CN109234036A - 一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法，包括以下原料：酸液、增溶剂、表面活性剂、去离子水；酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，包括以下步骤：添水，向添加有去离子水的搅拌罐中加入硫酸溶液，向搅拌罐中加入盐酸，添加羟基乙酸，加乙醇，添加乙二醇单丁醚，添加二乙二醇单丁醚，添加表面活性剂，最后加入去离子水定容并充分搅拌。
Description
技术领域
本发明涉及一种印制电路板制造工艺中的显影槽污垢清洗剂，具体是一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法。
背景技术
在线路板的制造过程中，通过对材料的表面干膜曝光-显影-退膜-蚀刻-退膜等工艺，来实现图形的转移，在材料表面获得特殊的电路图形。
PCB干膜显影液通常为1-3%碳酸钠溶液。碳酸钠溶液与干膜反应，将不需要的部分干膜剥离下来，在这个过程中，溶液中会溶解大量的干膜残渣。工业碳酸钠中含有少量杂质，生产车间经过长时间积累，残膜渣与其他杂质容易在显影设备中结垢，不利于生产，因此需要对设备进行清洗。
目前显影槽清洗剂主要采用大量极性有机溶液对设备进行浸洗，虽然，有机溶剂可以有效的清洗设备中的各种污垢，但是，由于有机溶剂本身易挥发、气味大、易着火、毒性大、运输不安全、废水COD极高等特点，在使用时受到限制。另外，有机溶剂容易腐蚀显影槽的辊轮、槽体、管道等，也限制了其应用。
发明内容
本发明的目的在于提供一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种环保型显影槽污垢清除剂，包括以下原料：酸液5-30份、增溶剂5-20份、表面活性剂1-5份、去离子水45-89份。
作为本发明进一步的方案：包括以下原料：酸液10-20份、增溶剂8-16份、表面活性剂2-4份、去离子水57-77份。
作为本发明再进一步的方案：包括以下原料：酸液15份、增溶剂12份、表面活性剂3份、去离子水65份。
作为本发明再进一步的方案：所述酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。
一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一，添水，向搅拌罐中添加10-18升的去离子水，按动开关启动搅拌罐开始搅拌；
步骤二，向添加有去离子水的搅拌罐中加入10-18升硫酸溶液，其中硫酸的质量分数为50%，继续搅拌20-40分钟；
步骤三，再向搅拌罐中加入5-9升盐酸，其中盐酸的质量分数为35%，搅拌5-9分钟；
步骤四，向加入盐酸后的搅拌罐中添加2-6升羟基乙酸，继续搅拌10-18分钟；
步骤五，向搅拌罐中缓慢加入5-9升乙醇，乙醇为工业乙醇；
步骤六，加入乙醇后紧接着添加5-9升乙二醇单丁醚，持续搅拌20-28分钟；
步骤七，在向搅拌罐中添加3-7升二乙二醇单丁醚；
步骤八，加入二乙二醇单丁醚后再向搅拌罐中添加1-5升的表面活性剂，持续搅拌；
步骤九，向搅拌罐中再次添加去离子水至60-100升刻度线并充分搅拌1小时，制得清除剂。
作为本发明进一步的方案：所述搅拌罐容积为80-120升，采用不锈钢材质所制，拌筒最大转速为8-12转/分钟。
一种环保型显影槽污垢清除剂在电路板制造中的使用方法，包括以下步骤：
S1，将槽内显影液排放完全；
S2，用自来水对显影槽进行冲洗,冲洗完一遍后再次进行二次冲洗；
S3，观测显影槽的容量，添加适量清洗剂并浸泡，浸泡时长为1012141618分钟；
S4，开启循环泵，循环冲洗2025303540分钟；
S5，将槽内清洗液排放完全；
S6，采用市政供水对槽内进行冲洗，反复两次；
