CN109305824A - 一种干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法 - Google Patents

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Abstract

本发明揭示了一种干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,陶瓷层损伤包括缺损损伤,当出现缺损损伤时,将环氧树脂液体封孔剂与Al2O3粉末按照2‑3:1的质量比进行混合,将混合的溶剂涂抹在缺损损伤部位,待涂抹的溶剂固化后进行打磨抛光。本发明是一种快捷而方便的局部改善方法,通过液体胶充分包裹粉末颗粒的形式,相互交织,硬化后结构致密,不仅修复了损伤,使得内部缺陷消除和局部结构更为结实,极大的减少了全面翻新的巨额成本和缩短了制作时间,降低了能源、人力耗费;能够提升本公司的生产效益。

Description

一种干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法
技术领域
本发明涉及干法刻蚀领域,尤其涉及干法刻蚀部件陶瓷层损伤修复的方法。
背景技术
干法刻蚀主要设备分为上部电极和下部电极,及陶瓷部件和铝合金壁板部件。由于陶瓷硬、脆和结构致密的属性,在搬运,运输,安装和卸载的过程中,不可避免的会造成棱线,边角的部位出现接触挤压、震动、碰撞等损伤,会引起外观不良,甚至导致功能属性异常,对于下部电极结构较为复杂,基体上有大量的陶瓷粘结,总体结构为三明治结构,在不锈钢或者铝基上部有从下往上依次为,第一绝缘层,导电层,第二绝缘层;此外,还有从基材下端平面延伸到导电层DC port(直流电源端)。当下部电极表面陶瓷层发生破损或局部击穿时,外观和结构出现不良,如果整体翻新需要耗费大量的人力物力资源,周期2~3月,阻碍了原本正常运行的生产。
目前,对于小缺陷采用的是环氧树脂成分的固体真空胶涂抹的方式修补;大缺陷采用的是涂层部分去除,进行表面再生;或者涂层完全去除,进行全面再生的方式修复。制作时间长,成本高,而且增加了大量的搬运和行吊过程,增加了新缺陷出现的机会。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是实现一种快捷、高效、可靠的干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案为:一种干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,陶瓷层损伤包括缺损损伤,当出现缺损损伤时,将环氧树脂液体封孔剂与Al2O3粉末按照2-3:1的质量比进行混合,将混合的溶剂涂抹在缺损损伤部位,待涂抹的溶剂固化后进行打磨抛光。
当所述缺损损伤面积大且凹陷浅难以附着混合的溶剂时,预先制作能够覆盖在缺损损伤上方的模具,将混合的溶剂涂抹在缺损损伤部位后使用模具覆盖,待溶剂固化后模具会自动脱离。
陶瓷层损伤还包括电弧损伤,当出现电弧损伤时,将电弧损伤外围贴上遮蔽胶带,再对电弧损伤部位进行喷砂,直至黑色的印记和/或污染物去掉,将环氧树脂液体封孔剂与Al2O3粉末按照2-3:1的质量比进行混合,将混合的溶剂涂抹在电弧损伤部位,待涂抹的溶剂固化后进行打磨抛光。
所述遮蔽胶带的宽度为0.2-0.4m。
所述喷砂采用100-220目的白刚玉,喷砂压力0.25-0.3Mpa,喷射口距离电弧损伤部位0.2-0.4m。
喷砂结束后需要用气枪吹净被喷砂部位。
本发明是一种快捷而方便的局部改善方法,通过液体胶充分包裹粉末颗粒的形式,相互交织,硬化后结构致密,不仅修复了损伤,使得内部缺陷消除和局部结构更为结实,极大的减少了全面翻新的巨额成本和缩短了制作时间,降低了能源、人力耗费;能够提升本公司的生产效益。
具体实施方式
金属氧化物陶瓷Y2O3纯度99.9%以上,颗粒尺寸为63±10um,硬度可达(耐磨性)6.0GPa,介电损耗低,等离子体阻抗高,具有优异的耐热、耐腐蚀、化学稳定性;更高的耐等离子体侵蚀的性能,表现为优秀的等离子抗性;主要用途为制程腔体零部件,根据不同的使用环境,制作相应的功能涂层。
金属氧化物陶瓷Al2O3具有良好的机械强度;电绝缘性、高频损耗;导热性和耐热性、耐磨性;Al2O3纯度99.9%以上,介电层硬度(耐磨性)15.2GPa,耐腐蚀性,常作为功能涂层。
高性能环氧树脂液体封孔剂产品本身具有适宜的操作时间,有高流动性,高渗透性;固化后耐黄变,耐高低温,耐水及化学性能优异,固化后产物具有高硬度、高透明、良好的粘结力、良好的机械性能及电性能,高绝缘阻抗;气密性良好;抗腐蚀性能优异。
对于部件结构完全为陶瓷,如果出现边角损伤时;采用高性能环氧树脂液体封孔剂同喷涂专用粉末Al2O3按2~3:1的比例进行复配,然后用牙签涂抹在缺陷部位,如果缺陷处较浅且大,可制作辅助的塑料模具(将喷涂粉末的内层密封盖沿平面中间裁剪,两片90°粘结即可制作出直角面),固定在该部分,固化完成后,模具会脱离;接着对固化后的部位进行手动打磨及抛光处理,到达相应的光洁度和外观形状即可。
对于下部电极上面的陶瓷涂层,如果出现arcing(电弧损伤)引起的外观出现黑色印记及局部击穿时,需要在该部位外围贴合0.2~0.4m宽的遮蔽胶带,采用白刚玉100~220目,压力0.25~0.3Mpa;高度为0.2~0.4m,即手动喷砂的方式,将黑色的印记及污染物去掉,用气枪将该处吹干净,如果陶瓷涂层成分为Al2O3时,采用高性能环氧树脂液体封孔剂同喷涂专用粉末Al2O3按2~3:1的比例进行复配,如果陶瓷涂层成分为Y2O3时,采用高性能环氧树脂液体封孔剂同喷涂粉末Al2O3按2~3:1的比例进行复配然后用牙签涂抹在缺陷部位,如果缺陷较浅且大,可制作辅助的塑料模具(将喷涂粉末的内层密封盖沿平面中间裁剪,两片90°粘结即可制作出直角面),固定在改部分,固化完成后,模型会脱离;接着对固化后的部位进行手动打磨及抛光处理,到达相应的光洁度和外观形状即可。

