CN109388031A - 掩模版传输系统及方法、光刻设备及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种掩模版传输系统，包括smif版架、版盒以及用于转移掩模版的版叉，smif版架包括有支撑限位部，版盒包括有版盒限位部；版叉包括版叉本体和对称连接在版叉本体上的两根叉杆，叉杆包括用于支撑掩模版的转移部和防撞部，防撞部包括水平结构的第一防撞部和竖直结构的第二防撞部，第一防撞部水平连接于转移部背离掩模版的一侧，第一防撞部连接于转移部和第二防撞部之间，并且第二防撞部、第一防撞部以及转移部的侧壁形成一凹槽结构；当版叉从smif版架或版盒中取出或放入掩模版的时候，支撑限位部或版盒限位部位于凹槽结构内。本发明提供的一种掩模版传输系统能够达到转移安全性高的效果。

Description

掩模版传输系统及方法、光刻设备及方法

技术领域

本发明属于光刻设备领域，涉及一种掩模版传输系统和传输方法、光刻设备及方法。

背景技术

光刻用掩模版非常昂贵，而且易碎，在使用过程中需要进行防撞保护。

在光刻机内部，掩模版被撞损坏概率最高的位置即是掩模版从版盒到掩模台的掩模传输过程中，即从版盒到smif版架，以及从smif版架到掩模台的过程中。在掩模版传输过程中，主要有以下情况会导致掩模版损伤：第一，掩模传输版叉从外部掩模版版盒中取放掩模版的过程；第二掩模传输版叉从内部掩模版版库中取放掩模版的过程。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模版传输系统和传输方法，旨在解决掩模版在放取过程中容易出现碰撞而引起的安全系数低的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种掩模版传输系统，包括smif版架、版盒以及用于转移掩模版的版叉，所述smif版架包括有若干层L形状的支撑体，所述支撑体包括水平结构的支撑连接部和竖直结构的掩模版支撑部，所述支撑连接部的底端还固定有支撑限位部，所述版盒包括有版盒顶板、版盒侧壁、版盒底板以及有用于支撑所述掩模版的版盒支座，所述版盒侧壁上还固定有版盒挡板，所述版盒挡板包括水平连接在版盒侧壁的版盒连接部以及竖直连接在版盒连接部端部的版盒限位部，所述版盒侧壁、版盒连接部以及版盒限位部形成H形结构；

所述版叉包括板叉本体和对称连接在板叉本体上的两根叉杆，所述叉杆包括用于支撑掩模版的转移部和防撞部，所述防撞部包括水平结构的第一防撞部和竖直结构的第二防撞部，所述第一防撞部水平连接于所述转移部背离掩模版的一侧，所述第一防撞部连接于所述转移部和所述第二防撞部之间，并且所述第二防撞部、所述第一防撞部以及转移部的侧壁形成一凹槽结构；

当所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版的时候，所述支撑限位部或版盒限位部位于所述凹槽结构内。

本发明进一步设置为，所述第一防撞部与所述版盒限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版到所述版盒顶板的下表面之间的垂向距离，所述第一防撞部与所述支撑限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版与该掩模版上方的支撑连接部的下表面之间的垂向距离，所述第二防撞部的顶端高于所述版盒限位部或者所述支撑限位部的底端。

本发明进一步设置为，所述第二防撞部与所述版盒限位部之间的水平距离小于掩模版与所述版盒限位部之间的水平距离，所述转移部与所述掩模版支撑部之间的水平距离小于掩模版与所述支撑限位部之间的水平距离。

本发明进一步设置为，所述转移部上设置有若干个用于支撑掩模版的支撑块。

本发明进一步设置为，所述板叉本体上设置有用于推送位于所述叉杆上掩模版的推送组件，所述叉杆上设置有用于对掩模版进行限位的限位块。

本发明进一步设置为，所述推送组件包括有推送气缸以及连接所述推送气缸的推送件。

本发明进一步设置为，所述板叉本体上沿所述推送件的活动方向依次设置有第一传感器和第二传感器，用于监控掩模版和所述推送气缸的状态，当所述推送气缸处于缩回状态时，所述第一传感器触发所述第二传感器不触发，当所述推送气缸伸出同时所述叉杆上存在掩模版时，所述第一传感器和所述第二传感器同时触发，当所述推送气缸伸出同时叉杆上不存在掩模版时，所述第一传感器不触发所述第二传感器触发。

