CN109417840B - 具有多个馈送端口的微波炉的波导的rf功率控制系统及其方法 - Google Patents

Abstract

公开了一种电磁烹饪装置。所述烹饪装置包括加热腔体和至少一个电磁能量源，所述至少一个电磁能量源构造成产生辐射并经由供应腔体与所述加热腔体连通。所述烹饪装置还包括第一端口和第二端口，所述第一端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第一区域中，所述第二端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第二区域中。沿所述供应腔体设置有隔板。所述隔板构造成调节自所述第一端口发射到所述加热腔体中的所述辐射和自所述第二端口发射到所述加热腔体中的所述辐射的比例。

Description

具有多个馈送端口的微波炉的波导的RF功率控制系统及其 方法

技术领域

本装置总体上涉及一种烹饪器具，并且更具体地涉及一种电磁烹饪装置。

发明内容

在至少一个方面，公开了一种电磁烹饪装置。所述烹饪装置包括：加热腔体和至少一个电磁能量源，所述至少一个电磁能量源构造成产生辐射并经由供应腔体与所述加热腔体连通。所述烹饪装置还包括第一端口和第二端口，所述第一端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第一区域中，所述第二端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第二区域中。沿所述供应腔体设置有隔板。所述隔板构造成调节自所述第一端口发射到所述加热腔体中的所述辐射和自所述第二端口发射到所述加热腔体中的所述辐射的比例。

在至少另一方面，公开了一种电磁烹饪装置。所述装置包括加热腔体和至少一个电磁能量源，所述至少一个电磁能量源构造成产生辐射并经由供应腔体与所述加热腔体连通。所述装置还包括构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第一区域和第二区域中的多个供应端口。沿所述供应腔体设置有至少一个隔板。所述隔板构造成调节自所述供应端口中每一者发射到所述加热腔体中的所述辐射的比例。

所述烹饪装置还包括控制器和至少一个致动器。所述至少一个致动器构造成调节所述至少一个隔板的位置以控制自所述第一端口发射的所述辐射和自所述第二端口发射的所述辐射的所述比例。所述控制器与所述致动器和所述至少一个电磁能量源通信。所述控制器构造成控制来自所述至少一个电磁能量源的所述辐射的发射以及控制所述致动器的位置，由此调节自所述端口中每一者发射的所述辐射的比例。

在至少另一方面，公开了一种控制加热腔体中的电磁能量的分布的方法。所述方法包括：产生对应于电磁辐射的放大信号，以及将所述辐射发射到供应腔体中。所述方法还包括控制与隔板相连的致动器，由此将所述隔板定位在第一位置。响应于将所述隔板布置在所述第一位置而自所述供应腔体的第一端口发射所述辐射。所述方法还包括：控制与所述隔板相连的所述致动器，由此将所述隔板定位在第二位置。响应于将所述隔板布置在所述第二位置而自所述供应腔体的第二端口发射所述辐射。

通过研究下述说明书、权利要求书和附图，本领域技术人员将会理解并领会本装置的这些和其他特征、优点和目的。

附图说明

在附图中：

图1是烹饪器具的示意图；

图2是说明隔板的烹饪器具的示意图；

图3A是说明第一构型的烹饪器具的示意图；

图3B是说明第二构型的烹饪器具的示意图；

图3C是说明第三构型的烹饪器具的示意图；

图4是烹饪器具的示意图，其说明了构造成随时间而调节加热腔体中的电磁能量分布的操作；

图5是说明用于烹饪器具的烹饪程序的方法的流程图；以及

图6是根据本公开内容的烹饪器具的框图。

具体实施方式

此处为了描述方便，术语“上”、“下”、“右”、“左”、“后”、“前”、“竖直”、“水平”及其派生词应当是关于如图1那样取向的装置而言的。然而，可以理解的是，除非明确指明情况相反，否则该装置可采用多种替代取向和步骤次序。同样可以理解的是，附图中所示出的和以下说明书中所描述的特定装置和过程仅仅是随附权利要求中限定的发明构思的示例性实施例。因此，除非权利要求明确说明，否则与本文公开的实施例相关的特定尺寸和其他物理特征不应当被理解为限制性的。

