包括通过调整反射镜3和平行板4调整入射到光学积分器5(即，衍射光学元件6)的光的角度和位置的调整单元30。调整单元30可以包括后面描述的致动器31、致动器32和致动器33。致动器31(第一调整机构)执行反射镜3围绕在沿图3的纸面的方向上延伸的轴(图3所示的A方向)的旋转驱动以及围绕在垂直于纸面的方向上延伸的轴(B方向)的旋转驱动。致动器32(第二调整机构)调整反射镜3在沿图3的纸面的方向(C方向)上的位置。致动器33(第三调整机构)执行平行板4围绕沿图3的纸面的轴(D方向)的旋转驱动。这使得能够调整平行板4的相对于光轴的倾角。当平行板4被旋转驱动时，入射到平行板4的光束以它相对于入射光的光轴平移的状态出射。
以下将描述反射镜3和平行板4的调整方法。光学积分器5具有使得入射到衍射光学元件6的光线的角度在衍射光学元件6的整个区域中均匀的功能。但是，如果光束入射到光学积分器5的角度超过允许值，则在光束入射到衍射光学元件6的角度中出现偏离(deviation)。如果入射到衍射光学元件6的光束的角度偏离，则在傅立叶变换面8上形成的分布偏离期望的分布。
图4示出在傅立叶变换面8上形成的光量分布的例子。在图4中，线条41代表在光入射到光学积分器5的角度不存在偏离的情况下在傅立叶变换面8上形成的光量分布。线条42代表在光入射到光学积分器5的角度存在偏离的情况下在傅立叶变换面8上形成的分布。如果在傅立叶变换面8上形成的分布如线条42那样偏离线条41，那么有效光源分布偏离期望的分布，从而使图像性能变差。另外，入射到光学积分器5的光的角度或位置偏离，从而在光学积分器5之后的光学系统中出现渐晕，从而使照明减少。因此，必须调整入射到光学积分器5的光的角度和位置的偏离。
在本实施例中，控制器50通过使用具有小开口直径的第一光阑9a和具有大开口直径的第二光阑9b控制调整单元30以调整入射到光学积分器5的光的角度和位置的偏离。对于这种调整，例如，使用光量比，该光量比是作为第一输出与第二输出的比获得的，第一输出是第一光阑9a被插入时的检测器21的输出，第二输出是第一光阑9a缩回时的检测器21的输出。为了执行该调整，第一光阑9a的开口直径的确定方式是重要的。第一光阑9a具有开口直径，使得如果来自光源1的光在光学积分器5(衍射光学元件6)上的入射角度偏离目标角度则检测器21的输出减小。如果不存在从目标角度的偏离，则假定使用第一光阑9a时的检测器21的输出(光量)例如相对于不使用第一光阑9a时(即，使用第二光阑9b时)的检测器21的输出为约97％或更高。注意，目标角度指的是没有入射角度的任何偏离的理想角度。例如，第一光阑9a的开口直径与在预先确定的面(傅立叶变换面8)上形成的光量分布的宽度相同或比其稍小。如果第一光阑9a的开口相对于通过衍射光学元件6在傅立叶变换面8上形成的光量分布的尺寸太大或太小，则光学积分器5(衍射光学元件6)上的入射角度偏离的情况下的光量比的减少小并且难以检测。在本实施例中，能够将第一光阑9a的开口直径设定为例如第一输出变得处于第二输出的80％～100％的范围内的直径，第一输出是第一光阑9a被插入时的检测器21的输出，第二输出是第一光阑9a缩回时的检测器21的输出。注意，只需要第二光阑9b的开口直径大于第一光阑9a，例如大于在傅立叶变换面8上形成的有效光源分布的宽度。通过塔台90选择第二光阑9b并且将其插入光路中对应于从光路缩回第一光阑9a。
在图4中，宽度43代表第一光阑9a的开口直径，宽度44代表第二光阑9b的开口直径。根据如上面描述的那样确定的第一光阑9a，如果不出现入射角度的偏离，则使用第一光阑9a时的光量(宽度43内的光量)不相对于使用第二光阑9b时(即，第一光阑9a缩回时)的光量(宽度44内的光量)减少。另一方面，如果出现入射角度的偏离，则使用第一光阑9a时的光量(宽度43内的光量)相对于使用第二光阑9b时(即，第一光阑9a缩回时)的光量(宽度44内的光量)减少。因此，在本实施例中，执行调整入射角度以防止这种光量的减少(光量比减小)的处理。
注意，作为通过使用塔台90从具有不同的开口直径的多个光阑进行选择的布置的替代，可以使用具有可变开口直径的虹膜光阑。通过改变虹膜光阑的开口直径，能够实现等同于第一光阑9a和第二光阑9b的插入/去除的操作。作为包括专用于调整的第一光阑9a和第二光阑9b的替代，只要满足上述的开口宽度的条件，就可以使用在曝光时使用的用于经修改的照明的光阑作为第一光阑9a和第二光阑9b。