本发明进一步设置为，所述推送件包括推送杆和对称设置在所述推送杆两侧端部的夹块，推送所述掩模版时，所述夹块抵接于所述掩模版的两个顶角。

本发明进一步设置为，所述版盒的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第一定位块。

本发明进一步设置为，所述smif版架的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第二定位块。

一种掩模版传输方法，利用如权利要求1所述的掩模版传输系统对掩模版进行转移，利用所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版时，将叉杆放入所述smif版架或版盒中，同时所述smif板架的支撑限位部或所述版盒的版盒限位部嵌入在所述叉杆的凹槽结构内，以限制叉杆在取放掩模版时掩模版在smif版架或版盒中的垂向及水平向运动。

本发明进一步设置为，利用所述版叉将掩模版放入所述smif版架或版盒中具体包括以下步骤：

S11，所述叉杆的转移部承载所述掩模版，所述板叉本体上的推送组件推送所述掩模版，并与所述叉杆前端的限位块配合夹住所述掩模版的两端，对掩模版的位置进行固定；

S12，将承载有掩模版的叉杆放入到smif版架或者版盒中直到所述掩模版前端与所述smif版架中的第二定位块或者版盒中的第一定位块接触或相隔第一预设距离，放入过程中使所述smif板架的支撑限位部或所述版盒的版盒限位部嵌入在所述叉杆的凹槽结构内；

S13，推送组件回缩，叉杆向下移动并与掩模版分离，完成对掩模版的放置。

本发明进一步设置为，利用所述版叉将所述smif版架或版盒中的掩模版取出时具体包括以下步骤：

S21，所述叉杆进入到smif版架或者版盒中，此时两根叉杆对称分布于掩模版的两侧，所述smif板架的支撑限位部或所述版盒的版盒限位部嵌入在所述叉杆的凹槽结构内；

S22，叉杆运动到位后上升，以转移部抵触到掩模版的下表面，然后继续上升使所述掩模版脱离所述smif版架或者版盒；

S23，推送组件伸出，与所述叉杆前端的限位块配合夹住所述掩模版的两端，对掩模版的位置进行固定，叉杆向外活动并将掩模版从smif版架或版盒中移出。

本发明进一步设置为，所述S12中叉杆在将掩模版放入到版盒中时，还包括以下步骤：

承载有掩模版的叉杆放入到版盒中时，当所述掩模版前端与所述版盒中的第一定位块相隔第二预设距离时，所述推送组件回退与掩模版分离，然后叉杆继续前进直到所述掩模版前端与所述版盒中的第一定位块接触或相隔所述第一预设距离，所述第二预设距离大于第一预设距离。

本发明还提供一种光刻设备，包括所述的掩模版传输系统。

本发明还提供一种光刻方法，采用所述的掩模版传输方法对掩模版进行转移。

与现有技术相比，本发明提供了一种掩模版传输系统和传输方法、光刻设备及方法，叉杆在转移掩模版的时候，转移部支撑于掩模版的两侧，如此掩模版就能够被叉杆升起之后，与smif版架中的掩模版支撑部或者版盒中的版盒支座分离，在这个转移的过程中，由于第一防撞部与支撑限位部底端的距离小于掩模版顶端到支撑连接部底端之间的距离，第一防撞部与版盒限位部底端的距离小于掩模版顶端到版盒顶板之间的距离，这样即使叉杆操作失误而使得上升距离过大的时候，在掩模版受到碰撞之前，第一防撞部就能够与支撑限位部或者版盒限位部发生碰撞，从而防止掩模版碰撞到支撑连接部或者版盒顶板上，在竖直方向上对掩模版起到了保护作用；同样，由于第二防撞部在水平方向上与版盒限位部之间的距离是小于掩模版两端到版盒限位部之间的距离的，转移部在水平方向上与掩模版支撑部之间的距离是小于掩模版两端到支撑限位部之间的距离的，如此在掩模版碰撞到版盒限位部上之前，第二防撞部会与版盒限位部发生碰撞，在掩模版碰撞到支撑限位部之前，移动部会与掩模版支撑部发生碰撞，如此就能够停止继续活动，即防止了掩模版发生碰撞，这样就能够在各个方向对掩模版起到防护的作用，提高了转移掩模版的安全性。

