CN109273502B - 显示背板及其制作方法以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了显示背板及其制作方法以及显示装置。其中，显示背板包括：衬底；薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管阵列设置在所述衬底的一个表面上；紫外光屏蔽层，所述紫外光屏蔽层设置在所述薄膜晶体管阵列远离衬底的一侧；像素界定层，所述像素界定层设置在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的一侧；薄膜封装层，所述薄膜封装层设置在所述像素界定层远离所述衬底的一侧，其中，所述像素界定层中含有光转换材料，所述光转换材料可在红外光的激发作用下发射紫外光。发明人发现，该显示背板结构简单、易于实现，无需使用造价高昂的紫外光掩膜版，降低显示背板的生产成本。

Description

显示背板及其制作方法以及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体的，涉及显示背板及其制作方法以及显示装置。
背景技术
OLED近年来在显示以及照明技术领域中逐渐发展起来，尤其在显示领域，由于其具有高响应、高对比度、可柔性化等优点，拥有广泛的应用前景。但是，由于OLED器件在水汽和氧气的作用下，会出现腐蚀损坏的现象，因此，选择较好的封装方式对OLED器件来说尤为重要。目前，薄膜封装是一种广泛应用在OLED显示背板制作中的封装方式，该封装方式仍存在不足之处限制了OLED显示背板的普及。
因而，目前的显示背板仍有待改进。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种显示背板，该显示背板结构简单、易于实现、成本较低或者对其进行封装时几乎不会损伤薄膜晶体管。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种显示背板。根据本发明的实施例，该显示背板包括：衬底；薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管阵列设置在所述衬底的一个表面上；紫外光屏蔽层，所述紫外光屏蔽层设置在所述薄膜晶体管阵列远离衬底的一侧；像素界定层，所述像素界定层设置在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的一侧；薄膜封装层，所述薄膜封装层设置在所述像素界定层远离所述衬底的一侧，其中，所述像素界定层中含有光转换材料，所述光转换材料可在红外光的激发作用下发射紫外光。发明人发现，该显示背板结构简单、易于实现，对该显示背板进行封装时，无需直接使用紫外光对显示背板进行照射，有效避免直接照射紫外光对有源层(尤其是薄膜晶体管中的氧化物半导体)的损伤，且在红外光的激发作用下，含有光转换材料的像素界定层可以作为点光源发光，可以控制紫外光照射的范围，散射、透射至薄膜晶体管的光量较弱、光通量较小，极大的限制了薄膜晶体管的曝光量，减小了对薄膜晶体管的损害，几乎不会引起薄膜晶体管的电子迁移率漂移的问题，提高产品良率，降低成本，且使用红外光照射时几乎不会损伤显示背板周边的测试元件(TEG)区，进一步提高产品良率。
根据本发明的实施例，形成所述紫外光屏蔽层的材料包括氧化锌、硫化锌和二氧化钛中的至少之一。
根据本发明的实施例，所述紫外光屏蔽层的厚度为0.03-0.5微米。
根据本发明的实施例，该显示背板还包括：第一电极，所述第一电极包括位于所述像素界定层限定出的开口中的部分；发光层，所述发光层设置在所述第一电极远离所述衬底的表面上；第二电极，所述第二电极设置在所述发光层远离所述衬底的表面上，其中，所述紫外光屏蔽层和所述第一电极位于所述像素界定层限定出的开口中的部分同层设置。
