KR20190024816A - 노광 장치, 조정 방법, 및 물품 제조 방법 - Google Patents

노광 장치, 조정 방법, 및 물품 제조 방법 Download PDF

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Abstract

노광 장치가 제공된다. 노광 장치의 조명 광학계는, 회절 광학 소자, 집광 광학계, 집광 광학계로부터 사출되는 광속을 검출하는 검출부, 및 집광 광학계가 광속을 집광하는 광로의 미리정해진 면 근방의 위치에 대해 삽입/제거될 수 있는 제1 다이어프램을 포함한다. 제1 다이어프램은, 회절 광학 소자에 대한 광원으로부터의 광의 입사 각도가 목표 각도로부터 벗어나는 경우에 검출부의 출력이 저하되도록 하는 개구 직경을 갖는다. 제어부는, 제1 다이어프램이 상기 위치에 삽입되는 경우의 검출부 출력 및 제1 다이어프램이 상기 위치로부터 퇴피되는 경우의 검출부의 출력에 기초하여, 입사 각도를 조정하는 처리를 행한다.

Description

노광 장치, 조정 방법, 및 물품 제조 방법{EXPOSURE APPARATUS, ADJUSTING METHOD, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은, 노광 장치, 조정 방법 및 물품 제조 방법에 관한 것이다.
원판(레티클 또는 마스크)을 조명 광학 장치로 조명하고, 원판의 패턴을 투영 광학계를 통해 기판에 노광하는 투영 노광 장치에서, 해상도와 스루풋의 향상이 점점 요구되고 있다. 고해상도를 달성하기 위해서는, 노광광의 단파장화와 투영 광학계의 개구수(NA)의 증가("고 NA화"라고도 칭함)가 유효하다.
한편, 변형 조명(환형 조명, 이중극 조명, 사중극 조명 등)에 의해 원판을 조명하는 것은 노광 장치의 해상도를 높이는 데 효과적이다. 그리고, 종래, 변형 조명을 형성하기 위해서 조명 광학계에 회절 광학 소자를 사용하는 것이 알려져 있다.
이러한 조명계에서 회절 광학 소자에 입사하는 광선의 각도가 어긋나면, 유효 광원의 무게 중심 및 대칭성이 악화되고, 노광 시의 텔레센트리시티 및 오버레이 성능이 악화될 수 있다. 노광광의 단파장화를 위해서 광원 유닛을 비교적 소형인 초고압 수은 램프로부터 대형의 엑시머 레이저로 변경하면, 광원 유닛을 노광 장치 본체에 탑재하는 것이 불가능해지는데, 예를 들어 노광 장치 본체를 제2 층에 배치하고, 광원 유닛을 제1 층에 배치하게 된다. 이 경우, 진동에 의해 노광 장치 본체와 광원 유닛의 상대 위치가 변화하고, 조명광의 광축(중심 광선)과 조명 광학 장치의 광축 사이에 위치 어긋남 및 각도 어긋남이 발생할 수 있다. 따라서, 위치 어긋남과 각도 어긋남을 보정할 필요가 있다. 종래의 노광 장치에서는, 위치 어긋남 및 각도 어긋남을 보정하는 방법으로서, 노광광을 분기해서 모니터 광학계에 안내하고, 전용의 모니터에 의해 광축을 검출한다(일본 특허 공개 제11-145033호 및 제2007-194600호 참조).
그러나, 종래의 방법에서는, 광축 어긋남을 검출하기 위해서, 광로를 분기해서 노광광과는 다른 모니터용 광학계에 안내하고 전용 모니터에 의해 광축을 검출할 필요가 있다. 이러한 전용 모니터 및 모니터용 광학계는 장치의 대형화를 초래한다.
본 발명은, 예를 들어 장치 사이즈의 대형화를 억제하면서 조명 광학계를 조정할 수 있는 노광 장치를 제공한다.
본 발명은 그 일 양태에서 광원으로부터의 광으로 원판을 조명하도록 구성되는 조명 광학계, 상기 원판의 패턴을 기판에 투영하도록 구성되는 투영 광학계, 및 제어부를 포함하는 노광 장치를 제공하고, 상기 조명 광학계는, 상기 광원과 상기 원판 사이의 광로에 제공된 회절 광학 소자, 상기 회절 광학 소자로부터 사출된 광속을 집광하도록 구성되는 집광 광학계, 상기 집광 광학계로부터 사출된 광속을 검출하도록 구성되는 검출부, 및 상기 집광 광학계에 의해 상기 광속이 집광되는 미리정해진 면 근방의 상기 광로에 대해 삽입/제거될 수 있는 제1 다이어프램을 포함하고, 상기 제1 다이어프램의 개구 직경은, 상기 회절 광학 소자에 대한 상기 광원으로부터의 상기 광의 입사 각도가 목표 각도로부터 어긋날 때 상기 검출부의 출력이 저하되도록 설정되며, 상기 제어부는, 상기 제1 다이어프램이 상기 미리정해진 면 근방의 상기 광로에 삽입되는 경우의 상기 검출부의 출력인 제1 출력 및 상기 제1 다이어프램이 상기 미리정해진 면 근방의 상기 광로로부터 퇴피되는 경우의 상기 검출부의 출력인 제2 출력에 기초하여, 상기 입사 각도를 조정하는 처리를 행한다.
본 발명의 추가적인 특징은 (첨부된 도면을 참고한) 예시적인 실시형태에 대한 이하의 설명으로부터 명확해질 것이다.
도 1은 실시형태에 따른 노광 장치의 구성을 도시하는 도면이다.
도 2는 다이어프램의 상세를 도시하는 도면이다.
도 3은 회절 광학 소자에 입사하는 광의 각도 및 위치를 조정하는 기구를 설명하는 도면이다.
도 4는 푸리에 변환면에 형성되는 광량 분포의 예를 나타내는 그래프이다.
도 5a 내지 도 5b는 광선이 회절 광학 소자에 입사하는 각도 및 위치를 조정하는 방법을 나타내는 흐름도이다.
본 발명의 다양한 예시적인 실시형태, 특징 및 양태를 도면을 참고하여 이하에서 상세하게 설명한다.