Claims (6)

1.一种干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,陶瓷层损伤包括缺损损伤,其特征在于:当出现缺损损伤时,将环氧树脂液体封孔剂与Al2O3粉末按照2-3:1的质量比进行混合,将混合的溶剂涂抹在缺损损伤部位,待涂抹的溶剂固化后进行打磨抛光。
2.根据权利要求1所述的干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,其特征在于:当所述缺损损伤面积大且凹陷浅难以附着混合的溶剂时,预先制作能够覆盖在缺损损伤上方的模具,将混合的溶剂涂抹在缺损损伤部位后使用模具覆盖,待溶剂固化后模具会自动脱离。
3.根据权利要求1或2所述的干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,其特征在于:陶瓷层损伤还包括电弧损伤,当出现电弧损伤时,将电弧损伤外围贴上遮蔽胶带,再对电弧损伤部位进行喷砂,直至黑色的印记和/或污染物去掉,将环氧树脂液体封孔剂与Al2O3粉末按照2-3:1的质量比进行混合,将混合的溶剂涂抹在电弧损伤部位,待涂抹的溶剂固化后进行打磨抛光。
4.根据权利要求3所述的干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,其特征在于:所述遮蔽胶带的宽度为0.2-0.4m。
5.根据权利要求4所述的干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,其特征在于:所述喷砂采用100-220目的白刚玉,喷砂压力0.25-0.3Mpa,喷射口距离电弧损伤部位0.2-0.4m。
6.根据权利要求5所述的干法刻蚀部件陶瓷层损伤的修复方法,其特征在于:喷砂结束后需要用气枪吹净被喷砂部位。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111718209A (zh) * 2020-05-04 2020-09-29 唐山中陶卫浴制造有限公司 一种陶瓷修补方法
CN113667919A (zh) * 2021-08-23 2021-11-19 苏州众芯联电子材料有限公司 一种用于lcd和amoled干刻下部电极的再生工艺

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102140038A (zh) * 2010-02-01 2011-08-03 李传才 瓷具修复材料及其制备方法以及瓷具修复的工艺方法
CN102417372A (zh) * 2011-07-31 2012-04-18 河南爱迪德电力设备有限责任公司 一种高压电瓷修补剂的制造及其使用方法
CN102909781A (zh) * 2012-10-25 2013-02-06 中国西电电气股份有限公司 一种电瓷制品大损伤伞群修饰方法
CN103286516A (zh) * 2013-05-31 2013-09-11 河海大学 一种水力机械过流部件空蚀复合修复覆层及其制备方法
CN107630185A (zh) * 2017-09-15 2018-01-26 芜湖通潮精密机械股份有限公司 一种干刻机台内壁板再生方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102140038A (zh) * 2010-02-01 2011-08-03 李传才 瓷具修复材料及其制备方法以及瓷具修复的工艺方法
CN102417372A (zh) * 2011-07-31 2012-04-18 河南爱迪德电力设备有限责任公司 一种高压电瓷修补剂的制造及其使用方法
CN102909781A (zh) * 2012-10-25 2013-02-06 中国西电电气股份有限公司 一种电瓷制品大损伤伞群修饰方法
CN103286516A (zh) * 2013-05-31 2013-09-11 河海大学 一种水力机械过流部件空蚀复合修复覆层及其制备方法
CN107630185A (zh) * 2017-09-15 2018-01-26 芜湖通潮精密机械股份有限公司 一种干刻机台内壁板再生方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
蒋立刚: "《现代设备管理、故障诊断及维修技术》", 31 December 2010 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111718209A (zh) * 2020-05-04 2020-09-29 唐山中陶卫浴制造有限公司 一种陶瓷修补方法
CN113667919A (zh) * 2021-08-23 2021-11-19 苏州众芯联电子材料有限公司 一种用于lcd和amoled干刻下部电极的再生工艺

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