根据本发明的实施例，所述紫外光屏蔽层在所述衬底上的正投影覆盖所述像素界定层在所述衬底上的正投影。根据本发明的实施例，形成所述光转换材料的材料包括掺杂有稀土离子的氧化物、掺杂有稀土离子的氟化物、掺杂有稀土离子的氟氧化物、掺杂有稀土离子的硫化物和掺杂有稀土离子的卤化物中的至少之一。
根据本发明的实施例，形成所述光转换材料的材料包括β-NaYF4：Yb3+,Tm3+/CdSe、β-NaYF4:Ln3+和β-NaYF4：Yb3+,Er3+中的至少之一。
根据本发明的实施例，所述光转换材料的形状包括光转换粒子。
根据本发明的实施例，所述光转换粒子的粒径为5-20纳米。
根据本发明的实施例，基于所述像素界定层的总质量，所述光转换材料在所述像素界定层中的含量为5-30wt％。
根据本发明的实施例，所述薄膜封装层中含有紫外固化材料。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种制作前面所述的显示背板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：在衬底的一个表面上形成薄膜晶体管阵列；在所述薄膜晶体管阵列远离所述衬底的一侧形成紫外光屏蔽层；在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的一侧形成像素界定层；在所述像素界定层远离所述衬底的一侧形成薄膜封装层。发明人发现，该制作显示背板的方法操作简单、方便，成本较低，适于大规模生产，且制作得到的显示背板具备前面所述的所有特征和优点，在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例，形成所述像素界定层包括：将所述光转换材料与第一溶液混合，以便获得混合溶液；将所述混合溶液涂覆在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的表面上并干燥，以便获得绝缘层；对所述绝缘层进行图案化处理，以便获得所述像素界定层。
根据本发明的实施例，形成所述紫外光屏蔽层的方法包括溅射、打印、喷涂以及原子层沉积中的至少之一。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，该显示装置包括前面所述的显示背板。发明人发现，该显示装置结构简单、易于实现，成本较低，良率较高，显示质量较高。
附图说明
图1是现有技术中利用紫外光照射显示背板进行固化显示背板中的薄膜封装层的示意图。
图2是本发明一个实施例中利用红外光照射显示背板进行固化显示背板中的薄膜封装层的示意图。
图3是图1中沿AA’方向的剖面图。
图4是本发明另一个实施例中的显示背板的结构示意图。
图5是本发明一个实施例中制作显示背板的方法流程示意图。
图6是本发明一个实施例中制作像素界定层的方法流程示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
本发明是基于发明人的以下认识和发现而完成的：
目前，对显示背板进行封装的方式通常为采用无机层和有机层堆叠的薄膜封装结构对OLED器件进行覆盖，以达到阻隔水氧的目的。其中依靠无机层进行水氧阻隔作用，依靠有机层进行应力释放和平坦化等作用。目前有机层制作通常采用喷墨打印工艺，将液态单体类有机物打印无机封装层的表面，经过紫外(UV)光照射成为固态链状聚合物。但是，在大尺寸OLED显示背板的制作过程中，参照图1，采用UV光2照射对薄膜晶体管210(TFT)(尤其是TFT中氧化物半导体例如有源层211等)造成影响，使其电子迁移率漂移，性能下降，因此需要对薄弱部位进行掩膜版遮挡，而UV掩膜版造价高昂，掩膜版的图案一旦变化就要重新制作，大大增加生产成本。针对上述技术问题，发明人进行了深入的研究，研究后发现，可以在像素界定层中加入可以吸收红外光并发射紫外光的光转换材料，利用红外光照射薄膜封装结构以避免直接照射紫外光对薄膜晶体管造成的损伤，并在薄膜晶体管阵列与像素界定层之间制作紫外光屏蔽层，以阻挡封装时光转换材料发射的紫外光照射到TFT，进而显著降低紫外光对TFT(尤其是TFT中的氧化物半导体)的损伤，提高产品良率，且无需使用造价高昂的UV掩膜版，降低生产成本。