본 발명의 실시형태를 첨부의 도면을 참고하여 이하에서 상세하게 설명한다. 이하의 실시형태는 본 발명의 실시형태의 구체예에 지나지 않으며, 본 발명을 한정하지 않는다. 또한, 이하의 실시형태에서 설명되는 특징의 조합 모두가 본 발명의 과제의 해결에 필수적인 것은 아니다.
도 1은 실시형태 따른 노광 장치의 구성을 도시하는 도면이다. 노광 장치는, 광원(1)으로부터의 광속에 의해 원판(마스크 또는 레티클)(18)을 조명하는 조명 광학계와, 원판(18)의 패턴을 기판(웨이퍼 또는 액정 기판)(20)에 투영하는 투영 광학계(19)를 포함한다. 본 실시형태의 노광 장치는, 스텝 앤드 스캔 방식의 노광 장치이거나, 스텝 앤드 리피트 방식의 노광 장치일 수 있다.
광원(1)은 광(광속)을 발생시키는 엑시머 레이저나 수은 램프를 포함할 수 있다. 조명 광학계는, 릴레이 광학계(2), 미러(3), 평행 평면판(4), 옵티컬 인터그레이터(5), 회절 광학 소자(6), 콘덴서 렌즈(7), 다이어프램(9), 및 프리즘 유닛(10)을 포함한다. 또한, 조명 광학계는, 줌 렌즈 유닛(11), 다 광속 형성 유닛(12), 다이어프램(13), 및 콘덴서 렌즈(14)를 포함한다.
릴레이 광학계(2)는, 광원(1)과 옵티컬 인터그레이터(5) 사이에 제공되고, 광원(1)로부터의 광속을 옵티컬 인터그레이터(5)에 유도한다. 회절 광학 소자(6)를 조명하는 옵티컬 인터그레이터(5)는, 회절 광학 소자(6)의 광원 측에 제공되고, 광원(1)으로부터의 광속을 그 발산 각도를 일정하게 유지하면서 회절 광학 소자(6)에 유도한다. 옵티컬 인터그레이터(5)는, 플라이아이 렌즈, 마이크로렌즈 어레이 등으로 형성될 수 있다.
회절 광학 소자(6)는, 피조명면인 원판(18)과 공액인 면 또는 조명 광학계의 퓨필면과 푸리에 변환 관계에 있는 면에 배치된다. 회절 광학 소자(6)는, 투영 광학계(19)의 퓨필면과 공액인 조명 광학계의 퓨필면이나 조명 광학계의 퓨필면과 공액인 면에, 광원(1)으로부터의 광속의 광 강도 분포를 회절 효과에 의해 변환해서 원하는 광 강도 분포를 형성한다. 회절 광학 소자(6)는, 회절 패턴 면에 원하는 회절 패턴이 얻어지도록 계산기에 의해 설계된 컴퓨터 생성 홀로그램(Computer Generated Hologram)을 사용해도 된다. 투영 광학계(19)의 퓨필면에 형성되는 광원 형상은 유효 광원 형상이라 지칭된다. 회절 광학 소자(6)는, 옵티컬 인터그레이터(5)와 콘덴서 렌즈(7) 사이에 제공된다. 옵티컬 인터그레이터(5)로부터의 광속은, 회절 광학 소자(6)를 조사하고, 회절 광학 소자(6)에 의해 회절되며, 콘덴서 렌즈(7)에 유도된다.
회절 광학 소자(6)는, 상이한 유효 광원 형상을 형성하는 복수의 회절 광학 소자로부터 선택된 회절 광학 소자일 수 있다. 예를 들어, 복수의 회절 광학 소자 각각이, 터렛(turret)(도시하지 않음)의 복수의 슬롯 중 대응하는 슬롯에 탑재된다. 복수의 유효 광원 형상은, 작은 원형 형상(비교적 작은 원형 형상), 큰 원형 형상(비교적 큰 원형 형상), 환형 형상, 이중극, 사중극, 및 다른 형상을 포함할 수 있다. 환형 형상, 이중극, 및 사중극의 유효 광원 형상에 의한 조명 방법은 변형 조명이라 지칭된다.
회절 광학 소자(6)와 프리즘 유닛(10) 사이에 제공되어 있는 콘덴서 렌즈(7)는, 회절 광학 소자(6)로부터 사출된 광속을 집광하는 집광 광학계이다. 콘덴서 렌즈(7)는, 회절 광학 소자(6)에 의해 회절된 광속을 집광하고, 푸리에 변환면(8)에 회절 패턴을 형성한다. 푸리에 변환면(8)은, 다 광속 형성 유닛(12)(옵티컬 인터그레이터)과 회절 광학 소자(6) 사이에 있는 면이며, 회절 광학 소자(6)와 광학적으로 푸리에 변환 관계에 있다. 광로에 위치하는 회절 광학 소자(6)를 교환하면, 푸리에 변환면(8)에 형성되는 회절 패턴의 형상을 변경할 수 있다.
다이어프램(9)은, 광로에서의, 콘덴서 렌즈(7)(집광 광학계)가 광속을 집광하는 미리정해진 면(푸리에 변환면(8)) 또는 미리정해진 면 근방의 위치에 배치된다. 각각의 다이어프램(9)은 예를 들어 블레이드, 필터 등에 의해 형성될 수 있다. 다이어프램(9)은, 광로에서의, 콘덴서 렌즈(7)(집광 광학계)가 광속을 집광하는 미리정해진 면(푸리에 변환면(8))의 근방의 위치에 대하여 삽입/제거되도록 배치된다. 본 실시형태에서는, 이 삽입/제거 가능한 구성은, 복수의 상이한 다이어프램이 형성된 터렛(90)에 의해 실현된다. 작은 개구 직경을 갖는 제1 다이어프램(상세는 후술)과 큰 개구 직경을 갖는 제2 다이어프램이 터렛(90)의 복수의 슬롯 중 대응하는 슬롯에 탑재된다. 터렛(90)은 추가로 변형 조명을 위한 다이어프램을 탑재할 수 있다. 선택 유닛으로서의 터렛(90)은, 제어부(50)에 의한 제어에 의해 구동되고, 복수의 다이어프램 중, 회절 광학 소자(6)에 대응하는 다이어프램을 선택해서 그것을 광로에 배치한다. 터렛(90)은, 액추에이터(91)에 의해 회전 구동되어, 복수의 다이어프램으로부터 선택된 다이어프램을 광로에 배치한다.
