CN109416462B - 显微术的布置和校正像差的布置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显微术的布置(1)，包括具有照明镜头(2)的照明光学单元以通过照明束路径在样品平面(4)的样品区域中照明位于样品保持件(7)上的样品(5)，其中照明镜头(2)的光轴(A1)位于与样品平面(4)的法线形成非零的照明角(α1)的平面中，将样品保持件(7)关于该样品平面(4)取向，并且在平面中实现照明。此外，在检测束路径中存在具有检测镜头(3)的检测光学单元，该检测镜头(3)的光轴(A2)与样品平面(4)的法线形成非零的检测角(α2)。照明镜头(2)和/或检测镜头(3)包括布置在束路径中的照明校正元件(2KE)和/或检测校正元件(3KE)。根据本发明，样品保持件(7)和镜头(2、3)具有在它俩之间的弯月形透镜(10)，该弯月形透镜布置在照明束路径中和检测束路径中并且配置为校正像差。照明校正元件(2KE)和/或检测校正元件(3KE)配置为校正剩余的像差。

Description

显微术的布置和校正像差的布置

技术领域

本发明涉及一种根据独立权利要求1的前序部分的显微术的布置。

背景技术

光片显微术的主要应用中的一个在于以几百μm上至若干毫米的尺寸来成像例如有机体的中型样品。通常，这些样品包埋在琼脂糖中并且布置在玻璃毛细管中。出于检查样品的目的，将玻璃毛细管引入到充满水的样品室。将具有样品的琼脂糖稍微地按压出毛细管并且由光片照明。通过检测物镜，将样品中激发的并且从样品发出的荧光成像到特别是照相机的检测器上，该检测物镜垂直于光片并且因此还垂直于光片光学单元(＝照明光学单元，照明物镜)。

根据现有技术，光片显微术的显微镜0的布局(SPIM布局、单平面照明显微术)包括具有第一光轴A1的照明物镜2和具有第二光轴A2的检测物镜3(下面也称为SPIM物镜)，将照明物镜2和检测物镜3各自从上方相对于样品平面4以45°的角α1或α2且关于彼此成直角指引到样品平面4上(参见图1a)。布置在样品平面4中所提供的样品区域中的样品5位于例如实施为培养皿的样品保持件7的基底上，该样品平面4还用作参考平面。用例如水的介质8填充样品保持件7，并且在应用光片显微术期间将两个SPIM物镜2、3浸没在介质8中(未示出)。样品平面4延伸在由笛卡尔坐标系中的X轴X和Y轴Y所跨越的XY平面中。第一光轴A1和第二光轴A2延伸在由笛卡尔坐标系中的Y轴Y和Z轴Z所跨越的平面YZ中。

图1b示意性示出了根据现有技术具有倒置布置的照明物镜2和检测物镜3的显微镜0，其中照明物镜2和检测物镜3布置在样品平面4的下方。再次，角度α1和α2各为45°。

该方法提供了轴线方向上的高分辨的优点，因为薄光片6(同样参见图1a)可以通过照明物镜2来产生。由于更高的分辨率，可以检查更小的样品5。此外，显著地降低了麻烦的背景荧光并且由此改进了信噪比。

为了在诸如多孔板的标准样品容器中促进更简易的样品准备，可以维持45°配置但是具有倒置布置中的两个SPIM物镜2、3，将两个SPIM物镜2、3从下方穿过样品保持件7的透明基底指向样品平面4(图1b)。在这个布置中，必须通过使用特别的光学元件来校正由样品保持件7引起的像差，该样品保持件7相对于光轴A1和A2倾斜并且以盖玻片的形式出现。穿过样品保持件7的基底照明布置在样品平面4中的样品5并且检测样品5的激发的荧光。可以使用诸如多孔板、培养皿和/或物体支撑件的样品保持件7，并且特别地在高通量筛选的情况下可以避免样品5的污染。

如例如从US 3305294 A获悉，如果例如Alvarez操纵器12的Alvarez板(图1b，Alvarez板以简单的方式指示)布置在照明物镜2和/或检测物镜3的束路径中，则其他技术难题发生。Alvarez板以它们校正像差的方式来实施，该像差可能恰好发生在例如盖玻片的样品保持件7和相应的物镜2、3的光轴A1、A2之间设定的角的情况下。导致较差成像质量的不需要的像差已经发生在小角度偏离(例如＜0.1°)的情况下。因此，例如在实验开始之前必须将盖玻片对准使得角度偏离位于可容许的公差内。此外，如果除了角以外，在物镜2、3或者可能出现的附加的透镜以及盖玻片之间的距离也是可调整的，使得样品5或其将要成像的区域位于检测物镜3的像平面BE中，则是有帮助的。