参照图1中所示的实施例，其示出了烹饪器具10。烹饪器具10可以包括设置在加热腔体14中的烘脆板12。烘脆板12可以构造成响应于由烹饪器具的电磁发生器产生的电磁辐射而进行加热。例如，烘脆板12可以包括构造成响应于从电磁发生器接收的电磁能而产生热能的铁氧体成分。在该构型中，烹饪器具10可以可操作成对烘脆板12进行加热以改善或调节食物负载16的烹饪过程，这一点将在本文中进一步进行讨论。

烘脆板12可以对应于片材、浅盘，容器或构造成容纳或支撑食物负载16的各种结构。在示例性实施例中，烘脆板12可以包括构造成吸收由加热腔体14中的电磁能量产生的电磁辐射或微波的铁氧体材料。烘脆板12可以由多个层和/或多种材料形成以适应于特定的应用。在一些实施例中，铁氧体材料可以分布在构造成在加热腔体14中提供所需的辐射吸收的载体材料中。在一些实施例中，烹饪器具10可以可操作成控制输送到加热腔体14的电磁辐射的分布、进而以控制输送到烘脆板12的能量以及输送到食物负载16的能量。

烹饪器具10可以包括界面18。界面18可以对应于人机界面(HMI)或各种形式的控制输入。在示例性实施例中，界面18可以包括构造成传送一个或多个消息或图形以辅助烹饪器具10的操作的显示屏20。另外，界面18可以包括一个或多个可配置输入22，可配置输入22可操作成接收各种选择以控制烹饪器具10的操作。在示例性实施例中，显示屏20可以对应于构造成将输入22中的一者或多者整合为软键或可编程输入的触摸屏界面。因此，烹饪器具10可以以各种方式构造以适应于期望的应用。

在示例性实施例中，烹饪器具10可以对应于构造成通过将电磁辐射引入加热腔体14中来加热食物负载16的固态射频(RF)烹饪器具。辐射可以对应于从位于腔体14中的不同位置处的一个或多个端口发射到加热腔体中的一个或多个RF信号。在该构型中，烹饪器具10可以可操作成控制腔体内的电磁能量的分布。在一些实施例中，多个RF信号可以以各种频率、幅值和/或相对于每个RF信号的不同偏移相位引入加热腔体14中。其他电磁特性在各RF馈送装置之间可以是共同的。尽管以下实施例涉及烹饪器具，其中RF馈送装置引导电磁辐射以对加热腔体14中的食物负载16进行加热，但是应当理解，本文描述的方法和由此导出的发明构思不限于此。所涵盖的概念和方法适用于任何这样的RF装置，其中电磁辐射被引导到封闭腔体以作用在腔体内部的物体上。示例性装置包括烤箱、烘干机、蒸汽机等。

现在参照图2，其示出了烹饪器具10的示意图。如前所述，烹饪器具10可以构造成控制加热腔体14中的电磁能量的分布。为了控制电磁能量的分布，烹饪器具10可以包括多个发射端口32。发射端口32可以构造成将来自至少一个波导或天线34的电磁辐射引导到加热腔体14中。尽管参照示例性实施例对四个发射端口进行说明和讨论，但是发射端口32和隔板的数量可以基于器具10的特定构型而进行变化。

在一些实施例中，器具10可以包括至少一个隔板36、挡板或分隔部。隔板36在供应腔体38中的位置或取向可以由与器具10的控制器42通信的致动器40控制。控制器42可以对应于构造成控制器具10的操作的一个或多个电路或处理器。在该构型中，控制器42可以构造成调节隔板36以将来自天线34的电磁能量引导到加热腔体14的多个区域44中的期望区域中。