도 2는 터렛(90)의 예를 나타낸다. 터렛(90)은, 작은 원형 조명에 대응하는 제1 다이어프램(9a), 및 큰 원형 조명에 대응하고, 제1 다이어프램(9a)보다 개구 직경이 큰 제2 다이어프램(9b)을 포함한다. 또한, 터렛(90)은, 사중극 조명용의 사중극 다이어프램(9c) 및 환형 조명용의 링 형상 다이어프램(9d)을 포함할 수 있다. 조명광의 입사 광원의 형상을 변경할 때 필요한 다이어프램이 선택되며 광로에 삽입된다. 특히, 제1 다이어프램(9a) 및 제2 다이어프램(9b)은, 후술하는 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광속(즉, 회절 광학 소자(6)에 입사하는 광속)의 위치 및 각도를 조정하는 처리에서 사용된다.
도 1로 되돌아가면, 프리즘 유닛(10) 및 줌 렌즈 유닛(11)은, 다이어프램(9)과 다 광속 형성 유닛(12)(옵티컬 인터그레이터) 사이에 제공되고, 푸리에 변환면(8)에 형성된 광 강도 분포를 확대하는 줌 광학계로서 기능한다. 프리즘 유닛(10)은, 푸리에 변환면(8)에 형성된 회절 패턴(광 강도 분포)을, 환형율 등을 조정함으로써 줌 렌즈 유닛(11)에 유도할 수 있다.
줌 렌즈 유닛(11)은, 프리즘 유닛(10)과 다 광속 형성 유닛(12) 사이에 제공된다. 줌 렌즈 유닛(11)은, 푸리에 변환면(8)에 형성된 회절 패턴을, 기준으로서의 조명 광학계의 NA와 투영 광학계의 NA의 비에 대한 σ값을 조정함으로써 다 광속 형성 유닛(12)에 유도할 수 있다.
다 광속 형성 유닛(12)은, 줌 렌즈 유닛(11)과 콘덴서 렌즈(14) 사이에 제공되고, 환형율, 개구 각도, 및 σ값이 조정된 회절 패턴에 따라, 다수의 2차원 광원을 형성하여 그것을 콘덴서 렌즈(14)에 유도한다. 다 광속 형성 유닛(12)은, 플라이아이 렌즈, 옵티컬 파이프, 회절 광학 소자, 마이크로렌즈 어레이 등에 의해 형성되는 옵티컬 인터그레이터일 수 있다. 다 광속 형성 유닛(12)과 콘덴서 렌즈(14) 사이에는 다이어프램(13)이 제공된다.
콘덴서 렌즈(14)는, 다 광속 형성 유닛(12)과 원판(18) 사이에 제공된다. 이에 의해, 다 광속 형성 유닛(12)으로부터 유도된 다수의 광속을 집광해서 원판(18)을 중첩적으로 조명하는 것에 의해 원판(18)을 균일하게 조명할 수 있다.
조명 광학계는 또한 콘덴서 렌즈(7)로부터 사출된 광속을 검출하는 검출부(21)를 더 포함한다. 예를 들어, 콘덴서 렌즈(14)와 원판(18) 사이에 하프 미러(15)가 배치되고, 하프 미러(15)에 의해 반사된 광이 검출부(21)에 유도된다. 검출부(21)는, 계측 광학계(16)와 센서(17)를 포함할 수 있다. 하프 미러(15)로부터의 광이 계측 광학계(16)에 입사하고, 계측 광학계(16)로부터 사출된 광은 센서(17)에 입사한다. 제어부(50)는, 검출부(21)의 출력에 기초하여 광량을 계측할 수 있다.
제어부(50)는, 노광 장치의 각 유닛을 통괄적으로 제어한다. 제어부(50)는, 예를 들어 검출부(21)를 사용하여 계측된 광량에 기초하여, 노광 시의 노광량을 적절하게 제어할 수 있다. 제어부(50)는, 예를 들어 CPU(51) 및 메모리(52)를 포함하는 컴퓨터에 의해 형성될 수 있다.
원판(18)은, 콘덴서 렌즈(14)와 투영 광학계(19) 사이의 위치에 배치되고, 기판(20)에 전사되는 패턴(예를 들어, 회로 패턴)을 갖는다. 원판(18)은 원판 스테이지(도시하지 않음)에 의해 지지 및 구동된다. 투영 광학계(19)는, 원판(18)의 패턴의 상을 기판(20)에 투영한다. 투영 광학계(19)는, 원판(18)과 기판(20) 사이에 제공되고, 양자를 광학적으로 공액인 관계에 유지한다. 기판(20)은 기판 스테이지(도시하지 않음)에 의해 지지 및 구동된다.
노광 시에, 조명 광학계가 원판(18)을 조명하고, 투영 광학계(19)가 원판(18)의 패턴을 기판(20)에 투영한다. 유효 광원의 형상은, 기판(20) 위에 투영되는 원판(18)의 패턴의 해상도에 영향을 미친다. 따라서, 적절한 유효 광원 분포를 형성함으로써, 패턴의 해상도를 향상시킬 수 있다.
본 실시형태에서, 조명 광학계는 또한 릴레이 광학계(2)와 옵티컬 인터그레이터(5)(회절 광학 소자(6)) 사이에, 광원(1)으로부터의 광을 절곡해서 옵티컬 인터그레이터(5)에 유도하는 미러(3)를 포함한다. 조명 광학계는 또한 미러(3)와 옵티컬 인터그레이터(5) 사이의 광로에 제공된 평행 평면판(4)을 포함한다.
광원(1)으로부터 공급된 직사각형 평행 광속은, 미러(3) 및 평행 평면판(4)을 통해 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사한다. 미러(3) 및 평행 평면판(4)에 의해, 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광속(즉, 회절 광학 소자(6)에 입사하는 광속)의 위치 및 각도를 조정할 수 있다.