DE 10 2013 112 600 A1已经公开了一种虚拟中继器，其用作校正在穿过载物体的射线的倾斜通道的情况下发生的误差。因为虚拟中继器具有＞1.2的高数值孔径，由于光学系统内小的偏差可能发生显著的成像像差，该小偏差可能随实验不同而变化。这些偏差可能是基于尤其盖玻片厚度的变化、温度的变化、折射率差异、盖玻片的倾斜或盖玻片的楔形误差。

存在校正这些像差的若干可选项。因此，DE 10 2013 112 595 A1和DE 10 2014104 977 A1已经描述了检测物镜内Alvarez操纵器的布置。为此，使用自由形式的校正透镜，其或是布置在样品或检测物镜之间或者表示物镜的前透镜。存在显微镜物镜的描述，其校正了穿过盖玻片的照明和检测辐射的倾斜路径的像差。

根据DE 10 2013 107 297 A1，可以在物镜中提供校正像差的滑动透镜。同样地在DE 10 2013 170 297 A1中所描述的其他可选项在于将自适应的反射镜或空间光调制器(SLM)布置在物镜的外部的频率空间中(例如光瞳中)。

从由McGorty等人的出版物(2015：用于常规安装的样品的顶部开口的选择性平面照明显微镜(Open-top selective plane illumination microscope forconventionallymounted specimens)，光学快报23：16142-16153)获悉校正由盖玻片引起的显微镜的像差的其他可能性。倒置的SPIM显微镜具有以下效果的水棱镜：部分地补偿由于穿过盖玻片的检测光的倾斜通道发生的像差。

发明内容

本发明基于以下目的：提出用于校正特别是由于穿过光学折射层的照明辐射和检测辐射的倾斜通道而出现的像差的相对于现有技术改进的可选项。特别地，本发明提出改进的显微术的布置，并且继而特别地在该情况下提出光片显微术的布置。

通过如权利要求1所主张的显微术的布置来实现该目的。有利的配置和发展是从属权利要求的主题。

通过显微术的布置来实现该目的。布置包括具有照明物镜的照明光学单元，以经由照明束路径在样品区域中照明位于样品载体上的样品，其中照明物镜的光轴位于包含与参考平面的法线成不为零的角(照明角)的平面中，将样品载体关于该参考平面对准。通过照明物镜的照明在前述平面中实现。此外，在检测束路径中存在具有检测物镜的检测光学单元。检测物镜的光轴包含与参考平面的法线成不为零的角(检测角)。检测物镜包括布置在束路径中或可引入到束路径中的检测校正元件，并且/或者照明物镜包括布置在束路径中或可引入到束路径中的照明校正元件。

根据本发明，弯月形透镜出现在样品载体和两个物镜之间，该弯月形透镜布置在照明束路径中和检测束路径中。弯月形透镜实施为校正由于穿过具有要检测的辐射(特别是光)和/或照明样品的辐射的不同折射率的介质的通道而出现的像差。(一个或多个)校正元件实施为校正剩余的像差。

在还称为参考平面的样品平面中，样品布置在区域(因此提供或它可以布置在那里的样品区域)中。

照明可以实现为点状、线状、环形形状或平面的方式或者在具有可自由选择的形式的照明区域之上。出于简化描述的目的，如果描述涉及照明校正元件和检测校正元件二者，则下面还可以参考(一个或多个)校正元件，或者两者都参考。

剩余的像差可以是由于辐射的倾斜通道的像差的不完全校正导致的那些(残余)成像像差，无论这些辐射是照射辐射和/或检测辐射。此外，剩余的像差是例如由于盖玻片厚度的变化、温度变化、辐射通过的层的折射率差异，盖玻片的倾斜或盖玻片的楔形误差而发生的误差。校正或者至少降低这些剩余像差。作为示例，盖玻片应当等同于样品器皿的基底或者与玻璃不同的材料制成的载物体。