有鉴于此，在本发明的一个方面，本发明提供了一种显示背板。根据本发明的实施例，参照图2，该显示背板包括：衬底100；薄膜晶体管阵列200，所述薄膜晶体管阵列200设置在所述衬底100的一个表面上；紫外光屏蔽层300，所述紫外光屏蔽层300设置在所述薄膜晶体管阵列远离衬底100的一侧；像素界定层500，所述像素界定层500设置在所述薄膜晶体管阵列远离所述衬底100的一侧；薄膜封装层400，所述薄膜封装层400设置在所述像素界定层500远离所述衬底100的一侧，其中，所述像素界定层500中含有光转换材料510，所述光转换材料510可在红外光的激发作用下发射紫外光。发明人发现，该显示背板结构简单、易于实现，对该显示背板进行封装时，无需直接使用紫外光对显示背板进行照射，有效避免直接照射紫外光对薄膜晶体管(尤其是薄膜晶体管中的氧化物半导体)的损伤，且在红外光1(具体参照图2)的激发作用下，含有光转换材料的像素界定层可以作为点光源发光(具体参照图2)，可以控制紫外光照射的范围，散射、透射至薄膜晶体管的光量较弱、光通量较小，极大的限制了薄膜晶体管的曝光量，减小了对薄膜晶体管的损害，尤其减少对薄膜晶体管中有源层的损害，几乎不会引起薄膜晶体管的电子迁移率漂移的问题，提高产品良率，降低成本，且使用红外光照射时几乎不会损伤显示背板周边的测试元件(TEG)区，进一步提高产品良率。
根据本发明的实施例，形成所述光转换材料的材料包括掺杂有稀土离子的氧化物、掺杂有稀土离子的氟化物、掺杂有稀土离子的氟氧化物、掺杂有稀土离子的硫化物和掺杂有稀土离子的卤化物中的至少之一。由此，材料来源广泛，在红外光的激发下可以有效发射紫外光，且吸收红外光的效率较高，能量利用率较高。根据本发明的实施例，形成稀土离子的材料包括镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)、钪(Sc)和钇(Y)离子中的至少之一。由此，材料来源广泛，使用性能较佳。
在本发明的一些实施例中，形成所述光转换材料的材料包括β-NaYF4:Yb3+,Tm3+/CdSe、β-NaYF4:Ln3+和β-NaYF4:Yb3+,Er3+中的至少之一。由此，在红外光的激发下上述粒子可以更有效的发射紫外光，吸收红外光的效率更高，能量利用率更高。
根据本发明的实施例，所述光转换材料的形状包括光转换粒子。由此，光转换粒子在像素界定层中容易分散的比较均匀，光转换粒子也可以作为点光源发光，对薄膜封装层的固化效果更佳。根据本发明的实施例，基于所述像素界定层的总质量，所述光转换材料在所述像素界定层中的含量为5-30wt％(例如5wt％、10wt％、15wt％、20wt％、25wt％、30wt％等)。由此，光转换材料的含量在上述范围内，其吸收红外光之后发射的紫外光可以有效将有机封装层固化，封装效果较佳，且几乎不会损伤有源层。相对于上述含量范围，当光转换材料的含量过低时，其吸收红外光之后发射的紫外光固化有机封装层的效果相对不佳；当光转换材料的含量过高时，固化有机封装层的效果较佳，但是光转换材料在像素界定层中分散的相对不均匀，使得像素界定层的性能相对不佳。
根据本发明的实施例，像素界定层的厚度为1-2微米(例如1微米、1.2微米、1.4微米、1.6微米、1.8微米、2微米等)，由此，上述像素界定层可以包含适当含量的光转换材料，在达到较佳封装效果的同时几乎不会损坏薄膜晶体管中的有源层。
根据本发明的实施例，所述光转换粒子的粒径为5-20纳米(例如5纳米、10纳米、15纳米、20纳米等)。由此，光转换粒子在像素界定层中分散的较为均匀，且可以有效吸收红外光并发射紫外光。当光转换粒子的粒径过小时，则吸收红外光并发射紫外光的效率相对较低，当光转换粒子的粒径过大时，则在像素界定层中的分散效果相对不佳，相对不利于提高产品良率。
根据本发明的实施例，形成所述紫外光屏蔽层的材料包括氧化锌、硫化锌和二氧化钛中的至少之一。由此，材料来源广泛，吸收紫外光的效果较佳，可以显著降低紫外光的透过率，减少薄膜晶体管的有源层的曝光量，保护薄膜晶体管的有源层的效果较佳。