例如，控制器42可以构造成经由第一端口32a或第二端口32b将全部或部分电磁能量选择性地引导到加热腔体14中。在该构型中，器具10的控制器42可以调节隔板36以控制加热腔体中的电磁能量在加热腔体14的第一区域44a和第二区域44b之间的分布。第一区域44a可以对应于下部区域，从而对应于烘脆板12所处区域。第二区域44b可以对应于设置成比第一区域44a距烘脆板12更远的上部区域。在该构型中，控制器42可以调节隔板36以控制电磁辐射在第一区域44a和第二区域44b之间的分布。关于隔板36、区域44和烹饪器具10的相应操作的进一步细节将参照图3A和3B进一步讨论。

可以从与信号发生器54通信的至少一个放大器52向至少一个波导或天线34供应波型。放大器52可以可通信地联接到信号发生器54并且构造成将控制信号的电平从低电平(例如1伏-12伏)调节到高电平(例如12伏-50伏)。以该方式，放大器52可以从信号发生器54接收控制信号并且将控制信号转换为放大输出信号，该放大输出信号包括构造成将能量传输到加热腔体14中的电磁能量。控制信号的幅值的放大可以由放大器52的电源56提供。在一些实施例中，放大器52可以构造成输出范围从50瓦到350瓦的RF信号。取决于实现方式，每个放大器52的最大输出瓦特数均可以大于或小于350瓦。

电源56可以将来自市电的电力提供给控制器42、信号发生器54、界面18和至少一个放大器52。电源56可以构造成将市电转换为其所供电的每个装置的所需功率水平。在一些实施例中，电源56可以向放大器52输送可变输出电压电平。例如，电源56可以向放大器52输出以0.5伏步长选择性地控制的电压电平。以该方式，电源56可以构造成控制从放大器传输到天线34或波导的放大输出信号的幅值。在示例性实施例中，控制器42可以根据期望的应用和输出信号的瓦特数将从电源56输送到放大器的电压调节到各种电平(例如5V-60V)。

控制器42可以包括处理器58(例如处理器、微控制器等)和存储器60。存储器60可以用于存储控制软件，该控制软件可以由处理器58执行以控制烹饪循环。例如，存储器60可以构造成存储可经由界面18选择的一个或多个预编程的烹饪循环。在该构型中，控制器42可以可操作成控制由信号发生器54生成的一个或多个控制信号以调节来自至少一个放大器52的放大输出信号62的频率和/或相位。放大器52可以对应于晶体管、包括但不限于横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)、功率金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)、以及其他合适的器件。

基于来自信号发生器54的一个或多个控制信号，从放大器52传输到天线34的放大输出信号62可以在较宽范围的RF频带上传输。放大输出信号的传输带宽可以包括从2.4GHz到2.5GHz的范围内的频率。在一些实施例中，放大输出信号62可以配置成传输其他RF频带。例如，介于2.4GHz至2.5GHz之间的频率带宽是构成工业、科学和医疗(ISM)无线电频带的几个频带之一。其他RF频带的传输可预期，并且可以包括在由以下频率限定的ISM频带中包含的非限制性示例：13.553MHz至13.567MHz，26.957MHz至27.283MHz，902MHz至928MHz，5.725GHz至5.875GHz，以及24GHz至24.250GHz。

在一些实施例中，烹饪器具10可以包括多个放大器52。多个放大器可以对应于第一放大器52a和第二放大器52b。第一放大器52a可以构造成将第一放大输出信号62a输送到第一供应腔体38a。第一供应腔体38a可以构造成朝向第一隔板36a引导第一放大输出信号62a。控制器42可以选择性地定位第一隔板36a以经由第一端口32a、第二端口32b或端口32的组合将第一放大输出信号62a引导到加热腔体14中。在该构型中，控制器42可以引导第一放大输出信号62a的集中以调节输送到加热腔体14中的电磁能量在第一区域44a和第二区域44b之间的分布。