布置可以包含具有至少一个层的分离层系统，该至少一个层由具有预先确定厚度的预先确定材料制成。例如盖玻片的至少一个层使样品位于其中的介质与照明物镜和检测物镜分离。分别出于照明和检测目的，至少在可达到照明物镜和检测物镜的区域中，通过平行于参考平面对准的基底，使分离层系统与介质和/或浸没介质接触。介质和浸没介质通过分离层系统彼此分离。

对于照明角或检测角的预先确定的范围和/或分离层系统的至少一个层的厚度的预先确定的范围，像差和剩余的像差是可减小的。

弯月形透镜是具有向相同侧弯曲的两个透镜面的透镜。有利地，两个透镜表面具有相同的中心点。弯月形透镜的两个透镜表面可以位于各具有不同折射率的不同介质(例如浸没介质和/或空气)中。与从现有技术已知的虚拟中继器相比较并且与同样地已经预先已知的自由形式的校正透镜相比较，弯月形透镜是有利的，由于可以用更简单或更划算的方式制造，因为不需要自由形式表面的复杂制造。

可以用固定的方式保持弯月形透镜。通过用样品载体移位样品或者通过沿着物镜的光轴移位物镜来实现聚焦。

使用弯月形透镜，在具有不同折射率的两个介质或层之间的照明辐射和/或检测辐射的输送期间出现的误差被校正或者是可校正的。相比之下，不校正由于倾斜通道而导致的像差。通过照明校正元件和/或通过检测校正元件(校正元件)可以在物镜的外部和/或物镜内校正这些剩余的像差。

为了实现光片显微术的布置，用于照明目的的辐射形成光片并且被指引到样品区域中。在替代的实施例中，借助于例如将照明辐射的束在平面中移动，通过照明辐射在样品区域中产生光片(动态光片)。在此，照明物镜的光轴和光片位于包含与参考平面的法线成不为零的照明角的平面中。

在布置的一个实施例中，光学校正元件布置在检测物镜和/或照明物镜的光瞳中。出于简化的目的，照明物镜和检测物镜还被称为物镜。

光瞳中或尽可能靠近光瞳的光学校正元件的布置有利地避免了不需要的场相关的效应。光瞳中，校正元件可以对所有场点具有相同的效应。随着光瞳和相应的光学校正元件之间的距离增加，场相关性越来越大，所以随距离增加不需要的场相关效应更加强烈。

在根据本发明的布置的可能的实施例中，如果光瞳位于检测物镜的或照明物镜的例如镜筒透镜的景深内，则光学校正元件靠近光瞳布置。

光学照明校正元件和光学检测校正元件二者可以实施为静态校正元件或自适应校正元件。

作为示例，静态校正元件是至少一个相位板或自由形式透镜。自由形式透镜不必放置在光瞳中，并且可以是例如相应的物镜的前透镜。诸如相位板的静态校正元件带来关于像差的静态分量的校正。

为了补偿设置的联接的残余像差和样品引入的像差，可以在布置的照明和检测束路径中安置自适应校正元件。可以通过至少一个自适应校正元件校正像差的动态或可变的分量，其中自适应校正元件布置在(一个或多个)物镜内或外部。关于其校正能力，自适应校正元件具有可调整的和自适应的实施例。因此，有利地促进像差(特别是剩余像差)的动态校正。

静态校正元件和自适应校正元件可以组合在根据本发明的布置中。因此，在布置的一个可能的实施例中，静态校正元件是校正静态像差的相位板，并且自适应校正元件布置在照明束路径中和/或在检测束路径中。

如果将自适应校正元件分配到每一个物镜或者如果物镜中的每一个具有自适应校正元件，则自适应校正元件中的一个可以出现在相应的物镜内并且其他自适应校正元件可以出现在相应的物镜的外部。

方便地，自适应校正元件布置在布置的光瞳平面中，使得自适应校正元件的有效孔径和(一个或多个)可改变的自适应校正元件的尺寸良好符合光瞳平面中的光瞳的尺寸，并且可以为待补偿的像差设定期望的波前形变和/或为待补偿的像差供应必要的相位偏离。作为示例，自适应校正元件的这种自适应性和可达性由光瞳中继光学单元来获得，该光瞳中继光学单元将照明或检测物镜的物镜光瞳成像到自适应校正元件上。足够小的自适应校正元件还可以直接布置在物镜中，或者紧接着布置在物镜的下游。