图5A～5B是示出调整光束入射到光学积分器5(即，衍射光学元件6)的角度和位置的调整方法的流程图。在步骤S101中，控制器50将反射镜3和平行板4的位置设定为初始值，并且在光路中设定多个衍射光学元件中的用于小圆形形状的衍射光学元件。在步骤S102(第一步骤)中，控制器50控制塔台90以选择多个光阑中的第一光阑9a并且将其布置于光路中。在第一光阑9a被布置于光路中的状态下，控制器50从检测器21的输出测量光量并且将该光量作为光量1存储于存储器52中。
然后，在步骤S103(第二步骤)中，控制器50控制塔台90以选择多个光阑9中的具有比第一光阑9a大的开口直径的第二光阑9b，并且将其布置于光路中。这对应于从光路缩回第一光阑9a的操作。在第二光阑9b作为第一光阑9a的替代被布置于光路中的状态下，控制器50从检测器21的输出测量光量并且将该光量作为光量2存储于存储器52中。
然后，控制器50在步骤S104中改变A方向上的反射镜3的角度，并且返回到步骤S102和步骤S103，以测量光量1和光量2。以这种方式，控制器50依次在预先确定的范围内改变A方向上的反射镜3的角度，并且在改变的入射角度中的每一个处重复测量光量1和光量2。在完成预先确定的范围内的所有角度处的测量之后，控制器50在步骤S105中通过使用测量的光量1和光量2确定A方向上的反射镜3的最佳角度。例如，控制器50在各角度处将光量比计算为光量1与光量2的比。然后，基于这些计算的光量比，控制器50确定要调整的A方向上的反射镜3的角度(最佳角度)。例如，控制器50将光量比被最大化的角度确定为A方向上的反射镜3的最佳角度。作为替代方案，控制器50可以将获得相对于光量比被最大化的角度处的光量1的例如0.98倍光量的两个角度的中点处的角度确定为A方向上的反射镜3的最佳角度。通过该处理，作为用于调整入射角度的处理，控制器50可以例如向用户通知所确定的角度。可以通过在例如显示器(未示出)上显示所确定的角度来进行通知。作为对于入射角度的自动调整功能，控制器50可以将A方向上的反射镜3的角度控制为所确定的角度。
注意，不可能仅通过使用光量1使入射到光学积分器5的光束的角度最优化。这是由于，如果反射镜3可旋转地在A方向上被驱动，则入射到光学积分器5的光束的位置也偏移，从而在被光学积分器5遮暗(eclipse)的同时减少光量。为了与通过光学积分器5的光量的减少区分地掌握通过第一光阑9a的光量的减少，必须获得通过用光量2归一化光量1获得的值。因此，不使用光量1的值，而使用光量1和光量2的光量比。
然后，在步骤S202中，控制器50控制塔台90以将第一光阑9a布置于光路中，在这种状态下测量光量，并且将其作为光量1存储于存储器52中。然后，在步骤S203中，控制器50控制塔台90以将第二光阑9b布置于光路中，在这种状态下测量光量，并且将其作为光量2存储于存储器52中。控制器50在步骤S204中改变B方向上的反射镜3的角度，并且返回到步骤S202和S203以测量光量1和光量2。以这种方式，控制器50于在预先确定的范围内依次改变B方向上的反射镜3的角度的同时重复地测量光量1和光量2。在完成预先确定的范围内的所有角度处的测量之后，控制器50在步骤S205中通过使用测量的光量1和光量2确定B方向上的反射镜3的最佳角度。例如，控制器50在各角度处将光量比计算为光量1与光量2的比。然后，基于这些计算的光量比，控制器50确定B方向上的反射镜3的最佳角度。例如，控制器50将光量比最大化的角度确定为B方向上的反射镜3的最佳角度。作为替代方案，控制器50可以将获得相对于光量比被最大化的角度处的光量1的例如0.98倍光量的两个角度的中点处的角度确定为B方向上的反射镜3的最佳角度。这允许控制器50例如作为用于调整入射角度的处理向用户通知所确定的角度。可以通过在例如显示器(未示出)上显示所确定的角度来进行通知。作为对于入射角度的自动调整功能，控制器50可以将B方向上的反射镜3的角度控制为所确定的角度。
在以上的步骤S101～S205中，C方向上的反射镜3的位置和D方向上的平行板4的角度被固定。但是，为了防止光量1和光量2的测量精度由于光束入射到光学积分器5的大的位置偏移而下降，可以在调整C方向和D方向使得光束入射到光学积分器5的位置的偏移被最小化之后执行步骤S101～S205。
然后，以上述的方式调整C方向上的反射镜3的位置和D方向上的平行板4的角度。但是，即使C方向上的反射镜3的位置或D方向上的平行板4的角度改变，入射到光学积分器5的光束的角度也不偏离。因此，不需要观看光量比，并且只需要观看通过使用第二光阑9b获得的光量2。作为替代方案，只需要观看通过使用第一光阑9a获得的光量1。以下将只观看通过使用第二光阑9b获得的光量2。以下将描述调整C方向上的反射镜3的位置和D方向上的平行板4的角度的步骤。
