CN109336128A - 一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法 - Google Patents

一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种生产99%‑99.99%高纯度单质硼的工艺方法,属于化学物质制备技术领域,其以硼化物和氮化物为原料,通过低温脱水、高温合成,制备得到粉末状的六方体氮化硼,然后将六方体氮化硼粉末纯化后进行高温分解,最终得到微细硼粉,用本发明制备得到的单质硼的纯度高达99%‑99.99%,粒度≤30μm,且本发明的方法工艺简单,环保无毒。

Description

一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法
技术领域
本发明涉及单质硼制备技术领域,具体涉及一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法。
背景技术
单质硼是一种用途广泛的化工原料矿物,除了在生产硼砂、硼酸和硼的各种化合物以外,还是冶金、建材、机械、电器、化工、轻毛、核工业、医药、农业等部门的重要原料。高纯度的单质硼可以应用于电子工业中,尤其是在热流锂硼电池的制造过程中有重要应用,可以改善军工装备的升级。在核工业中,高纯度单质硼可以使屏蔽材料走向小型化。在军工装备中,高纯度单质硼对推进剂升级起到重要作用。在金属材料中,高纯度单质硼具有耐磨、抗冲击、耐高温的效果。在非金属材料中,高纯度单质硼具有改性作用。
关于单质硼的制备,目前主要有以下几种方法:
1.氧化硼与镁或铝还原法
2.卤化硼与氢还原法
3.熔融电解法
其中第一种和第二种方法比较适用于实验室制备,只有熔融电解法适于大规模生产,但这种方法的缺点是杂质高,很难得到高纯度的产品。另外,即使是氧化硼与镁或铝还原法,生产的产品也因杂质的作用,无法满足制备高纯度单质硼的技术要求,并且难以控制单质硼的粒度,限制了使用方向和范围,生产成本也较高。
利用氢还原卤化硼,也可制备出高纯度产品,但这种方法工艺复杂,成本高,回收率低,对环境污染较大,生产条件苛刻。
硼烷裂解法也可以得到高纯硼,但硼烷活泼,易燃易爆、毒性大、安全防护问题难以解决。
由于缺乏工艺简单、安全环保的制备方法,我国99%以上的高纯度单质硼要完全依赖于进口。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明采用高温分解法来制备高纯度单质硼,不仅工艺简单、环保无污染,制得的产品纯度高达99%-99.99%。
本发明为达到上述目的,所采用的技术方案如下:
一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,包括如下步骤:
(1)将硼化物和氮化物按照化学计量比充分混合;
(2)将混合好的硼化物和氮化物在300-400℃下脱水;将脱水后的物料压制成块,优选的脱水温度为300℃;
(3)将脱水后的物料进行煅烧,煅烧温度为1650-1750℃,得到微细相精粉产物A;产物A为白色粉末状的六方体氮化硼;优选的煅烧温度为1700℃;
(4)将产物A纯化后在1700-2700℃条件下高温真空煅烧,分解得到粉末状产物B;产物B为单质硼粉;单质硼粉为B型硼粉;
(5)将产物B进行粉体捕杂后得到高纯度单质硼产品。
进一步的,所述硼化物和氮化物按照物质的量,混合比例为2.24:1。
作为本发明的进一步改进,所述硼化物为硼酸、无水硼砂、氧化硼和偏硼酸中的至少一种,优选硼酸。氮化硼在制备过程中,为了使最终产品硼粉的纯度要达到99%-99.99%,氮化硼的品质也要达到相应的高纯度要求。目前市场采购的硼酸直接与三聚氰胺混合制备的氮化硼纯度较低,达不到高纯度技术指标。因此,如果以硼酸为原料,本发明前期需要对硼酸进行除杂和重结晶,即先将硼酸用80℃以上的热水进行水洗,并加入EDTA去除金属杂质,进行充分过滤后,将滤液进行重结晶,制得高纯度的硼酸晶体作为前驱体。
作为本发明的进一步改进,所述氮化物为三聚氰胺、氯化铵和双氰胺中的至少一种。
进一步的,所述步骤(4)中的纯化过程如下:将产物A通过用热水冲洗、充分过滤和常温干燥。
进一步的,所述步骤(5)中粉体捕杂过程如下:将产物B经过表面处理,用无水乙醇和EDTA除杂烘干,筛选块状晶体,进行粉碎处理后得到高纯度单质硼产品,单质硼产品为晶体粒。
进一步的,所述表面处理过程如下:因为时差与温差原因,制备得到的硼粉粒度有差异,因此单质硼出炉时,分上、中、下三个层次出炉;对每个层次的硼粉料进行分筛,按照粒度进行分类;对每个类别的硼粉用蒸馏水或高纯度酒精进行清洗,烘干去除水分。以此得到不同等级的单质硼。
与现有技术相比,本发明具有如下技术效果:
六方体氮化硼,俗称白石墨,具有松散、润滑、易吸潮的特点,六方体氮化硼具有优良的化学稳定性,在真空条件下热分解温度很高。虽然在理论上用氮化硼分解得到的单质硼的纯度很高,但是由于分解温度很难达到,而且耐如此高温的化工设备也比较少,因此,用六方体氮化硼为原料制备单质硼具有很大的技术难度。
