CN2924591Y - 光掩模盒 - Google Patents
光掩模盒 Download PDFInfo
- Publication number
- CN2924591Y CN2924591Y CNU2006201213260U CN200620121326U CN2924591Y CN 2924591 Y CN2924591 Y CN 2924591Y CN U2006201213260 U CNU2006201213260 U CN U2006201213260U CN 200620121326 U CN200620121326 U CN 200620121326U CN 2924591 Y CN2924591 Y CN 2924591Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- photomask
- box
- groove
- plate
- side plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical group C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical class C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 claims description 4
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Abstract
本实用新型公开一种光掩模盒，此光掩模盒包括盒体、上盖与前盖。盒体包括底板、第一侧板、第二侧板、第三侧板、第一定位板与第二定位板。第一侧板与第二侧板相对配置于底板上。第三侧板配置于底板上且连接第一侧板与第二侧板。第一定位板与第二定位板配置于第一侧板与第二侧板之间的底板上，且分别位于第一侧板与第二侧板旁。第一定位板具有第一沟槽，而第二定位板具有第二沟槽。第二沟槽与第一沟槽相对，且第一沟槽与第二沟槽的延伸方向垂直于底板。上盖与盒体枢接。前盖与上盖枢接。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种光掩模盒，特别是涉及可直接利用光掩模夹将光掩模取出的一种光掩模盒。
背景技术
随着科技的进步，微电子工业的制造技术一日千里，其中光刻技术(photolithography technology)扮演着十分重要的角色。光刻技术简单的说就是将设计好的线路图形，完整且精确地复制到晶片上。设计好的图形会制作成光掩模(photo mask)，再应用光学成像的原理，将图形投影至晶片上。由上可知，光掩模的好与坏，直接控制着半导体制作工艺的优与劣。因此，光掩模的保护极其重要。一般在制作工艺中使用完或尚未使用的光掩模是存放于光掩模盒(mask case)中。
图1为现有一种光掩模盒的示意图。请参照图1，光掩模盒100包括下盖102、上盖104与前盖106。上盖104沿转轴103与下盖102枢接，使上盖104可相对于下盖102向上开启。前盖106沿转轴105枢接于上盖104相对于转轴103的另一侧，使前盖106可相对于下盖102向前开启。此外，光掩模盒100还包括配置于下盖102上的基座108与定位板110。定位板110位于下盖102的相对二侧板旁，用以固定置于光掩模盒100中的光掩模(未绘示)。基座108用以支撑光掩模。
一般来说，在使用者对光掩模进行目视检查与吹除微尘的步骤之前，必须先将光掩模盒100置于光掩模移载开启机中，通过机台将光掩模盒100开启，并取出光掩模，将光掩模置于拖盘上，才利用光掩模夹取出光掩模。这是由于一般常见的光掩模夹受限于光掩模盒100外型设计的关系，使得使用者无法直接将光掩模夹伸入光掩模盒100中取出光掩模。然而，在光掩模由光掩模盒100移送至拖盘的过程中，往往会导致光掩模受到污染或损坏，且光掩模的移动过程也较为繁琐。此外，光掩模移载开启机的价格过高，也造成了生产成本的增加。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种光掩模盒，可以直接利用光掩模夹将光掩模盒中的光掩模取出。
本实用新型提出一种光掩模盒，此光掩模盒包括盒体、上盖与前盖。盒体包括底板、第一侧板、第二侧板、第三侧板、第一定位板与第二定位板。第一侧板与第二侧板相对配置于底板上。第三侧板配置于底板上且连接第一侧板与第二侧板。第一定位板与第二定位板配置于第一侧板与第二侧板之间的底板上，且分别位于第一侧板与第二侧板旁。第一定位板具有第一沟槽，而第二定位板具有第二沟槽。第二沟槽与第一沟槽相对，且第一沟槽与第二沟槽的延伸方向垂直于底板。上盖与盒体枢接。前盖与上盖枢接。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，更可以有多个基座，配置于底板上。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，上述的基座的材料例如为聚醚醚酮(PEEK)。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，更可以有多个第三定位板，配置于底板上，且位于第二侧板旁。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，上述的第三定位板的材料例如为丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，上述的底板的材料例如为铝。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，上述的上盖的材料例如为透明的丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，上述的前盖的材料例如为丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，上述的第一沟槽与第二沟槽的宽度例如为35mm。
依照本实用新型实施例所述的光掩模盒，上述第一侧板与第二侧板的材料例如为丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
本实用新型的优点在于，该光掩模盒于相对的两个侧板上分别设置相对的两个沟槽，因此使用者可以直接将光掩模盒打开并使用光掩模夹将光掩模盒中的光掩模取出，进行光掩模目视检查与吹除微尘的步骤，而不需要将光掩模盒先置于光掩模移载开启机中，然后通过光掩模移载开启机将光掩模置于拖盘上，再使用光掩模夹将光掩模取出，因此避免了在光掩模由光掩模盒移送至拖盘的过程中，使光掩模受到污染或损坏，且简化了光掩模的移动过程。此外，由于不需要使用到光掩模移载开启机，也因此降低了耗费在光掩模移载开启机上的生产成本。
为让本实用新型之上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。
附图说明
图1为现有一种光掩模盒的示意图；