作为示例，自适应反射镜或至少一个空间光调制器(SLM)是自适应校正元件。SLM可以实施为反射式SLM或实施为透射式SLM。

在其他实施例中，自适应校正元件是Alvarez操纵器、至少一个自适应反射镜、至少一个倾斜透镜、至少一个滑动透镜、至少一个可变形光学透镜或其组合。

在布置的其他实施例中，当对发生的像差部分补偿的柱面透镜出现在物镜中的一个的束路径中(特别是检测束路径中)时，自适应校正元件是空间光调制器。

另外，自适应校正元件可以是自适应反射镜，并且对发生的像散部分补偿的柱面透镜可以出现在物镜中的一个的束路径中，特别是检测束路径中。

在具有自适应反射镜的实施例中，物镜(照明物镜或检测物镜)的光瞳通过望远镜成像在自适应反射镜上。自适应反射镜以其校正并且减小发生的像差的方式变形。通过布置在检测束路径中的其他光学透镜可以在照相机传感器上产生实质上或整体无像差的图像。

如果自适应校正元件由反射式SLM来实现，则通过望远镜将物镜的光瞳成像到SLM上。将相位图案显示在SLM上，通过其效应，发生的像差被校正并且减小。再次，通过布置在检测束路径中的其他光学透镜可以在照相机传感器上产生实质上或整体无像差的图像。

在其他实施例中，SLM与柱面透镜组合。作为示例，柱面透镜用在物镜的光瞳中，以便执行对发生的像差的部分校正。通过望远镜将物镜的光瞳成像到反射式SLM上。将相位图案显示在SLM上，通过其光学效应，剩余的残余像差被校正并且减小。通过第三透镜在照相机传感器上产生实质上或整体无像差的图像。

自适应校正元件可以布置在照明束路径中和/或检测束路径中。

此外，还可以在物镜内校正像差。

为此，例如，在物镜中创造附加的光瞳，自适应校正元件放置在附加的光瞳的位置处，以便校正发生的像差。在此，还可以使用柱面透镜以便执行像差的部分校正。

根据本发明的布置特别地适用于具有穿过样品保持件(例如盖玻片或诸如培养皿基底的光学透明层的形式)的照明和检测辐射的倾斜通道的倒置光片显微镜。

附图说明

下面基于示例性实施例和附图更详细地解释本发明。附图中：

图1a示出了根据现有技术的光片显微镜的布置的示意图，

图1b示出了根据现有技术的光片显微镜的倒置布置的示意图，

图2示出了根据本发明的光片显微镜的布置的第一示例性实施例的示意图，

图3示出了根据本发明的光片显微镜的布置的第二示例性实施例的示意图，

图4示出了根据本发明的光片显微镜的布置的第三示例性实施例的示意图，

图5示出了根据本发明的光片显微镜的布置的第四示例性实施例的示意图，

图6示出了显微镜的根据本发明的布置中的一个使用的物镜的示例性实施例的示意图。

具体实施方式

本说明书的背景部分中已经更加详细地解释了图1a和1b。示意性说明示例性实施例。相同的技术元件提供有相同的附图标记。

除了关于样品或参考平面4倾斜地对准的照明物镜2以及同样地关于参考平面4倾斜地对准的检测物镜3以外，出现共享的弯月形透镜10(图2)和照明物镜2中的至少一个照明校正元件2KE和/或检测物镜3中的至少一个检测校正元件3KE作为根据本发明的显微术的布置的必要元件。

以下示例性实施例基于倒置的显微镜0以示例性方式示出并且在其他实施例中还可以实施为正置的显微镜0。

图2示出了具有校正元件2KE、3KE和弯月形透镜10的实施为用于光片显微术(仅象征性示出)的倒置的显微镜0的布置1的示例性实施例。在垂直于参考平面4的法线B与第一光轴A1和第二光轴A2之间的角α1和α2分别各为45°。Alvarez操纵器12的两个Alvarez板各布置在照明辐射BS的束路径中和检测辐射DS的束路径中，作为自适应的校正元件2KE、3KE。校正元件2KE、3KE用于校正像差，该像差可能由于穿过样品保持件7的基底的照明辐射BS的倾斜通道而发生。弯月形透镜10辅助照明辐射BS从空气到浸没介质18中再到介质8中的输送，以及辅助检测辐射DS从介质8到浸没介质18再到空气中的输送。