在步骤S303中，控制器50控制塔台90以将第二光阑9b布置于光路中，在这种状态下测量光量，并且将其作为光量2存储于存储器52中。控制器50在步骤S304中移动C方向上的反射镜3的位置并且返回到步骤S303以测量光量2。以这种方式，控制器50当在预先确定的范围内依次改变C方向上的反射镜3的位置的同时重复地测量光量2。在完成预先确定的范围内的所有角度处的测量之后，控制器50在步骤S305中通过使用光量2确定C方向的反射镜3的最佳位置。例如，控制器50将光量2最大化的位置确定为C方向上的反射镜3的最佳位置。作为替代方案，控制器50可以将获得相对于光量2最大化的位置处的光量的例如0.98倍光量的两个位置的中点处的位置确定为C方向上的反射镜3的最佳位置。控制器50将例如C方向上的反射镜3的位置控制到由此确定的位置。
然后，在步骤S403中，控制器50控制塔台90以将第二光阑9b布置于光路中，在这种状态下测量光量，并且将其作为光量2存储于存储器52中。控制器50在步骤S404中改变D方向上的平行板4的角度并且返回到步骤S403以测量光量2。以这种方式，控制器50当在预先确定的范围内依次改变D方向上的平行板4的角度的同时重复地测量光量2。在完成预先确定的范围内的所有角度处的测量之后，控制器50在步骤S405中通过使用光量2确定D方向上的平行板4的最佳角度。例如，控制器50将光量2最大化的角度确定为D方向上的平行板4的最佳角度。作为替代方案，控制器50将获得相对于光量2最大化的角度处的光量的例如0.98倍光量的两个角度的中点处的角度确定为D方向的平行板4的最佳角度。控制器50将例如D方向的平行板4的角度控制到由此所确定的角度。
在本实施例中，能够如上面描述的那样确定A方向和B方向上的反射镜3的角度、C方向上的反射镜3的位置和D方向上的平行板4的角度。还能够分别在所确定的角度和位置处调整反射镜3和平行板4。这使得能够调整入射到光学积分器5的光的位置和角度。根据这种实施例，不必安装常规上需要的专用于调整的监视器和监视光学系统，从而使得能够在抑制装置尺寸增加的同时调整照明光学系统。
C方向上的反射镜3的位置和D方向上的平行板4的角度的调整可以是任选的。例如，如果仅通过调整A方向和B方向上的反射镜3的角度获得超过预先确定的阈值的光量比，则可以不调整C方向上的反射镜3的位置和D方向上的平行板4的角度。
<物品制造方法的实施例>
根据本发明的实施例的物品制造方法适于制造物品，例如，诸如半导体器件的微器件或具有微结构的元件。根据本实施例的物品制造方法包括通过使用上述的曝光装置在施加于基板的光致抗蚀剂上形成潜像图案的步骤(曝光基板的步骤)以及用在以上步骤中形成的潜像图案显影基板的步骤。制造方法还包括其它已知的步骤(例如，氧化、沉积、气相沉积、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂剥离、切割、接合和封装等)。与常规的方法相比，根据此实施例的物品制造方法在物品的性能、质量、生产率和制造成本中的至少一个上具有优势。
其它实施例
也可通过读出并执行记录于存储介质(也可被更完整地称为“非暂时性计算机可读存储介质”)上的计算机可执行指令(例如，一个或更多个程序)以执行上述实施例中的一个或更多个的功能并且/或者包含用于执行上述实施例中的一个或更多个的功能的一个或更多个电路(例如，专用集成电路(ASIC))的系统或装置的计算机，以及，通过由系统或装置的计算机通过例如读出并执行来自存储介质的计算机可执行指令以执行上述实施例中的一个或更多个的功能并且/或者控制一个或更多个电路以执行上述实施例中的一个或更多个的功能执行的方法，实现本发明的实施例。计算机可以包括一个或更多个处理器(例如，中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU))，并且可包含单独的计算机或单独的处理器的网络，以读出并执行计算机可执行指令。计算机可执行指令可例如从网络或存储介质被提供给计算机。存储介质可包含例如硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、分布式计算系统的存储器、光盘(诸如紧致盘(CD)、数字万用盘(DVD)或蓝光盘(BD)TM)、快擦写存储器设备和存储器卡等中的一个或更多个。