氮化硼的热分解温度为1700-2700℃,真空度越高,分解温度越低,反之,真空度越低,分解温度越高,氮化硼分解产生单质硼与氮气,产生的氮气会增大体系压力,导致分解温度升高,而本申请将所产生的氮气在加热过程中全程保持真空,或接近于真空,主要是通过抽真空设备的辅助,随时抽取生成的氮气产物,以维持体系内部的真空度,从而使氮化硼在1800℃左右就可以分解得到单质硼,解决了这一技术难题,降低了现有技术的技术难度,制备得到的氮化硼纯度可到4N,即99.99%,且本发明制备的单质硼粒度分布均匀,单质硼粒度≤30μm,由于本发明采用高温分解氮化硼制备硼单质,产生的氮气以气体释放,过程中未引入其他杂质元素,固制备得到的固体产物主要为硼单质,杂质较少,因此除杂过程简单,硼的回收率高,在生产过程中没有污染。
目前氮化硼的制备方式大部分是属于干锅式生产方式,这种方式制备的氮化硼中的氧化硼含量高,原因是烧制过程中,炉体内的料受温不一致,形成料的表层和内层温差大,产出的氮化硼达不到指标要求。本申请对混合好的物料先进行300度-400度的高温脱水烘干,将烘干的物料压制成块,增加密度,便于化合,然后采用管式炉逐渐加热升温,本发明是通过分段加温方式实现逐渐升温的目的的,这样可以使每一块原料都要经过一个恒定时间的高温区,从而物料充分聚晶,产出的氮化硼中的氧化硼含量低于0.02%。满足了硼粉制备的指标要求。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明的技术方案进行进一步详细说明。
实施例1:
本实施例的制备方法包括如下步骤:
(1)称取122.6kg的硼酸,用85℃的热水进行水洗,并加入EDTA去除金属杂质,进行3次过滤,将滤液进行重结晶得到高纯度的硼酸晶体作为前驱体,然后将其与126.12kg的三聚氰胺至密封混料器中混合均匀;
(2)将混合好的硼酸晶体和三聚氰胺放置到烘干炉中,300℃下脱水,将脱水后的物料压制成块;
(3)将脱水后的物料置于高温真空炉中进行煅烧,煅烧温度为1700℃,硼酸和三聚氰胺的混合物受热,聚晶形成六方体氮化硼白色粉末,即产物A;
(4)将产物A用热水进行3次冲洗、过滤、干燥后置于石墨坩埚中,将石墨坩埚置于高温真空炉中,在1800℃条件下高温真空煅烧,在煅烧过程中连接抽真空设备,及时将反应体系中产生的氮气排除,以保证反应体系的真空度,氮化硼分解得到粉末状产物B;产物B为单质硼;
(5)将出炉后的产物B进行分级、分类,进行表面处理,用无水乙醇和EDTA除杂烘干,筛选得到块状晶体,经过粉碎后形成晶体粒产品,即高纯度单质硼。
因为时差与温差原因,制备得到的硼粉粒度有差异,因此硼粉出炉时,分上中下三个层次出炉;对每个层次的硼粉料进行分筛,按照粒度进行分类;对每个类别的硼粉用蒸馏水或高纯度酒精进行清洗,烘干去除水分。
对所得到的产物单质硼进行纯度测试和粒度检测,检测结果显示本实施例中硼的纯度为99.86%,平均粒度为22μm。
实施例2:
本实施例的制备方法包括如下步骤:
(1)称取150kg的无水硼砂和75kg的双氰胺至密封混料器中混合均匀;
(2)将混合好的无水硼砂和双氰胺放置到烘干炉中,300℃下脱水;
(3)将脱水后的物料置于高温真空炉中进行煅烧,煅烧温度为1750℃,无水硼砂和双氰胺的混合物受热,聚晶形成六方体氮化硼白色粉末,即产物A;
(4)将产物A用热水进行3次冲洗、过滤、干燥后置于石墨坩埚中,将石墨坩埚置于高温真空炉中,在1950℃条件下高温真空煅烧,分解得到粉末状产物B;产物B为单质硼粉;单质硼粉为单质B型硼粉;
(5)将出炉后的产物B进行分级、分类,进行表面处理,用无水乙醇和EDTA除杂烘干,筛选得到块状晶体,经过粉碎后形成晶体粒产品,即高纯度单质硼。
因为时差与温差原因,制备得到的硼粉粒度有差异,因此硼粉出炉时,分上中下三个层次出炉;对每个层次的硼粉料进行分筛,按照粒度进行分类;对每个类别的硼粉用蒸馏水或高纯度酒精进行清洗,烘干去除水分。
对所得到的产物单质硼进行纯度测试和粒度检测,检测结果显示本实施例中硼的纯度为99.95%,平均粒度为30μm。
实施例3:
本实施例的制备方法包括如下步骤:
(1)称取150kg的偏硼酸和100kg的氯化铵至密封混料器中混合均匀;
(2)将混合好的偏硼酸和氯化铵放置到烘干炉中,300℃下脱水;
(3)将脱水后的物料置于高温真空炉中进行煅烧,煅烧温度为1700℃,偏硼酸和氯化铵的混合物受热,聚晶形成六方体氮化硼白色粉末,即产物A;
(4)将产物A用热水进行3次冲洗、过滤、干燥后置于石墨坩埚中,将石墨坩埚置于高温真空炉中,在2000℃条件下高温真空煅烧,分解得到粉末状产物B;产物B为单质硼粉;单质硼粉为B型硼粉;
(5)将出炉后的产物B进行分级、分类,进行表面处理,用无水乙醇和EDTA除杂烘干,筛选得到块状晶体,经过粉碎后形成晶体粒产品,即高纯度单质硼。
因为时差与温差原因,制备得到的硼粉粒度有差异,因此硼粉出炉时,分上中下三个层次出炉;对每个层次的硼粉料进行分筛,按照粒度进行分类;对每个类别的硼粉用蒸馏水或高纯度酒精进行清洗,烘干去除水分。
对所得到的产物单质硼进行纯度测试和粒度检测,检测结果显示本实施例中硼的纯度为99.99%,平均粒度为21μm。
本发明所述的抽真空设备为罗茨滑阀真空机组。罗茨滑阀真空机组是市售产品,其具体结构与工作原理是本领域普通技术人员应当得知的公知常识,且并非发明要点,在此不做赘述。
本发明所述的硼的纯度测试,是采用原子发射光谱仪(ICP)设备进行检测,该方法是目前国内较为先进和通用的无机元素定性和定量分析方法,可同时检出在一个样品中的多种元素。检测设备与检测方法为本领域普通技术人员应当得知的公知常识,且并非发明要点,在此不做赘述。
以上所述的实施例仅是对本发明的优选方式进行描述,并非对本发明的范围进行限定,在不脱离本发明设计精神的前提下,本领域普通技术人员对本发明的技术方案做出的各种变形和改进,均应落入本发明权利要求书确定的保护范围内。