第二放大器52b可以构造成将第二放大输出信号62b输送到第二供应腔体38b。第二供应腔体38b可以构造成朝向第二隔板36b引导第二放大输出信号62b。控制器42可以选择性地定位第二隔板36b以经由第三端口32c、第四端口32d或端口32的组合将第二放大输出信号62b引导到加热腔体14中。在该构型中，控制器42可以引导第二放大输出信号62b的集中以调节输送到加热腔体14中的电磁能量在第一区域44a和第二区域44b之间的分布。

控制器42可以共同或单独地控制第一隔板36a和第二隔板36b的每一者以在第一区域44a和/或第二区域44b中提供第一放大输出信号62a和第二放大输出信号62b的均匀或可变分布。隔板36(一个或多个)可以通过与控制器42通信的致动器40在第一位置和第二位置(参见图3A至3C)之间调节。在该构型中，控制器42可以通过选择性地调节致动器40的位置来控制隔板36而调节隔板36的位置或取向。以该方式，可以将传输到加热腔体14中的电磁能量的分布调节为集中于第一区域44a、第二区域44b、或其组合。

与一个或多个隔板36相关联的致动器40可以对应于各种类型的机械或机电装置。例如，致动器40可以对应于直流电机、步进电机、伺服电机、螺线管等。控制器42可以向电机或电机控制器供应信号以定位隔板36。以该方式，控制器42可以选择性地定位隔板36以控制加热腔体14中的电磁能量的分布。

供应腔体38可以构造成经通道传输放大输出信号62，该通道构造成将电磁能量引导到每个端口32。通过经由致动器40控制隔板36的位置，控制器42可以控制从每个端口32发射的来自天线34或波导的辐射的比例。供应腔体38可以构造成沿加热腔体14的周边壁66传输电磁能量。在该构型中，隔板36可以构造成在第一位置76基本上阻挡第二端口32b并且在第二位置86基本上阻挡由供应腔体38形成的内部通道。以该方式，控制器42可以控制隔板36的位置以选择性地控制从对应于供应腔体38的每个端口32发射的电磁能量的比例。

现在参照图3A、图3B和图3C；其示出了烹饪器具10的示意图，并说明了隔板36的一些构型。每种构型均可以提供由烹饪器具10产生的电磁能量的不同分布。尽管参照对称地操作的第一隔板36a和第二隔板36a进行说明，但是控制器42可以构造成单独地调节每个隔板36。另外，取决于应用，烹饪器具10可以仅包括单个放大器52和隔板36，隔板36可以在第一端口32a和第二端口32b之间调节电磁能量。在附加实施例中，器具10可以包括多个放大器、隔板和端口(例如，四个放大器、四个隔板和八个端口)。以该方式，本公开提供了一种可以构造成适应于各种应用的灵活的组件。

参照图3A，以第一构型72说明烹饪器具10，在该第一构型72中，控制器42已将第一致动器40a和第二致动器40b定位成将来自每个放大器52的电磁能量集中于第一区域44a。在该构型中，电磁能量可以经由第一端口32a和/或第三端口32c靠近加热腔体14的底板74的位置处进入加热腔体14。电磁能量可以集中于烘脆板12。因此，烘脆板12的铁氧体材料可以接收和吸收比例增加的电磁能量并将该能量转换成热量。以该方式，控制器42可以将至少一个隔板36的位置调节到第一位置76以增加电磁能量和相关联的热能的比例，从而对食物负载16执行烤焦或烘脆操作。

参照图3B，以第二构型82说明烹饪器具10，在该第二构型82中，控制器42已将第一致动器40a和第二致动器40b定位成将来自每个放大器52的电磁能量集中于第二区域44b。在该构型中，电磁能量可以在远离底板74的位置处进入加热腔体14。例如，第二构型82可以将至少一个隔板36定位在第二位置86，使得辐射基本上从第二端口32b和/或第四端口32d发射。在该构型中，辐射可以在更靠近顶板88处或在位于底板74和顶板88之间的中间位置96处发射到加热腔体14中。