本发明的实施例还可以通过如下的方法来实现，即，通过网络或者各种存储介质将执行上述实施例的功能的软件(程序)提供给系统或装置，该系统或装置的计算机或是中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU)读出并执行程序的方法。
虽然已参照示例性实施例说明了本发明，但应理解，本发明不限于公开的示例性实施例。所附权利要求的范围应被赋予最宽的解释以包含所有这样的修改以及等同的结构和功能。

Claims (11)

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：
照明光学系统，被配置为用来自光源的光照射原版；
投影光学系统，被配置为将原版的图案投影在基板上；和
控制器，
其中，照明光学系统包含：
衍射光学元件，设置在光源与原版之间的光路中；
会聚光学系统，被配置为会聚从衍射光学元件出射的光束；
检测器，被配置为检测从会聚光学系统出射的光束；和
第一光阑，能够在通过会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近被插入光路中/从光路被去除，
第一光阑的开口直径被设定为使得当来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小，以及
基于作为第一光阑在所述预先确定的面附近被插入光路中时的检测器的输出的第一输出和作为第一光阑在所述预先确定的面附近从光路缩回时的检测器的输出的第二输出，控制器执行调整入射角度的处理。
2.根据权利要求1所述的装置，其中，第一光阑的开口直径被设定为使得第一输出处于相对于第二输出的80％～100％的范围内。
3.根据权利要求1所述的装置，还包括被配置为调整入射角度的调整机构，
其中，控制器通过调整机构依次改变入射角度，在改变的入射角度中的每一个处重复地计算作为第一输出与第二输出的比获得的光量比，并且控制调整机构以将入射角度设定为光量比被最大化的角度。
4.根据权利要求3所述的装置，其中，照明光学系统还包含被配置为使来自光源的光弯曲并且将光引导到衍射光学元件的反射镜，
调整机构包含被配置为调整反射镜的角度的第一调整机构，以及
第一调整机构调整反射镜的角度以将入射角度设定为光量比被最大化的角度。
5.根据权利要求4所述的装置，其中，调整机构还包含被配置为调整反射镜的位置的第二调整机构，以及
第二调整机构调整反射镜的位置，使得第一输出和第二输出中的一个最大化。
6.根据权利要求4所述的装置，其中，照明光学系统还包含设置在反射镜与衍射光学元件之间的光路中的板，
调整机构还包含被配置为调整该板的倾角的第三调整机构，
第三调整机构调整该倾角，使得第一输出和第二输出中的一个最大化。
7.根据权利要求1所述的装置，还包括形成有第一光阑和具有比第一光阑大的开口直径的第二光阑的塔台，
其中，通过驱动塔台，第二光阑在所述预先确定的面附近被插入光路中，并且第一光阑在所述预先确定的面附近从光路缩回。
8.根据权利要求7所述的装置，其中，塔台还包含用于曝光时的经修改的照明的光阑。
9.根据权利要求1所述的装置，其中，照明光学系统还包含被配置为照明衍射光学元件的光学积分器。
10.一种调整照明光学系统的调整方法，其特征在于，该照明光学系统包括设置在光源与原版之间的光路中的衍射光学元件、被配置为会聚从衍射光学元件出射的光束的会聚光学系统和被配置为检测从会聚光学系统出射的光束的检测器，所述方法包括：
通过在通过会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近将光阑布置在光路中，测量作为检测器的输出的第一输出，所述光阑被设定了当来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小的开口直径；和
通过在所述预先确定的面附近从光路缩回所述光阑来测量作为检测器的输出的第二输出，
其中，入射角度依次改变，在改变的入射角度中的每一个处重复第一输出的测量和第二输出的测量，并且调整入射角度，以将入射角度设定为作为第一输出与第二输出的比获得的光量比被最大化的角度。
11.一种制造物品的物品制造方法，其特征在于，该方法包括：
通过使用在权利要求1～9中的任一项中限定的曝光装置曝光基板；和
显影在曝光中曝光了的基板，
其中，从经显影的基板制造物品。
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