附图说明

图1是版盒的结构示意图；

图2是smif版架的结构示意图；

图3是本发明中版叉的结构示意图；

图4是本发明中叉杆从版盒中取放掩模版时的剖视图；

图5是图4中A部分的放大图；

图6是本发明中叉杆从smif版架中取放掩模版时的剖视图；

图7是图6中B部分的放大图；

图8是本发明中版叉向版盒中放掩模版时的状态图一；

图9是本发明中版叉向版盒中放掩模版时的状态图二；

图10是本发明中版叉向smif版架中放掩模版时的俯视图。

其中，1、版盒支座；2、版盒侧壁；3、版盒顶板；4、版盒连接部；5、版盒限位部；6、支撑连接部；7、掩模版支撑部；8、支撑限位部；9、转移部；10、第一防撞部；11、第二防撞部；12、支撑块；13、版叉本体；14、限位块；15、推送气缸；16、推送件；17、第一传感器；18、第二传感器；19、第一定位块；20、第二定位块；21、夹块。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的一种掩模版传输系统和传输方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。附图中相同或相似的附图标记代表相同或相似的部件。

在光刻设备内，掩模版从版盒到掩模台通过掩模传输系统实现，其中版盒的结构如图1所示，其包括有用于支撑掩模版的版盒支座1、用于对掩模版进行限位的版盒挡板、版盒侧壁2以及版盒顶板3，其中版盒挡板包括水平连接在版盒侧壁2的版盒连接部4以及竖直连接在版盒连接部4端部的版盒限位部5，版盒限位部5、版盒连接部4以及版盒侧壁2形成H形结构，当掩模版位于版盒中的时候，版盒支座1对掩模版底端进行支撑，同时掩模版的两侧与版盒限位部5之间具有一定的间隙，版盒限位部5对掩模版进行限位并能够防止掩模版从版盒支座1上落下，这样通过版叉将掩模版取走的时候，只需通过版叉从下至上将掩模版从版盒支座1上向上顶起，然后向版盒外部移出，即可将掩模版从版盒中取出。掩模版从版盒中移动到smif版架上，然后通过smif版架移动到掩模台上进行使用，其中smif版架的结构如图2所示，其包括有若干层L形状的支撑体，支撑体包括水平结构的支撑连接部6以及竖直结构的掩模版支撑部7，支撑连接部6底端连接有支撑限位部8，这样下一层的掩模版支撑部7对掩模版进行支撑的时候，同时该掩模版也受到了上一层的支撑限位部8对其两侧的限位，同时掩模版与上一层的支撑连接部6之间具有一定的高度差，在从smif版架中取出掩模版的时候，版叉的活动方式与在版盒中的活动方式一致。

一种掩模版传输系统，如图3至图10所示，包括smif版架、版盒以及用于转移掩模版的版叉，所述smif版架包括有若干层L形状的支撑体，所述支撑体包括水平结构的支撑连接部6和竖直结构的掩模版支撑部7，所述支撑连接部6的底端还固定有支撑限位部8，所述版盒包括有版盒顶板3、版盒侧壁2、版盒底板以及有用于支撑所述掩模版的版盒支座1，

所述版盒侧壁2上还固定有版盒挡板，所述版盒挡板包括水平连接在版盒侧壁2的版盒连接部4以及竖直连接在版盒连接部4端部的版盒限位部5，所述版盒侧壁2、版盒连接部4以及版盒限位部5形成H形结构；

所述版叉包括版叉本体13和对称连接在版叉本体13上的两根叉杆，所述叉杆包括用于支撑掩模版的转移部9和防撞部，所述防撞部包括水平结构的第一防撞部10和竖直结构的第二防撞部11，所述第一防撞部10水平连接于所述转移部9背离掩模版的一侧，所述第一防撞部10连接于所述转移部9和所述第二防撞部11之间，并且所述第二防撞部11、所述第一防撞部10以及转移部9的侧壁形成一凹槽结构；当所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版的时候，所述支撑限位部8或版盒限位部5位于所述凹槽结构内。

优选的，所述第一防撞部10与所述版盒限位部5的底端之间的垂向距离小于掩模版到所述版盒顶板3的下表面之间的垂向距离，所述第一防撞部10与所述支撑限位部8的底端之间的垂向距离小于掩模版与该掩模版上方的支撑连接部6的下表面之间的垂向距离，所述第二防撞部11的顶端高于所述版盒限位部5或者所述支撑限位部8的底端。

进一步的，所述第二防撞部11与所述版盒限位部5之间的水平距离小于掩模版与所述版盒限位部5之间的水平距离，所述转移部9与所述掩模版支撑部7之间的水平距离小于掩模版与所述支撑限位部8之间的水平距离。