在第二构型82中，电磁能量可以引导到加热腔体14中、烘脆板12上方。因此，在第二构型82中，电磁能量的分布可以不如在第一构型72中那样密集地被引导到烘脆板12。以该方式，控制器42可以将至少一个隔板36的位置调节到第二位置86以相对于第一构型72减小由烘脆板12吸收的电磁能量的比例。

参照图3C，以第三构型92说明烹饪器具10。在第三构型中，控制器42可以控制第一致动器40a和第二致动器40b移到第一位置76和第二位置86之间的中间位置96。在第三构型92中，来自每个放大器52的电磁能量均可以分布于第一区域44a和第二区域44b二者中。因此，电磁能量可以被引导以从每个端口32(例如32a、32b、32c、32d等)发射、进而以在第一区域44a和第二区域44b二者之间均匀地或成比例地分配电磁能量。以该方式，控制器42可以调节加热腔体14中的能量和加热情况在第一区域44a和第二区域44b二者之间的集中方式。

现在参照图4，在一些实施例中，控制器42可以构造成单独地调节第一隔板36a和第二隔板36b的位置以调节加热腔体14中的电磁能量的分布。例如，控制器42可以构造成使第一隔板36a和第二隔板36b的位置随时间而变化、以改变整个烹饪过程中电磁能量的分布。在示例性实施例中，控制器42可以将第一致动器40a从第一位置76调节到第二位置86。同时，控制器42可以将第二致动器40b从第二位置86调节到第一位置76。该构型可以提供加热腔体中的电磁能量的变化分布。

随着时间经过，控制器42可以将第一致动器40a从第二位置86调节到第一位置76。在相同周期期间，控制器42可以将第二致动器40b从第一位置76调节到第二位置86。以该方式，控制器42可以使第一隔板36a和第二隔板36b在第一位置76和第二位置86之间交替地变化，使得从第一放大器52a发射的电磁能量输出到第一区域44a中，而从第二放大器52b发射的电磁能量输出到第二区域44b中，反之亦然。因此，控制器42可以使加热腔体14中的电磁能量的分布随时间而变化、进而以随时间而调节热量分布。

现在参照图5，其示出了描述烹饪器具10的控制程序的方法100的流程图。控制程序可以包括多个步骤，这些步骤可以由控制器42完成以执行烹饪操作。可以响应于对界面18的输入而启动烹饪操作(102)。一旦启动，控制器42就可以从存储器60中检索用于烹饪器具10的烹饪程序(104)。烹饪程序可以包括控制指令。例如，控制指令可以包括隔板36和致动器40的烹饪构型、用于信号发生器54的控制信号的频率和/或相位控制、电源56的烹饪功率或放大电压等。

通过来自存储器60的控制指令，控制器42可以经由天线34或波导产生放大输出信号62以将电磁辐射发射到供应腔体38中(106)。控制器42可以进一步控制致动器40以定位隔板36、进而以实现由控制指令指定的构型。如本文所讨论的，烹饪器具10可以包括多个出口端口32，出口端口32构造成将电磁辐射选择性地引导到加热腔体14的第一区域44a或第二区域44b中。因此，控制器42可以控制致动器40以将隔板36定位在第一位置76(108)。在第一位置76，辐射可以发射到第一区域44a中(110)，该第一区域44a可以对应于烘脆板12的位置。

控制器42可以进一步控制致动器40以将隔板36定位在第二位置86(112)。在第二位置86，辐射可以发射到第二区域44b中(114)。在该构型中，辐射可以发射到加热腔体14中、食物负载16上方，使得食物负载16所吸收的辐射比烘脆板12所吸收的辐射更多。如本文所讨论的，方法100可以在根据本公开的烹饪器具的烹饪腔体中提供电磁辐射的选择性分布。