이어서, 도 3을 참조하여, 미러(3) 및 평행 평면판(4)의 조정 기구에 대해서 설명한다. 본 실시형태에서, 조명 광학계는, 미러(3) 및 평행 평면판(4)을 조정해서 옵티컬 인터그레이터(5)(즉, 회절 광학 소자(6))에 입사하는 광의 각도 및 위치를 조정하는 조정 유닛(30)을 포함한다. 조정 유닛(30)은, 이하에서 설명하는 액추에이터(31), 액추에이터(32), 및 액추에이터(33)를 포함할 수 있다. 액추에이터(31)(제1 조정 기구)는, 미러(3)의, 도 3의 지면을 따르는 방향으로 연장되는 축 주위(도 3에 도시하는 A 방향)의 회전 구동과, 지면과 직교하는 방향으로 연장되는 축 주위(B 방향)의 회전 구동을 행한다. 액추에이터(32)(제2 조정 기구)는, 미러(3)의 도 3의 지면을 따르는 방향(C 방향)의 위치를 조정한다. 액추에이터(33)(제3 조정 기구)는, 평행 평면판(4)의, 도 3의 지면을 따르는 축 주위(D 방향)의 회전 구동을 행한다. 이에 의해 평행 평면판(4)의 광축에 대한 경사 각도를 조정할 수 있다. 평행 평면판(4)을 회전 구동하면, 평행 평면판(4)에 입사한 광속은 입사광의 광축에 대하여 평행 이동한 상태에서 사출된다.
이어서, 미러(3) 및 평행 평면판(4)의 조정 방법을 설명한다. 옵티컬 인터그레이터(5)는, 회절 광학 소자(6)에 입사하는 광선의 각도를 회절 광학 소자(6)의 전 영역에서 균일하게 하는 기능을 갖는다. 그러나, 광속이 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 각도가 허용값을 초과하면, 광속이 회절 광학 소자(6)에 입사하는 각도에 어긋남이 발생한다. 회절 광학 소자(6)에 입사하는 광속의 각도가 어긋나면, 푸리에 변환면(8)에 형성되는 분포가 원하는 분포로부터 어긋난다.
도 4는, 푸리에 변환면(8)에 형성되는 광량 분포의 예를 나타낸다. 도 4에서, 그래프(41)는, 광이 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 각도에 어긋남이 없을 경우의 푸리에 변환면(8)에 형성되는 광량 분포를 나타낸다. 그래프(42)는, 광이 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 각도에 어긋남이 있을 경우의 푸리에 변환면(8)에 형성되는 분포를 나타낸다. 그래프(42)와 같이, 푸리에 변환면(8)에 형성되는 분포가 그래프(41)로부터 어긋나는 경우, 유효 광원 분포가 원하는 분포로부터 어긋나서, 상 성능을 악화시킨다. 또한, 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광의 각도 또는 위치가 어긋나면, 옵티컬 인터그레이터(5) 이후의 광학계에서 비네팅이 발생해서, 조도가 저하된다. 따라서, 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광의 각도 및 위치의 어긋남을 조정할 필요가 있다.
본 실시형태에서는, 제어부(50)는, 조정 유닛(30)을 제어하여, 작은 개구 직경의 제1 다이어프램(9a) 및 큰 개구 직경의 제2 다이어프램(9b)을 사용해서 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광의 각도 및 위치의 어긋남을 조정한다. 이 조정에는, 예를 들어 제1 다이어프램(9a)을 삽입했을 때의 검출부(21)의 출력인 제1 출력의, 제1 다이어프램(9a)을 퇴피시켰을 때의 검출부(21)의 출력인 제2 출력에 대한 비로서 구해지는 광량비가 사용된다. 이 조정을 행하기 위해서는, 제1 다이어프램(9a)의 개구 직경을 결정하는 방법이 중요하다. 제1 다이어프램(9a)은, 옵티컬 인터그레이터(5)(회절 광학 소자(6))에 대한 광원(1)으로부터의 광의 입사 각도가 목표 각도로부터 어긋나는 경우에 검출부(21)의 출력이 저하되도록 하는 개구 직경을 갖는다. 목표 각도로부터 어긋남이 없을 경우에는, 제1 다이어프램(9a)을 사용할 때의 검출부(21)의 출력(광량)이, 제1 다이어프램(9a)을 사용하지 않을 때(즉, 제2 다이어프램(9b)을 사용할 때)의 검출부(21)의 출력에 대해 예를 들어 약 97% 이상인 것으로 상정한다. 목표 각도는, 입사 각도에 어긋남이 없는 이상적인 각도를 말한다. 예를 들어, 제1 다이어프램(9a)의 개구 직경은, 미리정해진 면(푸리에 변환면(8))에 형성되는 광량 분포의 폭과 동일하거나 그보다 약간 작다. 제1 다이어프램(9a)의 개구가 회절 광학 소자(6)에 의해 푸리에 변환면(8)에 형성되는 광량 분포의 크기에 대하여 지나치게 크거나 지나치게 작은 경우에는, 옵티컬 인터그레이터(5)(회절 광학 소자(6))에 대한 입사 각도가 어긋났을 경우의 광량비의 저하가 작고, 검출이 어려워진다. 실시형태에서, 제1 다이어프램(9a)의 개구 직경은, 예를 들어 제1 다이어프램(9a)을 삽입했을 때의 검출부(21)의 출력인 제1 출력이 제1 다이어프램(9a)을 퇴피시켰을 때의 검출부(21)의 출력인 제2 출력의 80% 내지 100%의 범위로 되는 직경으로 설정할 수 있다. 제2 다이어프램(9b)의 개구 직경은, 제1 다이어프램(9a)보다 크면 되는데, 예를 들어 푸리에 변환면(8)에 형성되는 유효 광원 분포의 폭보다 크면 된다. 터렛(90)에 의해 제2 다이어프램(9b)을 선택해서 그것을 광로에 삽입하는 것은, 제1 다이어프램(9a)을 광로로부터 퇴피시키는 것에 대응한다.
도 4에서, 폭(43)은 제1 다이어프램(9a)의 개구 직경을 나타내고, 폭(44)은 제2 다이어프램(9b)의 개구 직경을 나타낸다. 상기와 같이 결정된 제1 다이어프램(9a)에 따르면, 입사 각도에 어긋남이 발생하지 않으면, 제1 다이어프램(9a)이 사용될 때의 광량(폭(43)의 내측의 광량)은, 제2 다이어프램(9b)이 사용될 때(즉, 제1 다이어프램(9a)이 퇴피될 때)의 광량(폭(44)의 내측의 광량)에 대하여 저하되지 않는다. 한편, 입사 각도에 어긋남이 발생하는 경우, 제1 다이어프램(9a)이 사용될 때의 광량(폭(43)의 내측의 광량)은, 제2 다이어프램(9b)이 사용될 때(즉, 제1 다이어프램(9a)이 퇴피될 때)의 광량(폭(44)의 내측의 광량)에 대하여 저하된다. 그러므로, 본 실시형태에서는, 이러한 광량의 저하(광량비의 저하)를 방지하도록 입사 각도를 조정하는 처리를 행한다.