根据本发明的实施例，所述紫外光屏蔽层的厚度为0.03-0.5微米(例如0.03微米、0.05微米、0.1微米、0.15微米、0.2微米、0.25微米、0.3微米、0.35微米、0.4微米、0.45微米、0.5微米等)。由此，在上述厚度范围内，紫外光屏蔽层吸收紫外光的效果较佳，可以显著降低紫外光的透过率，减少薄膜晶体管的有源层的曝光量，保护薄膜晶体管的有源层的效果较佳。相对于上述厚度范围，当紫外光屏蔽层的厚度过厚时，吸收紫外光的效果较佳，但是会使得显示背板的厚度相对较厚，成本相对较高；当紫外光屏蔽层的厚度过薄时，吸收紫外光的效果相对不佳，保护有源层的效果相对不佳。
根据本发明的实施例，薄膜封装层中含有紫外固化材料。由此，可以利用紫外光固化薄膜封装层以实现封装效果。根据本发明的实施例，参照图3，薄膜封装层可以包括第一无机封装层410，有机封装层420，所述有机封装层420设置在第一无机封装层410远离衬底(图中未示出)的表面上，第二无机封装层430，所述第二无机封装层430设置在有机封装层420远离衬底的表面上。由此，薄膜封装层结构简单，阻隔水氧的效果较佳，应力较小，表面比较平坦，封装效果较佳。根据本发明的实施例，为了进一步提高薄膜封层的封装效果，可以将多层有机封装层和无机封装层交替设置，由此，薄膜封装层阻隔水氧的效果更佳。
根据本发明的实施例，形成第一无机封装层以及第二无机封装层的材料可以相同，也可以不相同，具体可以根据实际情况进行灵活选择。在本发明的一些实施例中，形成第一无机封装层以及第二无机封装层的材料分别选自SiNx、SiO2、SiC、Al2O3、ZnS、ZnO中的至少一种，由此，上述材料阻隔水氧的效果较佳，材料来源较为广泛，成本较低，有利于降低显示背板的成本。
根据本发明的实施例，第一无机封装层以及第二无机封装层的厚度可以分别为0.05μm-2.5μm。由此，上述厚度的无机封装层的封装效果较佳，阻隔水氧的效果较佳。
根据本发明的实施例，形成有机封装层的材料可以为在紫外光照射下可固化的材料，例如形成有机封装层的材料可以包括但不限于聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚丙烯酸、聚丙烯酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯、聚硅氧烷、聚硅氮烷中的至少之一，由此，材料来源广泛，释放薄膜封装层应力的效果较佳，且最终获得的薄膜封装层的表面较为平坦。需要说明的是，当形成有机封装层的材料包括上述材料中的至少两种时，在固化时任意两种材料之间也可以发生聚合反应。根据本发明的实施例，形成有机封装层的方式可以包括将形成有机封装层的材料通过喷涂、喷墨打印或者印刷的方式形成在第一无机封装层远离衬底的表面上，再利用红外光照射像素界定层，以激发像素界定层中的光转换材料发射紫外光将其固化，红外光照射的方式可以为在薄膜封装结构远离衬底的一侧以垂直于衬底的方向对薄膜封装结构进行照射。由此，操作简单、方便，封装性能较佳。
根据本发明的实施例，有机封装层的厚度可以为2.5-20微米，由此，有机封装层的厚度在上述范围内，可以有效释放薄膜封装层中的应力，使得薄膜封装层的表面较为平坦，且有机封装层成膜较均匀，边界可控。
根据本发明的实施例，参照图4，薄膜晶体管阵列包括多个间隔设置的薄膜晶体管210，薄膜晶体管可以为顶栅型薄膜晶体管或者底栅型薄膜晶体管，以底栅型薄膜晶体管为例进行说明薄膜晶体管的具体结构，具体的，薄膜晶体管210包括：栅极212，设置衬底100的一个表面上；栅绝缘层213，设置在衬底100的表面上且覆盖栅极212；有源层211，设置在栅绝缘层213远离衬底100的表面上；源极214和漏极215，分别设置在栅绝缘层213远离衬底100的表面上且覆盖部分有源层211；层间绝缘层216，设置在栅绝缘层213远离衬底100的表面上且覆盖有源层211、源极214和漏极215；平坦层217，设置在层间绝缘层216远离衬底100的表面上。由此，薄膜晶体管的结构简单、易于实现。