现在参照图6，其示出了烹饪器具10的框图。如前所述，烹饪器具10可以包括控制器42，控制器42可以构造成控制烹饪器具10的各种系统。控制器42可以包括处理器58和存储器60。处理器58可以对应于构造成与界面18通信的一个或多个电路和/或处理器，并经由存储器60访问各种烹饪算法和控制逻辑。在该构型中，控制器42可以可操作成用以控制烹饪器具10的一个或多个加热源。存储在存储器60中的烹饪算法和控制逻辑可以包括各种不同的预先配置的加热分布和相关联的隔板36的位置、以提供各种烹饪结果。

烹饪器具10可以构造成通过调节至少一个隔板36的位置来调节发射到加热腔体14中的电磁能量的分布。在示例性实施例中，烹饪器具10可以包括多个隔板36，每个隔板均构造成从多个端口32处引导电磁能量。例如，控制器42可以共同或单独地控制第一隔板36a和第二隔板36b的每一者以在加热腔体14中提供电磁能量的均匀或可变分布。控制器42可以通过选择性地调节致动器40的位置来控制并调节隔板36的位置或取向。

与一个或多个隔板36相关联的致动器40可以对应于各种类型的机械或机电装置。例如，致动器40可以对应于直流电机、步进电机、伺服电机、螺线管等。控制器42可以向电机或电机控制器供应信号以定位隔板36。以该方式，控制器42可以选择性地定位隔板36以将电磁能量引导到加热腔体14中。

界面18可以对应于人机界面(HMI)或各种形式的控制输入。在示例性实施例中，界面18可以包括显示屏20，显示屏20构造成传送一个或多个消息或图形以辅助烹饪器具10的操作。另外，界面18可以包括一个或多个可配置输入22，可配置输入22可操作成用以接收各种选择以控制烹饪器具10的操作。在示例性实施例中，显示屏20可以对应于构造成将输入22中的一者或多者整合为软键或可编程输入的触摸屏界面。因此，烹饪器具10可以以各种方式构造以适应于各种应用。

本文讨论的控制器42、放大器52和各种附加电气部件可以由一个或多个电源(例如电源56)供应电流。器具10还可以包括通信电路120。通信电路120可以对应于各种有线和/或无线通信装置，控制器42可以经该通信装置进行通信和/或访问存储在远程服务器中或远程位置处的信息。例如，通信电路120可以对应于局域网接口和/或无线通信接口。无线通信接口可以构造成经各种通信协议进行通信，上述通信协议包括但不限于无线3G、4G、

CDMA、GSM和/或任何合适的无线通信协议。在该构型中，烹饪器具10的控制器42可以构造成访问用于各种不同的烹饪操作的信息。

尽管主要参照微波烹饪装置进行讨论，但烹饪器具10可以包括各种形式的加热源122，包括但不限于电阻加热元件124、一个或多个微波元件125(例如、放大器52和天线34)、对流风扇126、或如本文所述的适于加热食物的任何机构。如所描述的，本公开可以提供对烹饪器具10的各种改进，这些改进可以在不同装置中实现而不脱离本公开的精神。本领域普通技术人员将理解，所描述的装置和其他部件的构造不限于任何具体材料。除非本文另有说明，否则本文公开的装置的其他示例性实施例可由各种不同的材料形成。

出于方便描述本公开内容的目的，术语“联接”(以其全部形式、联接、联接有、联接至等)通常意味着两个部件(电气部件或机械部件)彼此直接地或间接地连结。这种连结可以在本质上是固定的，或者在本质上是可动的。这种连结可以通过两个部件(电气部件或机械部件)和彼此一体地形成为单一整体或与上述两个部件一体地形成为单一整体的任意附加的中间构件来实现。除非另有说明，这种连结可以在本质上是永久的，或者可以在本质上是可移除的或可释放的。