또한, 터렛(90)을 사용해서 상이한 개구 직경을 갖는 복수의 다이어프램으로부터 선택하는 구성 대신에, 가변 개구 직경을 갖는 조리개를 사용해도 된다. 조리개의 개구 직경을 변경함으로써, 제1 다이어프램(9a) 및 제2 다이어프램(9b)의 삽입/제거와 등가인 동작을 실현할 수 있다. 조정에 전용인 제1 다이어프램(9a) 및 제2 다이어프램(9b)을 포함하는 대신에, 상술한 개구 폭의 조건이 충족되는 한, 노광 시에 사용되는 변형 조명용의 다이어프램을 제1 다이어프램(9a) 및 제2 다이어프램(9b)으로서 사용해도 된다.
도 5a 내지 도 5b는, 광속이 옵티컬 인터그레이터(5)(즉, 회절 광학 소자(6))에 입사하는 각도 및 위치를 조정하는 조정 방법을 나타내는 흐름도이다. 제어부(50)는, 단계 S101에서, 미러(3) 및 평행 평면판(4)의 위치를 초기값으로 설정하고, 복수의 회절 광학 소자 중 작은 원형 형상용의 회절 광학 소자를 광로로 설정한다. 제어부(50)는, 단계 S102(제1 단계)에서, 터렛(90)을 제어하여, 복수의 다이어프램 중 제1 다이어프램(9a)을 선택해서 그것을 광로에 배치한다. 제어부(50)는, 제1 다이어프램(9a)이 광로에 배치된 상태에서, 검출부(21)의 출력으로부터 광량을 계측하고, 이 광량을 광량(1)으로서 메모리(52)에 저장한다.
이어서, 제어부(50)는, 단계 S103(제2 단계)에서, 터렛(90)을 제어해서 복수의 다이어프램(9) 중 제1 다이어프램(9a)보다 큰 개구 직경을 갖는 제2 다이어프램(9b)을 선택하고, 그것을 광로에 배치한다. 이것은, 제1 다이어프램(9a)을 광로로부터 퇴피시키는 동작에 대응한다. 제어부(50)는, 제1 다이어프램(9a) 대신에 제2 다이어프램(9b)이 광로에 배치된 상태에서, 검출부(21)의 출력으로부터 광량을 계측하고, 이 광량을 광량(2)으로서 메모리(52)에 저장한다.
이어서, 제어부(50)는, 단계 S104에서, 미러(3)의 A 방향의 각도를 변경하고, 단계 S102 및 S103에 복귀하여 광량(1) 및 광량(2)을 계측한다. 이렇게 해서, 제어부(50)는, 미러(3)의 A 방향의 각도를 미리정해진 범위 내에서 순차 변경하고, 변경된 입사 각도 각각에서 광량(1) 및 광량(2)을 반복적으로 계측한다. 미리정해진 범위 내의 모든 각도에서 계측이 완료된 후에, 제어부(50)는, 단계 S105에서, 계측된 광량(1) 및 광량(2)을 사용하여, 미러(3)의 A 방향의 최적 각도를 결정한다. 예를 들어, 제어부(50)는, 각 각도에서, 광량(2)에 대한 광량(1)의 비인 광량비를 산출한다. 그리고, 제어부(50)는, 이들 산출된 광량비에 기초하여, 미러(3)의 A 방향에서의 조정해야 할 각도(최적 각도)를 결정한다. 예를 들어, 제어부(50)는, 광량비가 최대가 되는 각도를, 미러(3)의 A 방향에서의 최적 각도로서 결정한다. 혹은, 제어부(50)는, 광량비가 최대가 되는 각도에서의 광량(1)에 대한 예를 들어 0.98배의 광량이 구해지는 2개의 각도의 중점에서의 각도를, 미러(3)의 A 방향에서의 최적 각도로서 결정할 수 있다. 이 처리에 의해, 제어부(50)는, 입사 각도를 조정하기 위한 처리로서, 예를 들어 결정된 각도를 유저에게 통지할 수 있다. 통지는 예를 들어 디스플레이(도시하지 않음)에 결정된 각도를 표시함으로써 행하여 질 수 있다. 제어부(50)는, 입사 각도의 자동 조정 기능으로서, 미러(3)의 A 방향의 각도를, 결정된 각도로 제어할 수 있다.
광량(1)만을 사용하여 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광속의 각도를 최적화할 수는 없다. 이는, 미러(3)를 A 방향으로 회전 구동하면, 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광속의 위치도 어긋나서, 옵티컬 인터그레이터(5)에 의해 가려지면서 광량이 저하되기 때문이다. 옵티컬 인터그레이터(5)에 의한 광량 저하와 구별해서 제1 다이어프램(9a)에 의한 광량 저하를 파악하기 위해서는, 광량(1)을 광량(2)으로 정규화하여 얻은 값을 얻을 필요가 있다. 따라서, 광량(1)의 값이 아니고, 광량(1)과 광량(2)의 광량비를 사용한다.