根据本发明的实施例，形成上述栅极绝缘层的材料可以包括但不限于二氧化硅或者掺杂二氧化硅等；形成上述栅极、源极和漏极的材料可以包括但不限于金属、导电金属氧化物等；形成上述层间绝缘层的材料可以包括但不限于二氧化硅或者掺杂二氧化硅等；形成上述平坦层的材料可以包括但不限于聚丙烯等，形成平坦层的方法可以包括但不限于旋涂等。由此，形成上述结构的材料均采用常规材料，来源较为广泛，使用性能较佳。
根据本发明的实施例，参照图4，该显示背板还包括：第一电极610，所述第一电极610包括位于所述像素界定层500限定出的开口520中的部分，发光层620，所述发光层620设置在所述第一电极610远离所述衬底100的表面上；第二电极630，所述第二电极630设置在所述发光层620远离所述衬底100的表面上，其中，所述紫外光屏蔽层300和所述第一电极610位于所述像素界定层500限定出的开口520中的部分同层设置。由此，有利于降低显示背板的厚度。需要说明的是，第一电极通过过孔与漏极电连接，第一电极设置在开口中应该做广义的理解，只要能够在开口对应的区域形成第一电极即可。
根据本发明的实施例，所述紫外光屏蔽层在所述衬底上的正投影覆盖所述像素界定层在所述衬底上的正投影。由此，紫外光屏蔽层屏蔽像素界定层发射的紫外光的效果更佳，对薄膜晶体管的保护效果更佳。
根据本发明的实施例，形成第一电极或者第二电极的材料可以分别包括但不限于铝掺杂的氧化锌(AZO)、锑锡酸锌(AZTO)、氧化铟锡(ITO)、掺杂氟的二氧化锡(FTO)或者金属(例如银)等，由此，材料来源广泛，使用性能较佳。根据本发明的实施例，第一电极的厚度可以为70nm-150nm，由此，第一电极的导电性能较佳。
根据本发明的实施例，形成所述发光层的材料包括有机发光材料或者量子点材料。由此，发光层的材料来源较为广泛，且电致发光器件的发光效果较佳。根据本发明的实施例，有机发光材料可以包括但不限于PPV(聚对苯乙烯)类高分子材料、芴类高分子发光材料、聚噻吩类高分子材料等；量子点材料可以包括但不限于一元量子点(例如包括但不限于碳量子点和硅量子点等)、二元量子点(例如包括但不限于ZnO、SiO2、CdS、PbS等)以及三元量子点(例如包括但不限于CdSexTe1-x、CuInS2)等，由此，发光层的原料来源广泛，获得的电致发光器件的发光效率较高。
根据本发明的实施例，形成衬底的材料可以包括但不限于玻璃或者树脂等。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种制作前面所述的显示背板的方法。根据本发明的实施例，参照图5，该方法包括：
S100：在衬底的一个表面上形成薄膜晶体管阵列。
根据本发明的实施例，衬底、薄膜晶体管阵列与前面的描述一致，在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例，形成薄膜晶体管阵列的方法(以形成底栅型薄膜晶体管为例进行说明，而不能理解为对本申请的限制)包括：
在衬底的一个表面上形成整层第一金属层，对第一金属层进行第一图案化处理，以便得到栅极，第一图案化处理的方法可以包括但不限于湿法刻蚀、干法刻蚀或者光刻等；衬底的表面上沉积一层栅绝缘层，该栅绝缘层覆盖上述栅极，沉积绝缘层的方法包括但不限于化学气相沉积、磁控溅射或者原子层沉积等；在栅绝缘层远离衬底的表面上形成一层半导体层，对所述半导体层进行第二图案化处理，以便得到有源层，第二图案化处理的方法可以包括但不限于湿法刻蚀、干法刻蚀或者光刻等；在栅绝缘层远离衬底的表面上沉积一层第二金属层，该第二金属层覆盖上述有源层，对第二金属层进行第三图案化处理，以便得到覆盖部分有源层的源极和漏极，第三图案化处理的方法可以包括但不限于湿法刻蚀、干法刻蚀或者光刻等；在栅绝缘层远离衬底的表面上沉积一层绝缘层，对该绝缘层进行第四图案化处理，以便得到层间绝缘层，该层间绝缘层覆盖上述有源层、源极和漏极，第四图案化处理的方法可以包括但不限于湿法刻蚀、干法刻蚀或者光刻等；在层间绝缘层远离衬底的表面上沉积平坦层，沉积平坦层的方法包括但不限于化学气相沉积、磁控溅射或者原子层沉积等。由此，制作薄膜晶体管的方法简单、方便，易于实现，且可以获得性能较佳的薄膜晶体管。