此外，重要的是要注意，示例性实施例中所示的装置的元件的构造和布置仅是说明性的。尽管在本公开内容中仅详细描述了本发明的少量实施例，但是查阅过本公开内容的本领域技术人员容易领会到可以进行许多修改(例如，改变各种元件的大小、尺寸、结构、形状和比例、参数值、安装布置、材料的使用、颜色、取向等)，而不实质性地偏离所记载的主题的新颖性教导和优点。例如，示出为一体地形成的元件可以由多个部分构成，或者示出为多个部分的元件可以一体地形成，界面的操作可以逆序或以其他方式改变，系统的结构和/或构件或连接器或其他元件的长度或宽度可以改变，设置于元件之间的调节位置的性质或数量可以改变。应当注意，系统的元件和/或组件可以由提供足够的强度或耐久性的各种不同的材料中的任意材料、以各种不同的颜色、纹理中的任意颜色、纹理以及它们的任意组合构造而成。因此，意在将所有这些修改包含于本发明的范围内。在所需的示例性实施例和其他示例性实施例的设计、操作条件和布置方面可以进行其他置换、修改、变更和省略而不脱离本发明的精神。

应理解，任何所描述的过程或所描述的过程中的步骤可以与其他公开的过程或步骤相结合，以形成落入本公开内容的范围内的结构。本文公开的示例性结构和过程出于说明性目的，而不应被解释为是限制性的。

还应理解，能够对上述结构和方法进行变型和修改，而不脱离本装置的构思，并且还应理解，这些构思意在由下面的权利要求覆盖，除非这些权利要求通过其语言而另外明确说明。

以上描述被认为仅是所图示的实施例的描述。本领域技术人员以及制造或使用该装置的人技术员可以想到该装置的改型。因此，应理解，附图中所示的和上面描述的实施例仅用于说明性目的，而非旨在限制装置的范围，该范围由所附权利要求限定，并且所附权利要求根据专利法原理、包括等同原则、进行解释。

Claims (18)

1.一种电磁烹饪装置，所述电磁烹饪装置包括：

加热腔体；

至少一个电磁能量源，所述至少一个电磁能量源构造成产生辐射并经由供应腔体与所述加热腔体连通；

第一端口，所述第一端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第一区域中；

第二端口，所述第二端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第二区域中；

隔板，所述隔板沿所述供应腔体设置，其中所述隔板构造成调节自所述第一端口发射到所述加热腔体中的所述辐射和自所述第二端口发射到所述加热腔体中的所述辐射的比例；以及

致动器，所述致动器与所述隔板连接并且构造成将所述隔板从第一位置调节到第二位置，其中，所述隔板在所述第一位置封闭所述第二端口并且在所述第二位置阻挡通向所述第一端口的路径，并且其中，所述隔板在所述第一位置阻挡从所述第二端口的辐射输出并在所述第二位置阻挡传送到所述第一端口的辐射。

2.根据权利要求1所述的电磁烹饪装置，其中所述第一端口定位成更靠近所述腔体的底板。

3.根据权利要求2所述的电磁烹饪装置，其中所述第二端口比所述第一端口距所述底板更远。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，其中所述第一端口和所述第二端口构造成从所述供应腔体、自所述加热腔体的周边壁处发射所述辐射。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，还包括：

烹饪结构，所述烹饪结构包括构造成响应于所述辐射而产生热能的材料。

6.根据权利要求5所述的电磁烹饪装置，其中所述烹饪结构对应于构造成搁置在所述加热腔体的底板上的盘。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，其中所述电磁能量源对应于构造成将由信号发生器供应的信号放大的放大器。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，还包括：