图2为本实用新型实施例所绘示的光掩模盒的示意图；
图3A为左右夹取式的光掩模夹的示意图；
图3B为前后夹取式的光掩模夹的示意图。
主要元件符号说明：
100、200：光掩模盒
102：下盖
103、105、203、205：转轴
104、204：上盖
106、206：前盖
108、216：基座
110、218、220、222：定位板
202：盒体
208：底板
210、212、214：侧板
211、213：沟槽
300a、300b：光掩模夹
302、304、312、314：夹取部
306、316：夹取开关
308、310：固定部
具体实施方式
图2为依照本实用新型实施例所绘示的光掩模盒的示意图。请参照图2，光掩模盒200包括盒体202、上盖204与前盖206。上盖204沿转轴203与盒体202枢接，使上盖204可相对于盒体202向上开启，而前盖206沿转轴205枢接于上盖204相对于转轴203的另一侧，使前盖206可相对于盒体202向前开启。上盖204一般为透明材料，例如为透明的丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。前盖206的材料例如为丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
请继续参照图2，盒体202包括底板208、侧板210、212、214与定位板218、220、222。底板208的材料例如为铝。侧板210、212、214的材料例如为丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。定位板218、220、222的材料例如为丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
侧板210与侧板212相对配置于底板208上。侧板214配置于底板208上且连接侧板210与侧板212。
定位板218与定位板220配置于侧板210与侧板212之间的底板208上，且定位板218位于侧板210旁，而定位板220位于侧板212旁，用以固定置于光掩模盒200中的光掩模(未绘示)。定位板222位于侧板214旁，使得光掩模置于光掩模盒200中时，光掩模与侧板214之间保留有空隙，使光掩模夹可以伸入空隙中而将光掩模取出。
此外，定位板218具有沟槽211，而定位板220具有沟槽213。沟槽213与沟槽211相对，且沟槽211与沟槽213的延伸方向垂直于底板208。沟槽211、213的宽度例如为35mm，其可以容纳一般常见的光掩模夹的尺寸，使光掩模夹可以经由沟槽211、213伸入盒体202中将光掩模取出。
由于定位板218与定位板220分别具有沟槽211与沟槽213，因此当使用者欲取出光掩模盒200中的光掩模时，可以直接将上盖204与前盖206打开，然后经由沟槽211与沟槽213，将光掩模夹伸入盒体202中取出光掩模，以进行后续的光掩模目视检查与吹除微尘。由于不需要先将光掩模盒200置于光掩模移载开启机(未绘示)中，再通过光掩模移载开启机将光掩模盒200开启并将光掩模置于拖盘(未绘示)上，因此避免了光掩模经由光掩模移载开启机移送至拖盘的过程中受到污染或损坏，并且也简化了光掩模的移送过程。
另外，在底板208上还可以配置有基座216。基座216的材料例如为聚醚醚酮。基座216可以在光掩模置于光掩模盒200中时，用以支撑光掩模，使光掩模不会与底板208相接触而产生损坏或污染。
特别一提的是，由于沟槽211与沟槽213位于盒体202的相对两个定位板218、220上，因此当使用者取出光掩模时，可以使用任何一种常用的光掩模夹，例如是左右夹取式的光掩模夹(请参照图3A)或是前后夹取式的光掩模夹(请参照图3B)。
以下分别以左右夹取式的光掩模夹与前后夹取式的光掩模夹为例说明夹取光掩模盒中的光掩模的步骤。
当使用者持左右夹取式的光掩模夹300a来取出光掩模时，先将光掩模夹300a的夹取部302、304分别经由沟槽211、213伸入盒体202中。然后，按下夹取开关306，使夹取部302、304夹住光掩模而直接将光掩模取出(请同时参照图2与图3A)。
当使用者持前后夹取式的光掩模夹300b来取出光掩模时，先将光掩模夹300b的固定部308、310分别经由沟槽211、213伸入盒体202中，以及将夹取部312经由定位板222与侧板214之间的空隙伸入盒体202中。然后，推动夹取开关316，使夹取部314向光掩模移动，利用固定部308、310固定光掩模以及夹取部312、314夹住光掩模而直接将光掩模取出(请同时参照图2与图3B)。
综上所述，本实用新型的光掩模盒于相对的两个侧板上分别设置相对的两个可以容纳任何一种熟知的光掩模夹的沟槽，因此使用者可以直接打开光掩模盒，将光掩模夹经由沟槽取出盒体中的光掩模，而不需要将光掩模盒先置于光掩模移载开启机中，通过光掩模移载开启机开启光掩模盒并将光掩模置于拖盘上，再使用光掩模夹将光掩模取出，避免了在光掩模由光掩模盒移送至拖盘的过程中受到污染或损坏，且简化了光掩模的移动过程。此外，由于使用者是直接将光掩模盒打开并取出光掩模，不需要使用到昂贵的光掩模移载开启机，也因此降低了生产成本。
Claims (10)
1.一种光掩模盒，该光掩模盒包括：一盒体；一上盖，与该盒体枢接；以及一前盖，与该上盖枢接，其特征在于，该盒体包括：一底板；一第一侧板与一第二侧板，相对配置于该底板上；一第三侧板，配置于该底板上且连接该第一侧板与该第二侧板；以及一第一定位板与一第二定位板，配置于该第一侧板与该第二侧板之间的该底板上，且分别位于该第一侧板与该第二侧板旁，其中该第一定位板具有一第一沟槽，而该第二定位板具有一第二沟槽，该第二沟槽与该第一沟槽相对，且该第一沟槽与该第二沟槽的延伸方向垂直于该底板。
2.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，还包括多个基座，配置于该底板上。
3.如权利要求2所述的光掩模盒，其特征在于，该基座的材料包括聚醚醚酮。
4.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，还包括多个第三定位板，配置于该底板上，且位于该第二侧板旁。
5.如权利要求4所述的光掩模盒，其特征在于，该第三定位板的材料包括丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
6.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该底板的材料包括铝。
7.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该上盖的材料包括透明的丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
8.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该前盖的材料包括丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