S200：在所述薄膜晶体管阵列远离所述衬底的一侧形成紫外光屏蔽层。
根据本发明的实施例，紫外光屏蔽层与前面的描述一致，在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例，形成所述紫外光屏蔽层的方法包括溅射、打印、喷涂以及原子层沉积中的至少之一。由此，操作简单、方便，易于实现。
在本发明的一些实施例中，形成紫外光屏蔽层的方法具体包括：通过溅射、打印、喷涂以及原子层沉积中的至少之一在薄膜晶体管阵列远离所述衬底的表面上形成整层屏蔽层，再利用刻蚀(例如湿法刻蚀、干法刻蚀或者光刻等)方法对屏蔽层进行图案化处理以便得到紫外光屏蔽层。
S300：在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的一侧形成像素界定层。
根据本发明的实施例，参照图6，形成像素界定层包括：
S310：将所述光转换材料与第一溶液混合，以便获得混合溶液。
根据本发明的实施例，光转换材料与前面的描述一致，在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例，形成第一混合溶液的材料可以包括但不限于聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚硅氧烷以及有机硅树脂中的至少之一。由此，形成的像素界定层的绝缘效果较佳。
在本发明的一些实施例中，为了将光转换材料均匀的分布在第一溶液中，可以在第一溶液中加入分散剂，分散剂的种类可以包括但不限于脂肪酸类、脂肪族酰胺类或者酯类等。由此，操作简单方便，易于实现，且光转换材料的分散效果较佳。
S320：将所述混合溶液涂覆在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的表面上并干燥，以便获得绝缘层。
根据本发明的实施例，将混合溶液涂覆在紫外光屏蔽层的表面上的方式可以包括但不限于旋涂、喷墨打印或者印刷等。
S330：对所述绝缘层进行图案化处理，以便获得所述像素界定层。
根据本发明的实施例，像素界定层与前面的描述一致，在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例，对绝缘层进行图案化处理包括：
在绝缘层远离衬底的表面上形成一层光刻胶层，利用掩膜版对光刻胶层进行曝光处理；对曝光之后的光刻胶层进行显影处理，以便在光刻胶层中得到与像素界定层对应的图案；利用刻蚀方法(例如湿法刻蚀、干法刻蚀等)对绝缘层进行刻蚀处理，以便获得像素界定层；去除掉含有图案的光刻胶层。由此，操作简单、方便，易于实现，且可以获得比较精确的像素界定层。
根据本发明的实施例，制作显示背板的方法还包括：在像素界定层限定出的开口中形成第一电极，第一电极与紫外光屏蔽层同层设置。在本发明的一些实施例中，形成第一电极的方法包括：以上述像素界定层为掩膜版，在像素界定层限定出的开口中沉积第一电极。在本发明的另一些实施例中，形成第一电极的方法包括：在形成像素界定层之前，在薄膜晶体管阵列远离衬底的表面上形成一层金属层，对该金属层进行图案化处理，以便获得第一电极，在该方法中，可以以第一电极作为掩膜版在未被第一电极覆盖的薄膜晶体管阵列的表面沉积紫外光屏蔽层，之后在紫外光屏蔽层远离衬底的表面上形成像素界定层。由此，操作简单、方便，易于实现，适于大规模生产。
根据本发明的实施例，形成第一电极之后，还包括：在所述第一电极远离衬底的表面上通过蒸镀、打印(例如包括但不限于喷墨打印等)或者印刷(例如包括但不限于丝网印刷等)等方式形成发光层；在发光层远离衬底的表面上通过蒸镀、打印(例如包括但不限于喷墨打印等)或者印刷(例如包括但不限于丝网印刷等)等方式形成第二电极，需要说明的，第二电极可以覆盖部分像素界定层。由此，可以有效实现发光功能。