将样品保持件7保持在样品台11上。通过没有更详细地示出的驱动器，在由X轴X和Y轴Y跨越的XY平面中以控制的方式可调整样品台11自身。

通过在这种情况下实施为压电驱动器的物镜驱动器14，分别沿着第一光轴A1和沿着第二光轴A2以控制的方式可各自调整照明物镜2和检测物镜3。

照明辐射BS由激光器模块15提供并且通过束成形单元16来成形。例如，束成形单元16是通过其形成，例如准直所提供的照明辐射BS的光学单元。

扫描仪17出现在束成形单元16的下游，通过所述扫描仪(XY扫描仪)在两个方向上以控制的方式可偏转成形的照明辐射BS。

在扫描仪17的下游，照明物镜2布置在第一光轴A1上。由扫描仪17偏转的照明辐射BS到达照明物镜2，并且由该照明物镜2将该照明辐射BS成形和/或聚焦。由通过扫描仪17适度偏转照明辐射BS，在样品5位于其中的样品区域中产生光片6。

将来自样品5和来自样品区域的检测辐射DS沿着第二光轴A2指引到检测器19上并且能够由所述检测器捕获。

出于致动样品台11、物镜驱动器14、校正元件2KE、3KE、激光器模块15、束成形16、扫描仪17和/或检测器19的目的，存在控制单元13，所述控制单元以适合于(仅指示出的)数据传输的连接来联接到将要致动的元件。

在其他实施例中，控制单元13附加地配置为捕获、储存和/或评估测量值。显微镜0的其他元件和单元通过控制单元13可以是可致动的，和/或可以由此获得并且评估测量值。

出于说明目的，下面使用具有相互正交轴线的两个坐标系。第一坐标系是具有X轴X、Y轴Y和Z轴Z的整个布置的坐标系。理想地，样品保持件7(特别是其基底)与由X轴X和Y轴Y跨越的XY平面平行地对准。第二坐标系是具有X轴X、y轴y’和z轴z’的检测器19的坐标系。例如从像平面BE到检测器19上的图像的成像具有坐标X和y’。X轴X在两个坐标系中以正交方式指向附图绘图的平面。另外两个轴线Y和y’以及Z和z’分别可以通过绕X轴X的旋转而彼此重叠。

在照明辐射BS穿过样品保持件7的倾斜通道期间发生的像差取决于样品保持件7的厚度。为此，校正元件2KE、3KE例如可移位地安装在照明物镜2和/或检测物镜3中，以便通过关于彼此移位校正元件12来对于厚度匹配像差校正。

样品保持件7的基底表示具有至少一个层的分离层系统，该至少一个层由具有预先确定厚度的预先确定材料制成，该至少一个层使样品5位于其中的介质8与照明物镜2和检测物镜3分离。分别出于照明和检测目的，至少在可达到照明物镜2和检测物镜3的区域中，通过平行于样品平面4对准的基底，分离层系统与浸没介质18接触。

在图3所示的并且在其基本设计方面与图2所示的示例性实施例对应的布置1的第二示例性实施例中，照明物镜2再次具备作为照明校正元件2KE的Alvarez操纵器12。在检测辐射DS的束路径中出现光学透镜20，通过该光学透镜20将检测辐射DS转向到SLM或自适应反射镜的形式的检测校正元件3KE上。由检测校正元件3KE反射的检测辐射DS被指引到检测器19上并且由后者捕获。

在其他实施例可选项中，SLM实施为透射式SLM。

图4示出了布置1的第三示例性实施例，其中用于部分补偿发生的像散的柱面透镜9布置在检测辐射DS的束路径中的光学透镜20的上游。检测校正元件3KE实现为SLM或自适应反射镜的形式。

图5示出了根据本发明的布置1的另一示例性实施例。照明物镜2不具备照明校正元件2KE。将两个检测校正元件3KE集成在检测物镜3中并且配置为(一个或多个)反射式SLM和/或为(一个或多个)自适应反射镜。

图6中示意性示出显微镜0(参见图2至5)的根据本发明的布置1中使用的物镜2、3的示例性实施例。

除了仅以示例性方式示出的光学透镜20，实施为SLM的可致动的校正元件2KE/3KE布置在束路径中。通过控制单元13实现致动。

在布置1的或物镜2、3的其他实施例中，可以设置以径向方式关于束路径可移位的滑动透镜，以补偿或至少降低剩余的像差。

为了更清楚，图6所示的布置1中仅示出一个物镜2、3。

附图标记

0 显微镜

1 布置

2 照明物镜

2KE 照明校正元件

3 检测物镜

3KE 检测校正元件

4 样品平面(＝参考平面)