进一步的，所述转移部9上设置有若干个用于支撑掩模版的支撑块12，以保证对掩模版的支撑效果更佳，优选的，所述支撑块12的数量为三个，呈三角形分布在两根叉杆上，所述支撑块12的材料可选为聚醚醚酮。

进一步的，所述版叉本体13上设置有用于推送位于所述叉杆上掩模版的推送组件，所述叉杆上设置有用于对掩模版进行限位的限位块14，所述推送组件包括有推送气缸15以及连接所述推送气缸15的推送件16，所述推送件16与所述推动气缸15呈T字形，所述推送件16包括推送杆和对称设置在所述推送杆端部两侧的夹块21，推送所述掩模版时，所述夹块21抵接于所述掩模版端部的两个顶角，对掩膜版起到固定和定位的作用。

进一步的，所述版叉本体13上沿所述推送件16的活动方向依次设置有第一传感器17和第二传感器18，用于监控掩模版和所述推送气缸15的状态，当所述推送气缸15处于缩回状态时，所述第一传感器17触发所述第二传感器18不触发，当所述推送气缸15伸出同时所述叉杆上存在掩模版时，所述第一传感器17和所述第二传感器18同时触发，当所述推送气缸15伸出同时叉杆上不存在掩模版时，所述第一传感器17不触发所述第二传感器18触发。如此通过第一传感器17和第二传感器18机器就能够及时的判断叉杆上是否具有掩模版，从而进行下一步的操作。

进一步的，所述版盒的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第一定位块19，可选的，所述第一定位块19为小尺寸定位块，数量可选为两个，如图8所示。所述smif版架的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第二定位块20，可选的，所述第二定位块20为大尺寸定位块，大尺寸定位块的定位面积至少大于1/2倍掩模版前侧的侧面积，如图10所示。

一种掩模版传输方法，利用如上所述的掩模版传输系统对掩模版进行转移，利用所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版时，将叉杆放入所述smif版架或版盒中，同时所述smif板架的支撑限位部8或所述版盒的版盒限位部5嵌入在所述叉杆的凹槽结构内，以限制叉杆在取放掩模版时掩模版在smif版架或版盒中的垂向及水平向运动。

进一步的，利用所述版叉将掩模版放入所述smif版架或版盒中具体包括以下步骤：

S11，所述叉杆的转移部9承载所述掩模版，所述版叉本体13上的推送组件推送所述掩模版，并与所述叉杆前端的限位块14配合夹住所述掩模版的两端，对掩模版的位置进行固定；

S12，将承载有掩模版的叉杆放入到smif版架或者版盒中直到所述掩模版前端与所述smif版架中的第二定位块20或者版盒中的第一定位块19接触或相隔第一预设距离，放入过程中使所述smif板架的支撑限位部8或所述版盒的版盒限位部5嵌入在所述叉杆的凹槽结构内；

S13，推送组件回缩，叉杆向下移动并与掩模版分离，完成对掩模版的放置。

进一步的，利用所述版叉将所述smif版架或版盒中的掩模版取出时具体包括以下步骤：

S21，所述叉杆进入到smif版架或者版盒中，此时两根叉杆对称分布于掩模版的两侧，所述smif板架的支撑限位部8或所述版盒的版盒限位部5嵌入在所述叉杆的凹槽结构内；

S22，叉杆运动到位后上升，以转移部9抵触到掩模版的下表面，然后继续上升使所述掩模版脱离所述smif版架或者版盒；

S23，推送组件伸出，与所述叉杆前端的限位块14配合夹住所述掩模版的两端，对掩模版的位置进行固定，叉杆向外活动并将掩模版从smif版架或版盒中移出。

进一步的，所述S12中叉杆在将掩模版放入到版盒中时，还包括以下步骤：

承载有掩模版的叉杆放入到版盒中时，当所述掩模版前端与所述版盒中的第一定位块19相隔第二预设距离时，所述推送组件回退与掩模版分离，如图8所示；然后叉杆继续前进直到所述掩模版前端与所述版盒中的第一定位块19接触或相隔所述第一预设距离，所述第二预设距离大于第一预设距离，如图9所示。