根据本发明的实施例，第一电极、第二电极与发光层与前面的描述一致，在此不再过多赘述。
S400：在所述像素界定层远离所述衬底的一侧形成薄膜封装层。
根据本发明的实施例，薄膜封装层与前面的描述一致，在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例，形成薄膜封装层包括：在像素界定层远离衬底的表面形成第一无机封装层，在第一无机封装层远离衬底的表面上形成有机封装层，在有机封装层远离衬底的表面上形成第二无机封装层等，可以根据实际需要选择有机封装层和无机封装层的层数，且有机封装层与无机封装层交替设置。由此，封装效果较佳，隔氧、隔水效果较佳，使得显示背板的使用性能较佳。
根据本发明的实施例，形成有机封装层的方式可以包括：利用喷涂、喷墨打印、印刷中的至少一种在无机封装层的表面形成一层涂层，利用红外光照射像素界定层，像素界定层中的光转换材料在红外光的激发作用下发射紫外光，使得该涂层固化形成有机封装层；形成无机封装层、的方式可以包括但不限于化学气相沉积(CVD)、溅射、原子层沉积(ALD)中的至少一种，由此，操作简单、方便，易于实现。
根据本发明的实施例，上述制作显示背板的方法操作简单、方便，成本较低，适于大规模生产，且制作得到的显示背板具备前面所述的所有特征和优点，在此不再过多赘述。
下面具体描述本申请制作显示背板的具体流程，需要说明的是，以下描述仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制：
在衬底的一个表面上形成薄膜晶体管(TFT)阵列，在TFT阵列远离衬底的表面上通过掩膜版在发光区制作150nm厚的第一电极，在与像素界定层位置对应的TFT阵列远离衬底的表面上以溅射(Sputter)的方式形成0.5μm厚的ZnO作为紫外光屏蔽层，在紫外光屏蔽层远离衬底的表面上通过光刻方法制作像素界定层，像素界定层中含有β-NaYF4:Yb3+,Tm3+/CdSe光转换粒子，在像素界定层限定出的开口中依次制作发光层和第二电极，第二电极覆盖像素界定层，制作0.5μ厚的覆盖第二电极的含有SiNx的第一无机封装层，在第一无机封装层上打印有机封装层，并通过红外激光对有机封装层进行照射，使光转换粒子发射紫外光，固化其周围的有机封装材料，在有机封装层上通过化学气相沉积的方式制作1μm厚的含有SiNx的第二无机封装层，得到显示背板。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，该显示装置包括前面所述的显示背板。发明人发现，该显示装置结构简单、易于实现，成本较低，良率较高，显示质量较高。
根据本发明的实施例，显示装置的种类可以为OLED显示装置或者QLED(量子点发光二极管)显示装置，具体的，上述显示装置可以包括但不限于手机、电脑、电视、穿戴手表、平板显示器等；上述显示装置的结构除了前面所述的背板之外，还可以具备常规显示装置应该具备的结构，例如彩膜基板、CPU、封装结构等。
根据本发明的实施例，在一般的显示背板中，对显示背板进行封装的方式通常为利用紫外光对薄膜封装结构进行照射固化，紫外光散射或者投射至薄膜晶体管中的光强度、光通量较大，影响有源层的性能，进而会导致薄膜晶体管的电子迁移率漂移，严重影响显示背板的使用性能。而在本申请中，在像素界定层中加入可以吸收红外光并发射紫外光的光转换材料，并在薄膜晶体管阵列与像素界定层之间制作紫外光屏蔽层，含有光转换材料的像素界定层可以作为点光源发光，可以控制紫外光照射的范围，散射、透射至薄膜晶体管的光量较弱、光通量较小，极大的限制了薄膜晶体管的曝光量，减小了紫外光对薄膜晶体管的损害，几乎不会引起薄膜晶体管的电子迁移率漂移的问题，提高产品良率，降低成本。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (15)

1.一种显示背板，其特征在于，包括：
衬底；
薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管阵列设置在所述衬底的一个表面上；
紫外光屏蔽层，所述紫外光屏蔽层设置在所述薄膜晶体管阵列远离所述衬底的一侧；
像素界定层，所述像素界定层设置在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的一侧；
薄膜封装层，所述薄膜封装层设置在所述像素界定层远离所述衬底的一侧，
其中，所述像素界定层中含有光转换材料，所述光转换材料可在红外光的激发作用下发射紫外光。
2.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，形成所述紫外光屏蔽层的材料包括氧化锌、硫化锌和二氧化钛中的至少之一。
3.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，所述紫外光屏蔽层的厚度为0.03-0.5微米。
4.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，还包括：
第一电极，所述第一电极包括位于所述像素界定层限定出的开口中的部分；
发光层，所述发光层设置在所述第一电极远离所述衬底的表面上；
第二电极，所述第二电极设置在所述发光层远离所述衬底的表面上，
其中，所述紫外光屏蔽层和所述第一电极位于所述像素界定层限定出的开口中的部分同层设置。
5.根据权利要求4所述的显示背板，其特征在于，所述紫外光屏蔽层在所述衬底上的正投影覆盖所述像素界定层在所述衬底上的正投影。
6.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，形成所述光转换材料的材料包括掺杂有稀土离子的氧化物、掺杂有稀土离子的氟氧化物、掺杂有稀土离子的硫化物和掺杂有稀土离子的卤化物中的至少之一。
7.根据权利要求6所述的显示背板，其特征在于，形成所述光转换材料的材料包括β-NaYF4:Yb3+,Tm3+/CdSe和β-NaYF4:Ln3+中的至少之一。
8.根据权利要求1、6或者7所述的显示背板，其特征在于，所述光转换材料的形状包括光转换粒子。
9.根据权利要求8所述的显示背板，其特征在于，所述光转换粒子的粒径为5-20纳米。
10.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，基于所述像素界定层的总质量，所述光转换材料在所述像素界定层中的含量为5-30wt％。
11.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，所述薄膜封装层中含有紫外固化材料。
12.一种制作权利要求1-11任一项所述的显示背板的方法，其特征在于，包括：
在衬底的一个表面上形成薄膜晶体管阵列；
在所述薄膜晶体管阵列远离所述衬底的一侧形成紫外光屏蔽层；
在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的一侧形成像素界定层；
在所述像素界定层远离所述衬底的一侧形成薄膜封装层。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述形成所述像素界定层包括：
将所述光转换材料与第一溶液混合，以便获得混合溶液；
将所述混合溶液涂覆在所述紫外光屏蔽层远离所述衬底的表面上并干燥，以便获得绝缘层；
对所述绝缘层进行图案化处理，以便获得所述像素界定层。
14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，形成所述紫外光屏蔽层的方法包括溅射、打印、喷涂以及原子层沉积中的至少之一。
15.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-11中任一项所述的显示背板。
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