控制器，所述控制器与所述电磁能量源通信并且构造成控制所述辐射的频率、相位和幅值中的至少一者。

9.一种电磁烹饪装置，所述电磁烹饪装置包括：

加热腔体；

至少一个电磁能量源，所述至少一个电磁能量源构造成产生辐射并经由供应腔体与所述加热腔体连通；

多个供应端口，所述多个供应端口包括第一端口和第二端口，所述第一端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第一区域中，所述第二端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第二区域中；

至少一个隔板，所述至少一个隔板沿所述供应腔体设置，其中所述隔板构造成调节自所述供应端口中每一者发射到所述加热腔体中的所述辐射的比例；

至少一个致动器，所述至少一个致动器构造成将所述至少一个隔板从第一位置调节到第二位置以控制自所述第一端口发射的所述辐射和自所述第二端口发射的所述辐射的所述比例，其中，所述至少一个隔板在所述第一位置封闭所述第二端口并在所述第二位置阻挡通向所述第一端口的路径，并且其中，所述隔板在所述第一位置阻挡从所述第二端口的辐射输出并在所述第二位置阻挡传送到所述第一端口的辐射；以及

控制器，所述控制器与所述致动器和所述至少一个电磁能量源通信，其中所述控制器构造成：

控制来自所述至少一个电磁能量源的所述辐射的发射；以及

控制所述致动器的位置，由此调节自所述端口中每一者发射的所述辐射的比例。

10.根据权利要求9所述的电磁烹饪装置，其中所述第一区域对应于更靠近所述加热腔体的底板的下部区域。

11.根据权利要求10所述的电磁烹饪装置，其中所述第二区域对应于位于比所述第一区域距所述底板更远的位置处的上部区域。

12.根据权利要求9或10所述的电磁烹饪装置，其中所述至少一个电磁能量源对应于第一能量源和第二能量源，所述第一能量源构造成将所述辐射发射到第一供应腔体中，所述第二能量源构造成将所述辐射发射到第二供应腔体中。

13.根据权利要求12所述的电磁烹饪装置，其中所述多个供应端口进一步包括构造成将所述辐射从所述第二供应腔体发射到所述加热腔体中的第三端口和第四端口。

14.根据权利要求13所述的电磁烹饪装置，其中所述至少一个隔板对应于第一隔板和第二隔板，所述第一隔板构造成控制自所述第一端口发射的所述辐射和自所述第二端口发射的所述辐射之间的比例，所述第二隔板构造成控制自所述第三端口发射的所述辐射和自所述第四端口发射的所述辐射之间的比例。

15.一种控制加热腔体中的电磁能量的分布的方法，所述方法包括：

产生对应于电磁辐射的放大信号；

将所述辐射发射到供应腔体中；

控制与隔板相连的致动器，由此将所述隔板定位在第一位置；

响应于将所述隔板布置在所述第一位置而自所述供应腔体的第一端口发射所述辐射并利用布置在所述第一位置的所述隔板封闭所述供应腔体的第二端口，其中，所述隔板在所述第一位置阻挡从所述第二端口的辐射输出；

控制与所述隔板相连的所述致动器，由此将所述隔板定位在第二位置；以及

响应于将所述隔板布置在所述第二位置而自所述供应腔体的所述第二端口发射所述辐射并利用布置在所述第二位置的所述隔板阻挡通向所述供应腔体的所述第一端口的路径，其中，所述隔板在所述第二位置阻挡传送到所述第一端口的辐射。

16.根据权利要求15所述的方法，其中在所述第一位置和所述第二位置之间控制所述致动器导致在所述第一位置时将所述辐射发射到所述加热腔体的第一区域中以及在所述第二位置时将所述辐射发射到所述加热腔体的第二区域中。

17.根据权利要求15或16所述的方法，还包括：

控制信号发生器以调节控制信号的频率；以及

放大所述控制信号以形成放大信号。

18.根据权利要求15或16所述的方法，还包括：

控制来自电源的供给电压，由此控制所述放大信号的幅值。

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