综上所述，本发明提供的一种掩模版传输系统和传输方法，首先是从版盒中向外转移掩模版的时候，叉杆受到版叉本体13的驱动进入到版盒中，并使得两根叉杆分布于掩模版的两侧，然后叉杆上升，通过转移部9抵触于掩模版的两侧下表面并将掩模版顶起，推送气缸15推动推送件16活动，推送件16抵触在掩模版的端部，并使得掩模版的另外一端抵触到限位块14上，这样掩模版的前后端就都受到了限位，掩模版与叉杆的相对位置稳定性得到了一个保证；然后板叉活动继续转移掩模版，在这个转移的过程中，在垂向方向上，由于第一防撞部10到版盒限位部5之间的距离小于掩模版顶端到版盒顶板3之间的距离，这样即使叉杆发生晃动等，在掩模版碰撞到版盒顶板3之前，第一防撞部10就会与版盒限位部5发生碰撞，从而防止了叉杆进一步的上升，这样就对掩模版起到了防护的效果，同样在水平方向上，由于第二防撞部11到版盒限位部5之间的距离小于掩模版到版盒限位部5之间的距离，这样叉杆在左右晃动的时候，在掩模版碰撞到版盒限位部5之前，第二防撞部11会抵触到版盒限位部5上，如此就能够防止掩模版发生碰撞，对掩模版的水平方向上起到了防护的作用，同理在从smif版架中取出掩模版的时候，也能够分别通过第一防撞部10和转移部9对掩模版的垂向、水平方向进行防护，防护效果更为全面，掩模版的转移安全性高。

不仅如此，在向版盒中放置掩模版的时候，距离第一定位块19有第二预设距离的时候，叉杆停止活动，而且推送件16回缩与掩模版分离，之后叉杆再继续向前活动，这样即使在这个过程中掩模版抵触到了第一定位块19上，掩模版由于后端没有受到推送件16的限位，如此掩模版就能够在叉杆上滑动，而不会受到过大的挤压作用。而在smif版架上的时候，可使掩模版前端距离第二定位块20一定距离，比如1mm左右的时候，叉杆就不再往前伸，推送件16回退。即使发生意外碰撞，由于第二定位块20的定位与掩模版之间接触的面积较大，并且有气缸回退的缓冲，也不会碰坏掩模版，如此在掩模版与第二定位块20之间产生的相互作用力就较小。

由于掩模版在从版盒移动到smif版架上，或者从smif版架移动到版盒中的过程，能够与光刻设备的曝光时间同时进行，如此该段时间内对掩模版的移动要求较低，故在叉杆进入版盒时可设定第二预设距离使得掩模版在到达第一定位块19之前进行推送气缸15回缩的操作，对掩模版起到充分的保护作用，但是掩模版从smif版架移动到掩模台或者从掩模台移动到smif版架中所占用的时间，直接影响到光刻设备的效率，所以在时间上会相对紧张，故采用具有较大面积的第二定位块20的方式能够快速的进行放取掩模版，即对第一定位块19和第二定位块20都是根据实际的光刻设备工作情况进行设置的，如此就能够使得在实际操作过程中达到最优化的结果。

需要说明的是，本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的测试方法而言，由于其采用的测试装置与实施例公开的装置部分相对应，所以对其中涉及的测试装置描述的比较简单，相关之处参见装置部分说明即可。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (16)

1.一种掩模版传输系统，包括smif版架、版盒以及用于转移掩模版的版叉，所述smif版架包括有若干层L形状的支撑体，所述支撑体包括水平结构的支撑连接部和竖直结构的掩模版支撑部，所述支撑连接部的底端还固定有支撑限位部，所述版盒包括有版盒顶板、版盒侧壁、版盒底板以及有用于支撑所述掩模版的版盒支座，其特征在于，

所述版盒侧壁上还固定有版盒挡板，所述版盒挡板包括水平连接在版盒侧壁的版盒连接部以及竖直连接在版盒连接部端部的版盒限位部，所述版盒侧壁、版盒连接部以及版盒限位部形成H形结构；

所述版叉包括板叉本体和对称连接在板叉本体上的两根叉杆，所述叉杆包括用于支撑掩模版的转移部和防撞部，所述防撞部包括水平结构的第一防撞部和竖直结构的第二防撞部，所述第一防撞部水平连接于所述转移部背离掩模版的一侧，所述第一防撞部连接于所述转移部和所述第二防撞部之间，并且所述第二防撞部、所述第一防撞部以及转移部的侧壁形成一凹槽结构；

当所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版的时候，所述支撑限位部或版盒限位部位于所述凹槽结构内。