5 样品

6 光片

7 样品保持件

8 介质

9 柱面透镜

10 弯月形透镜

11 样品台

12 Alvarez操纵器

13 控制单元

14 物镜驱动器

15 激光器模块

16 束成形

17 XY-扫描仪

18 浸没介质

19 检测器

20 光学透镜

A1 第一光轴(照明物镜2的光轴)

A2 第二光轴(检测物镜3的光轴)

α1 角/照明角

α2 角/检测角

B 法线

BE 像平面

BS 照明辐射

DS 检测辐射

Claims (9)

1.一种显微术的布置，包括

-照明光学单元，所述照明光学单元具有经由照明束路径照明在样品平面(4)的样品区域中位于样品载体(7)上的样品(5)的照明物镜(2)，其中

所述照明物镜(2)的光轴(A1)位于包含与所述样品平面(4)的法线成不为零的照明角(α1)的平面中，所述样品载体(7)关于所述样品平面(4)对准，并且所述照明实现在所述平面中，

-具有检测束路径中的检测物镜(3)的检测光学单元，所述检测物镜(3)的光轴(A2)包含与所述样品平面(4)的法线成不为零的检测角(α2)，

-所述照明物镜(2)包括布置在束路径或者可引入到束路径中的照明校正元件(2KE)，和/或

-所述检测物镜(3)包括布置在束路径或者可引入到束路径中的检测校正元件(3KE)，

其特征在于

-弯月形透镜(10)出现在所述样品载体(7)和所述物镜(2、3)之间，所述弯月形透镜布置在照明束路径中和检测束路径中，

-所述弯月形透镜(10)实施为校正由于穿过具有要检测的辐射和/或照明所述样品的辐射的不同折射率的介质的通道而产生的像差，

-所述照明校正元件(2KE)和/或所述检测校正元件(3KE)实施为校正剩余的像差，

-出于照明目的采用的辐射成形为光片(6)并且被指引到所述样品区域中，并且所述照明物镜(2)的光轴(A1)和所述光片(6)位于包含与所述样品平面(4)的法线成不为零的照明角(α1)的平面中，并且

-具有至少一个层的分离层系统，所述至少一个层由具有预先确定厚度的预先确定材料制成，所述至少一个层使所述样品(5)位于其中的介质(8)与所述照明物镜(2)和所述检测物镜(3)分离，其中分别出于照明和检测目的，至少在可达到所述照明物镜(2)和所述检测物镜(3)的区域中，通过平行于所述样品平面(4)对准的基底，使所述分离层系统与浸没介质(18)接触。

2.根据权利要求1所述的布置(1)，其特征在于，所述照明校正元件(2KE)和/或所述检测校正元件(3KE)布置在所述照明物镜(2)和/或所述检测物镜(3)的光瞳中。

3.根据权利要求1所述的布置(1)，其特征在于，所述照明校正元件(2KE)和/或所述检测校正元件(3KE)是至少一个相位板或自由形式透镜。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的布置(1)，其特征在于，所述照明校正元件(2KE)和/或所述检测校正元件(3KE)是校正静态像差的相位板，并且自适应反射镜或空间光调制器出现在所述照明束路径中和/或所述检测束路径中。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的布置(1)，其特征在于，所述照明校正元件(2KE)和/或所述检测校正元件(3KE)关于其校正能力具有可调整的和自适应的实施例。

6.根据权利要求5所述的布置(1)，其特征在于，所述自适应照明校正元件(2KE)和/或所述自适应检测校正元件(3KE)是Alvarez操纵器(12)、空间光调制器、至少一个自适应反射镜、至少一个倾斜透镜、至少一个滑动透镜、至少一个可变形光学透镜或其组合。

7.根据权利要求5所述的布置(1)，其特征在于，所述自适应照明校正元件(2KE)和/或所述自适应检测校正元件(3KE)是空间光调制器，并且柱面透镜(9)出现在所述检测束路径中以部分补偿发生的像散。

8.根据权利要求5所述的布置(1)，其特征在于，所述自适应检测校正元件(3KE)是自适应反射镜，并且柱面透镜(9)出现在所述照明束路径和/或检测束路径中以部分补偿发生的像散。

9.一种显微镜(0)，所述显微镜(0)包括前述权利要求中任一项所述的布置(1)。

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