이어서, 제어부(50)는, 단계 S202에서, 터렛(90)을 제어해서 제1 다이어프램(9a)을 광로에 배치하고, 그 상태에서 광량을 계측하며, 이것을 광량(1)으로서 메모리(52)에 저장한다. 이어서, 제어부(50)는, 단계 S203에서, 터렛(90)을 제어해서 제2 다이어프램(9b)을 광로에 배치하고, 그 상태에서 광량을 계측하고, 이것을 광량(2)으로서 메모리(52)에 저장한다. 제어부(50)는, 단계 S204에서, 미러(3)의 B 방향의 각도를 변경하고, 단계 S202 및 S203로 되돌아가서 광량(1) 및 광량(2)을 계측한다. 이렇게 해서, 제어부(50)는, 미러(3)의 B 방향의 각도를 미리정해진 범위 내에서 순차 변경하면서, 광량(1) 및 광량(2)을 반복적으로 계측한다. 미리정해진 범위 내의 모든 각도에서 계측이 완료되면, 제어부(50)는, 단계 S205에서, 계측된 광량(1) 및 광량(2)을 사용하여, 미러(3)의 B 방향의 최적 각도를 결정한다. 예를 들어, 제어부(50)는, 각 각도에서, 광량(2)에 대한 광량(1)의 비인 광량비를 산출한다. 그리고, 제어부(50)는, 이들 산출된 광량비에 기초하여, 미러(3)의 B 방향에서의 최적 각도를 결정한다. 예를 들어, 제어부(50)는, 광량비가 최대가 되는 각도를, 미러(3)의 B 방향에서의 최적 각도로서 결정한다. 혹은, 제어부(50)는, 광량비가 최대가 되는 각도에서의 광량(1)에 대한 예를 들어 0.98배의 광량이 얻어지는 2개의 각도의 중점에서의 각도를, 미러(3)의 B 방향에서의 최적 각도로서 결정할 수 있다. 이에 의해, 제어부(50)는, 입사 각도를 조정하기 위한 처리로서, 예를 들어 결정된 각도를 유저에게 통지할 수 있다. 통지는 예를 들어 디스플레이(도시하지 않음)에 결정된 각도를 표시함으로써 행하여 질 수 있다. 제어부(50)는, 입사 각도의 자동 조정 기능으로서, 미러(3)의 B 방향의 각도를, 결정된 각도로 제어해도 된다.
이상의 단계 S101 내지 S205에서, 미러(3)의 C 방향의 위치와 평행 평면판(4)의 D 방향의 각도는 고정된다. 단, 광속이 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 위치가 크게 어긋나서 광량(1) 및 광량(2)의 계측 정밀도가 저하되는 것을 방지하기 위해서, 광속이 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 위치의 어긋남이 최소화되도록 C 및 D 방향을 조정한 후에 단계 S101 내지 S205를 실행해도 된다.
이어서, 상술한 바와 같이, 미러(3)의 C 방향에서의 위치 및 평행 평면판(4)의 D 방향에서의 각도를 조정한다. 단, 미러(3)의 C 방향에서의 위치 또는 평행 평면판(4)의 D 방향에서의 각도를 변경해도, 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광속의 각도는 어긋나지 않는다. 따라서, 광량비를 볼 필요는 없고, 제2 다이어프램(9b)을 사용하여 얻은 광량(2) 만을 보면 된다. 혹은, 제1 다이어프램(9a)을 사용하여 얻은 광량(1)만을 보면 된다. 이하에서는, 제2 다이어프램(9b)을 사용하여 얻은 광량(2)만을 보기로 한다. 이하, 미러(3)의 C 방향에서의 위치 및 평행 평면판(4)의 D 방향에서의 각도를 조정하는 단계를 설명한다.
제어부(50)는, 단계 S303에서, 터렛(90)을 제어해서 제2 다이어프램(9b)을 광로에 배치하고, 그 상태에서 광량을 계측하며, 이것을 광량(2)으로서 메모리(52)에 저장한다. 제어부(50)는, 단계 S304에서, 미러(3)의 C 방향의 위치를 이동시키고, 단계 S303로 되돌아가서 광량(2)을 계측한다. 이렇게 해서, 제어부(50)는, 미러(3)의 C 방향의 위치를 미리정해진 범위 내에서 순차 변경하면서, 광량(2)을 반복적으로 계측한다. 미리정해진 범위 내에서 모든 위치에서의 계측이 완료되면, 제어부(50)는, 단계 S305에서, 광량(2)을 사용해서 미러(3)의 C 방향의 최적 위치를 결정한다. 예를 들어, 제어부(50)는, 광량(2)이 최대가 되는 위치를, 미러(3)의 C 방향에서의 최적 위치로서 결정한다. 혹은, 제어부(50)는, 광량(2)이 최대가 되는 위치에서의 광량에 대한 예를 들어 0.98배의 광량이 얻어지는 2개의 위치의 중점에서의 위치를, 미러(3)의 C 방향에서의 최적 위치로서 결정할 수 있다. 제어부(50)는, 예를 들어 미러(3)의 C 방향의 위치를, 이와 같이 하여 결정된 위치로 제어한다.
이어서, 제어부(50)는, 단계 S403에서, 터렛(90)을 제어해서 제2 다이어프램(9b)을 광로에 배치하고, 그 상태에서 광량을 계측하며, 이것을 광량(2)으로서 메모리(52)에 저장한다. 제어부(50)는, 단계 S404에서, 평행 평면판(4)의 D 방향의 각도를 변경하고, 단계 S403로 되돌아가서 광량(2)을 계측한다. 이렇게 해서, 제어부(50)는, 평행 평면판(4)의 D 방향의 각도를 미리정해진 범위 내에서 순차 변경하면서, 광량(2)을 반복적으로 계측한다. 미리정해진 범위 내에서 모든 각도에서의 계측이 완료되면, 제어부(50)는, 단계 S405에서, 광량(2)을 사용해서 평행 평면판(4)의 D 방향의 최적 각도를 결정한다. 예를 들어, 제어부(50)는, 광량(2)이 최대가 되는 각도를, 평행 평면판(4)의 D 방향에서의 최적 각도로서 결정한다. 혹은, 제어부(50)는, 광량(2)이 최대가 되는 각도에서의 광량에 대한 예를 들어 0.98배의 광량이 얻어지는 2개의 각도의 중점에서의 각도를, 평행 평면판(4)의 D 방향에서의 최적 각도로서 결정한다. 제어부(50)는, 예를 들어 평행 평면판(4)의 D 방향의 각도를 이와 같이 하여 결정된 각도로 제어한다.
본 실시형태에서는, 이상과 같이 하여, 미러(3)의 A 및 B 방향의 각도 및 미러(3)의 C 방향에서의 위치, 및 평행 평면판(4)의 D 방향의 각도를 결정할 수 있다. 나아가, 미러(3) 및 평행 평면판(4)을 각각 결정된 각도 및 위치로 조정할 수 있다. 이에 의해, 옵티컬 인터그레이터(5)에 입사하는 광의 위치 및 각도를 조정할 수 있다. 이러한 실시형태에 따르면, 종래 필요했던 조정 전용의 모니터 및 모니터 광학계를 설치할 필요가 없고, 장치 사이즈의 대형화를 억제하면서 조명 광학계를 조정할 수 있다.