9.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该第一沟槽与该第二沟槽的宽度为35mm。
10.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该第一侧板与该第二侧板的材料包括丙烯晴-丁二烯-苯乙烯共聚物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2006201213260U CN2924591Y (zh) | 2006-06-22 | 2006-06-22 | 光掩模盒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2006201213260U CN2924591Y (zh) | 2006-06-22 | 2006-06-22 | 光掩模盒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN2924591Y true CN2924591Y (zh) | 2007-07-18 |
Family
ID=38261023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNU2006201213260U Expired - Fee Related CN2924591Y (zh) | 2006-06-22 | 2006-06-22 | 光掩模盒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN2924591Y (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108107672A (zh) * | 2016-11-25 | 2018-06-01 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种掩模版版盒 |
| CN109388031A (zh) * | 2017-08-11 | 2019-02-26 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 掩模版传输系统及方法、光刻设备及方法 |
-
2006
- 2006-06-22 CN CNU2006201213260U patent/CN2924591Y/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108107672A (zh) * | 2016-11-25 | 2018-06-01 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种掩模版版盒 |
| US10908497B2 (en) | 2016-11-25 | 2021-02-02 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Mask box |
| CN109388031A (zh) * | 2017-08-11 | 2019-02-26 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 掩模版传输系统及方法、光刻设备及方法 |
| US11106143B2 (en) | 2017-08-11 | 2021-08-31 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Mask fork for transferring mask, and corresponding mask box and mask transferring method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100628455B1 (ko) | 칩 스케일 마커 및 마킹방법 | |
| JP5553065B2 (ja) | 基板搬送用ハンドおよび基板搬送ロボット | |
| CN2924591Y (zh) | 光掩模盒 | |
| US20090180087A1 (en) | Seal Ring Arrangements for Immersion Lithography Systems | |
| JP2000208587A (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
| WO2024002312A1 (zh) | 一种化学机械平坦化设备及晶圆传输方法 | |
| CN202491505U (zh) | 一种压合机 | |
| US20050061247A1 (en) | Substrate processing apparatus, and combined system of functional blocks for use in substrate processing apparatus | |
| CN201032516Y (zh) | 掩模盒 | |
| JP4488590B2 (ja) | 被加工物の分割方法 | |
| US20090273765A1 (en) | Immersion flow field maintenance system for an immersion lithography machine | |
| JP2014190998A (ja) | 基板収納ケース | |
| KR101241043B1 (ko) | 트레이 교체 장치 및 이를 이용한 개별 트레이 기판 물류 방법 | |
| TWM515693U (zh) | 光罩取料裝置及其夾持機構 | |
| CN210244076U (zh) | 一种双层自由移动的高精度对位平台 | |
| TWM449428U (zh) | 電路板的折板治具 | |
| CN221776972U (zh) | 一种上料机构及光罩处理装置 | |
| CN204440007U (zh) | 一种移动式组合对准标记的光刻版 | |
| CN205539917U (zh) | 光罩盒 | |
| CN117082746B (zh) | 一种半蚀刻铜面文字的加工方法 | |
| CN1297854C (zh) | 光掩模传送方法 | |
| CN212808908U (zh) | 一种基底辅助定位上料装置 | |
| CN213861287U (zh) | 带常压等离子清洗功能的凹版移印系统 | |
| CN211905976U (zh) | 一种用于掩膜版的烘烤夹具及烘烤系统 | |
| CN219633654U (zh) | 一种晶圆夹具拆解工作台 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20070718 Termination date: 20100622 |