Claims (7)

1.一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将硼化物和氮化物按照化学计量比充分混合;
(2)将混合好的硼化物和氮化物在300-400℃下脱水,将脱水后的物料压制成块;
(3)将脱水后的物料进行煅烧,煅烧温度为1650-1750℃,得到微细相精粉产物A;
(4)将产物A纯化后在1700-2700℃条件下高温真空煅烧,分解得到粉末状产物B;
(5)将产物B进行粉体捕杂后得到高纯度单质硼晶体粒产品。
2.根据权利要求1所述的一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,其特征在于,所述硼化物和氮化物按照物质的量,混合比例为2.24:1。
3.根据权利要求1所述的一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,其特征在于,所述步骤(4)中的纯化过程如下:将产物A通过用热水冲洗、充分过滤和常温干燥。
4.根据权利要求1所述的一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,其特征在于,所述硼化物为硼酸、无水硼砂、氧化硼和偏硼酸中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,其特征在于,所述氮化物为三聚氰胺、氯化铵和双氰胺中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,其特征在于,所述步骤(5)中粉体捕杂过程如下:将产物B经过表面处理,用无水乙醇和EDTA除杂烘干,筛选块状晶体,进行粉碎处理后得到高纯度单质硼产品。
7.根据权利要求6所述的一种生产99%-99.99%高纯度单质硼的工艺方法,其特征在于,
所述表面处理过程如下:硼粉出炉时,分上中下三个层次出炉;对每个层次的硼粉料进行分筛,按照粒度进行分类;对每个类别的硼粉用蒸馏水或高纯度酒精进行清洗,烘干去除。
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