미러(3)의 C 방향에서의 위치 및 평행 평면판(4)의 D 방향에서의 각도의 조정은 옵션일 수 있다. 예를 들어, 미러(3)의 A 및 B 방향의 각도를 조정하는 것만으로 미리정해진 임계값을 초과하는 광량비가 얻어지는 경우에는, 미러(3)의 C 방향에서의 위치 및 평행 평면판(4)의 D 방향에서의 각도를 조정하지 않을 수 있다.
<물품 제조 방법의 실시형태>
본 발명의 실시형태에 따른 물품 제조 방법은, 예를 들어 반도체 디바이스 등의 마이크로 디바이스나 미세구조를 갖는 소자 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 본 실시형태에 따른 물품 제조 방법은, 기판에 도포된 감광제에 상기의 노광 장치를 사용해서 잠상 패턴을 형성하는 단계(기판을 노광하는 단계)와, 상기 단계에서 형성된 잠상 패턴을 갖는 기판을 현상하는 단계를 포함한다. 상기 제조 방법은, 또한 다른 주지의 단계(예를 들어, 산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 및 패키징 등)을 포함한다. 본 실시형태에 따른 물품 제조 방법은, 종래의 방법에 비하여, 물품의 성능, 품질, 생산성, 및 생산 비용 중 적어도 하나에서 유리하다.
다른 실시형태
본 발명의 실시형태(들)는, 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 저장 매체(보다 완전하게는 '비일시적 컴퓨터 판독가능 저장 매체'라 칭할수도 있음)에 기록된 컴퓨터 실행가능 명령어(예를 들어, 하나 이상의 프로그램)를 판독 및 실행하고 그리고/또는 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하는 하나 이상의 회로(예를 들어, 주문형 집적 회로(ASIC))를 포함하는 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해, 그리고 예를 들어 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 저장 매체로부터 컴퓨터 실행가능 명령어를 판독 및 실행함으로써 그리고/또는 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 하나 이상의 회로를 제어함으로써 상기 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해 실행되는 방법에 의해 실현될 수도 있다. 컴퓨터는 하나 이상의 프로세서(예를 들어, 중앙 처리 유닛(CPU), 마이크로 처리 유닛(MPU))를 포함할 수 있고 컴퓨터 실행가능 명령어를 판독 및 실행하기 위한 별도의 컴퓨터 또는 별도의 프로세서의 네트워크를 포함할 수 있다. 컴퓨터 실행가능 명령어는 예를 들어 네트워크 또는 저장 매체로부터 컴퓨터에 제공될 수 있다. 저장 매체는, 예를 들어 하드 디스크, 랜덤 액세스 메모리(RAM), 리드 온리 메모리(ROM), 분산형 컴퓨팅 시스템의 스토리지, 광디스크(예를 들어, 콤팩트 디스크(CD), 디지털 다기능 디스크(DVD) 또는 블루레이 디스크(BD)TM), 플래시 메모리 디바이스, 메모리 카드 등 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
(기타의 실시예)
본 발명은, 상기의 실시형태의 1개 이상의 기능을 실현하는 프로그램을, 네트워크 또는 기억 매체를 개입하여 시스템 혹은 장치에 공급하고, 그 시스템 혹은 장치의 컴퓨터에 있어서 1개 이상의 프로세서가 프로그램을 읽어 실행하는 처리에서도 실현가능하다.
또한, 1개 이상의 기능을 실현하는 회로(예를 들어, ASIC)에 의해서도 실행가능하다.
본 발명을 예시적인 실시형태를 참고하여 설명하였지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시형태로 한정되지 않음을 이해해야 한다. 이하의 청구항의 범위는 이러한 모든 변형과 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 최광의로 해석되어야 한다.

Claims (14)

  1. 노광 장치이며,
    광원으로부터의 광으로 원판을 조명하도록 구성되는 조명 광학계;
    상기 원판의 패턴을 기판에 투영하도록 구성되는 투영 광학계; 및
    제어부를 포함하고,
    상기 조명 광학계는,
    상기 광원과 상기 원판 사이의 광로에 제공된 회절 광학 소자,
    상기 회절 광학 소자로부터 사출된 광속을 집광하도록 구성되는 집광 광학계,
    상기 집광 광학계로부터 사출된 광속을 검출하도록 구성되는 검출부, 및
    상기 집광 광학계에 의해 상기 광속이 집광되는 미리정해진 면 근방의 상기 광로에 대해 삽입/제거될 수 있는 제1 다이어프램을 포함하고,
    상기 제1 다이어프램의 개구 직경은, 상기 회절 광학 소자에 대한 상기 광원으로부터의 상기 광의 입사 각도가 목표 각도로부터 어긋날 때 상기 검출부의 출력이 저하되도록 설정되며,
    상기 제어부는, 상기 제1 다이어프램이 상기 미리정해진 면 근방의 상기 광로에 삽입되는 경우의 상기 검출부의 출력인 제1 출력 및 상기 제1 다이어프램이 상기 미리정해진 면 근방의 상기 광로로부터 퇴피되는 경우의 상기 검출부의 출력인 제2 출력에 기초하여, 상기 입사 각도를 조정하는 처리를 행하는 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 다이어프램의 상기 개구 직경은, 상기 제1 출력이 상기 제2 출력에 대해 80% 내지 100%의 범위에 있도록 설정되는 노광 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 입사 각도를 조정하도록 구성되는 조정 기구를 더 포함하며,
    상기 제어부는, 상기 조정 기구에 의해 상기 입사 각도를 순차 변경하고, 변경된 상기 입사 각도 각각에서 상기 제1 출력의 상기 제2 출력에 대한 비로서 구해지는 광량비를 반복적으로 산출하고, 상기 입사 각도를 상기 광량비가 최대가 되는 각도로 설정하도록 상기 조정 기구를 제어하는 노광 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 조명 광학계는, 상기 광원으로부터의 상기 광을 절곡해서 상기 광을 상기 회절 광학 소자에 유도하도록 구성되는 미러를 더 포함하고,
    상기 조정 기구는, 상기 미러의 각도를 조정하도록 구성되는 제1 조정 기구를 포함하며,
    상기 제1 조정 기구는, 상기 입사 각도를 상기 광량비가 최대가 되는 각도로 설정하도록 상기 미러의 상기 각도를 조정하는 노광 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 조정 기구는 상기 미러의 위치를 조정하도록 구성되는 제2 조정 기구를 더 포함하며,
    상기 제2 조정 기구는, 상기 제1 출력 및 상기 제2 출력 중 하나가 최대가 되도록 상기 미러의 상기 위치를 조정하는 노광 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 조명 광학계는, 상기 미러와 상기 회절 광학 소자 사이의 상기 광로에 제공된 판을 더 포함하고,
    상기 조정 기구는, 상기 판의 경사 각도를 조정하도록 구성되는 제3 조정 기구를 더 포함하며,
    상기 제3 조정 기구는, 상기 제1 출력 및 상기 제2 출력 중 하나가 최대가 되도록 상기 경사 각도를 조정하는 노광 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제1 다이어프램과, 상기 제1 다이어프램보다 큰 개구 직경을 갖는 제2 다이어프램이 형성된 터렛을 더 포함하고,
    상기 터렛을 구동함으로써, 상기 제2 다이어프램이 상기 미리정해진 면 근방의 상기 광로에 삽입되며, 상기 제1 다이어프램이 상기 미리정해진 면 근방의 상기 광로로부터 퇴피되는 노광 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 터렛은 노광 시의 변형 조명용의 다이어프램을 더 포함하는 노광 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 조명 광학계는, 상기 회절 광학 소자를 조명하도록 구성되는 옵티컬 인터그레이터를 더 포함하는 노광 장치.