2.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述第一防撞部与所述版盒限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版到所述版盒顶板的下表面之间的垂向距离，所述第一防撞部与所述支撑限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版与该掩模版上方的支撑连接部的下表面之间的垂向距离，所述第二防撞部的顶端高于所述版盒限位部或者所述支撑限位部的底端。

3.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述第二防撞部与所述版盒限位部之间的水平距离小于掩模版与所述版盒限位部之间的水平距离，所述转移部与所述掩模版支撑部之间的水平距离小于掩模版与所述支撑限位部之间的水平距离。

4.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述转移部上设置有若干个用于支撑掩模版的支撑块。

5.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述板叉本体上设置有用于推送位于所述叉杆上掩模版的推送组件，所述叉杆上设置有用于对掩模版进行限位的限位块。

6.根据权利要求5所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述推送组件包括有推送气缸以及连接所述推送气缸的推送件。

7.根据权利要求6所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述板叉本体上沿所述推送件的活动方向依次设置有第一传感器和第二传感器，用于监控掩模版和所述推送气缸的状态，当所述推送气缸处于缩回状态时，所述第一传感器触发所述第二传感器不触发，当所述推送气缸伸出同时所述叉杆上存在掩模版时，所述第一传感器和所述第二传感器同时触发，当所述推送气缸伸出同时叉杆上不存在掩模版时，所述第一传感器不触发所述第二传感器触发。

8.根据权利要求6所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述推送件包括推送杆和对称设置在所述推送杆两侧端部的夹块，推送所述掩模版时，所述夹块抵接于所述掩模版的两个顶角。

9.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述版盒的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第一定位块。

10.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述smif版架的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第二定位块。

11.一种掩模版传输方法，利用如权利要求1所述的掩模版传输系统对掩模版进行转移，其特征在于，利用所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版时，将叉杆放入所述smif版架或版盒中，同时所述smif板架的支撑限位部或所述版盒的版盒限位部嵌入在所述叉杆的凹槽结构内，以限制叉杆在取放掩模版时掩模版在smif版架或版盒中的垂向及水平向运动。

12.根据权利要求11所述的一种掩模版传输方法，其特征在于，利用所述版叉将掩模版放入所述smif版架或版盒中具体包括以下步骤：

S11，所述叉杆的转移部承载所述掩模版，所述板叉本体上的推送组件推送所述掩模版，并与所述叉杆前端的限位块配合夹住所述掩模版的两端，对掩模版的位置进行固定；

S12，将承载有掩模版的叉杆放入到smif版架或者版盒中直到所述掩模版前端与所述smif版架中的第二定位块或者版盒中的第一定位块接触或相隔第一预设距离，放入过程中使所述smif板架的支撑限位部或所述版盒的版盒限位部嵌入在所述叉杆的凹槽结构内；

S13，推送组件回缩，叉杆向下移动并与掩模版分离，完成对掩模版的放置。

13.根据权利要求11所述的一种掩模版传输方法，其特征在于，利用所述版叉将所述smif版架或版盒中的掩模版取出时具体包括以下步骤：

S21，所述叉杆进入到smif版架或者版盒中，此时两根叉杆对称分布于掩模版的两侧，所述smif板架的支撑限位部或所述版盒的版盒限位部嵌入在所述叉杆的凹槽结构内；

S22，叉杆运动到位后上升，以转移部抵触到掩模版的下表面，然后继续上升使所述掩模版脱离所述smif版架或者版盒；

S23，推送组件伸出，与所述叉杆前端的限位块配合夹住所述掩模版的两端，对掩模版的位置进行固定，叉杆向外活动并将掩模版从smif版架或版盒中移出。

14.根据权利要求12所述的一种掩模版传输方法，其特征在于，所述S12中叉杆在将掩模版放入到版盒中时，还包括以下步骤：

承载有掩模版的叉杆放入到版盒中时，当所述掩模版前端与所述版盒中的第一定位块相隔第二预设距离时，所述推送组件回退与掩模版分离，然后叉杆继续前进直到所述掩模版前端与所述版盒中的第一定位块接触或相隔所述第一预设距离，所述第二预设距离大于第一预设距离。

15.一种光刻设备，其特征在于，包括如根据权利要求1～10任一项所述的掩模版传输系统。

16.一种光刻方法，其特征在于，采用如权利要求11～14任一项所述的掩模版传输方法对掩模版进行转移。