  10. 노광 장치이며,
    광원으로부터의 광으로 원판을 조명하도록 구성되는 조명 광학계;
    상기 원판의 패턴을 기판에 투영하도록 구성되는 투영 광학계; 및
    제어부를 포함하고,
    상기 조명 광학계는,
    상기 광원과 상기 원판 사이의 광로에 제공된 회절 광학 소자,
    상기 회절 광학 소자로부터 사출된 광속을 집광하도록 구성되는 집광 광학계,
    상기 집광 광학계로부터 사출된 광속을 검출하도록 구성되는 검출부, 및
    상기 광속이 상기 집광 광학계에 의해 집광되는 미리정해진 면 근방의 상기 광로에 배치되고 조정가능한 개구 직경을 갖는 다이어프램을 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 다이어프램의 상기 개구 직경이 제1 개구 직경으로 설정되는 경우의 상기 검출부의 출력인 제1 출력 및 상기 다이어프램의 상기 개구 직경이 상기 제1 개구 직경보다 큰 제2 개구 직경으로 설정되는 경우의 상기 검출부의 출력인 제2 출력에 기초하여, 상기 회절 광학 소자에 대한 상기 광원으로부터의 상기 광의 입사 각도를 조정하는 처리를 행하도록 구성되고,
    상기 제1 개구 직경은, 상기 입사 각도가 목표 각도로부터 벗어날 때에 상기 검출부의 출력이 저하되는 개구 직경이며,
    상기 제2 개구 직경은, 상기 입사 각도가 상기 목표 각도로부터 벗어날 때에 상기 검출부의 상기 출력이 저하되지 않는 개구 직경인 노광 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 다이어프램은 조리개인 노광 장치.
  12. 광원과 원판 사이의 광로에 제공된 회절 광학 소자, 상기 회절 광학 소자로부터 사출된 광속을 집광하도록 구성되는 집광 광학계, 및 상기 집광 광학계로부터 사출한 광속을 검출하도록 구성되는 검출부를 포함하는 조명 광학계를 조정하는 조정 방법이며, 상기 방법은,
    상기 집광 광학계에 의해 상기 광속이 집광되는 미리정해진 면 근방의 상기 광로에, 상기 회절 광학 소자에 대한 상기 광원으로부터의 광의 입사 각도가 목표 각도로부터 어긋나는 경우에 상기 검출부의 출력이 저하되는 개구 직경으로 설정되는 다이어프램을 배치함으로써 상기 검출부의 출력인 제1 출력을 계측하는 단계; 및
    상기 미리정해진 면 근방의 상기 광로로부터 상기 다이어프램을 퇴피시킴으로써 상기 검출부의 출력인 제2 출력을 계측하는 단계를 포함하며,
    상기 입사 각도는 순차 변경되고, 상기 제1 출력의 계측 및 상기 제2 출력의 계측은 변경된 상기 입사 각도 각각에서 반복되며, 상기 입사 각도는 상기 입사 각도를 상기 제1 출력의 상기 제2 출력에 대한 비로서 얻어지는 광량비가 최대가 되는 각도로 설정하도록 조정되는 조정 방법.
  13. 광원과 원판 사이의 광로에 제공된 회절 광학 소자, 상기 회절 광학 소자로부터 사출된 광속을 집광하도록 구성되는 집광 광학계, 및 상기 집광 광학계로부터 사출한 광속을 검출하도록 구성되는 검출부를 포함하는 조명 광학계를 조정하는 조정 방법이며, 상기 방법은,
    상기 광속이 상기 집광 광학계에 의해 집광되는 미리정해진 면 근방의 상기 광로에 배치된 다이어프램의 개구 직경을, 상기 회절 광학계에 대한 상기 광원으로부터의 상기 광의 입사 각도가 목표 각도로부터 어긋나는 경우에 상기 검출부의 출력이 저하되는 제1 개구 직경으로 설정함으로써 상기 검출부의 출력인 제1 출력을 계측하는 단계; 및
    상기 다이어프램의 상기 개구 직경을, 상기 입사 각도가 상기 목표 각도로부터 어긋나는 경우에도 상기 검출부의 상기 출력이 저하되지 않는 제2 개구 직경으로 설정함으로써 상기 검출부의 출력인 제2 출력을 계측하는 단계를 포함하며,
    상기 입사 각도는 순차 변경되고, 상기 제1 출력의 계측 및 상기 제2 출력의 계측은 변경된 상기 입사 각도 각각에서 반복되며, 상기 입사 각도는 상기 입사 각도를 상기 제1 출력의 상기 제2 출력에 대한 비로서 얻어지는 광량비가 최대가 되는 각도로 설정하도록 조정되는 조정 방법.
  14. 물품을 제조하는 물품 제조 방법이며, 상기 방법은,
    제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에서 규정된 노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 단계; 및
    상기 노광 단계에서 노광된 상기 기판을 현상하는 단계를 포함하며,
    상기 물품은 현상된 상기 기판으로부터 제조되는 물품 제조 방법.
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