S7，利用纯水循环水洗3次即可。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该配方制得的清除剂在使用时无需加热，常温下即可清洗，清洗时间短，清洗彻底，无残留污垢；对设备友好，不会腐蚀显影设备，清洗废水处理相对较容易，酸性水溶液清洗剂，可以在常温下，短时间对设备进行浸润、循环冲洗，即可将设备中的污垢清洗干净，克服了传统的清除剂易挥发、气味大、易着火、毒性大、运输不安全、废水COD极高等。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种环保型显影槽污垢清除剂，包括以下原料：酸液5g、增溶剂5g、表面活性剂1g、去离子水45g，其中，酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。
一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，添水，向搅拌罐中添加10升的去离子水，按动开关启动搅拌罐开始搅拌，其中，搅拌罐容积为80升，采用不锈钢材质所制，拌筒最大转速为8转/分钟；
步骤二，向添加有去离子水的搅拌罐中加入10升硫酸溶液，其中硫酸的质量分数为50%，继续搅拌20分钟；
步骤三，再向搅拌罐中加入5升盐酸，其中盐酸的质量分数为35%，搅拌5分钟；
步骤四，向加入盐酸后的搅拌罐中添加2升羟基乙酸，继续搅拌10分钟；
步骤五，向搅拌罐中缓慢加入5升乙醇，乙醇为工业乙醇；
步骤六，加入乙醇后紧接着添加5升乙二醇单丁醚，持续搅拌20分钟；
步骤七，在向搅拌罐中添加3升二乙二醇单丁醚；
步骤八，加入二乙二醇单丁醚后再向搅拌罐中添加1升的表面活性剂，持续搅拌；
步骤九，向搅拌罐中再次添加去离子水至60升刻度线并充分搅拌1小时，制得清除剂。
一种环保型显影槽污垢清除剂在电路板制造中的使用方法，包括以下步骤：
S1，将槽内显影液排放完全，保证槽内不残留有显影液；
S2，用自来水对显影槽进行冲洗,冲洗完一遍后再次进行二次冲洗，确保槽内的液体冲洗干净；
S3，观测显影槽的容量，添加适量清洗剂并浸泡，浸泡时长为10分钟；
S4，开启循环泵，循环冲洗20分钟；
S5，将槽内清洗液排放完全；
S6，采用市政供水对槽内进行冲洗，反复两次；
S7，利用纯水循环水洗3次即可。
实施例2
一种环保型显影槽污垢清除剂，包括以下原料：酸液10g、增溶剂8g、表面活性剂2g、去离子水57g，其中，酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。
一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，添水，向搅拌罐中添加12升的去离子水，按动开关启动搅拌罐开始搅拌，其中，搅拌罐容积为90升，采用不锈钢材质所制，拌筒最大转速为9转/分钟；
步骤二，向添加有去离子水的搅拌罐中加入12升硫酸溶液，其中硫酸的质量分数为50%，继续搅拌25分钟；
步骤三，再向搅拌罐中加入6升盐酸，其中盐酸的质量分数为35%，搅拌6分钟；
步骤四，向加入盐酸后的搅拌罐中添加3升羟基乙酸，继续搅拌12分钟；
步骤五，向搅拌罐中缓慢加入6升乙醇，乙醇为工业乙醇；
步骤六，加入乙醇后紧接着添加6升乙二醇单丁醚，持续搅拌22分钟；
步骤七，在向搅拌罐中添加4升二乙二醇单丁醚；
步骤八，加入二乙二醇单丁醚后再向搅拌罐中添加2升的表面活性剂，持续搅拌；
步骤九，向搅拌罐中再次添加去离子水至70升刻度线并充分搅拌1小时，制得清除剂。
一种环保型显影槽污垢清除剂在电路板制造中的使用方法，包括以下步骤：
S1，将槽内显影液排放完全，保证槽内不残留有显影液；
S2，用自来水对显影槽进行冲洗,冲洗完一遍后再次进行二次冲洗，确保槽内的液体冲洗干净；
S3，观测显影槽的容量，添加适量清洗剂并浸泡，浸泡时长为12分钟；
S4，开启循环泵，循环冲洗25分钟；
S5，将槽内清洗液排放完全；
S6，采用市政供水对槽内进行冲洗，反复两次；
S7，利用纯水循环水洗3次即可。
实施例3
一种环保型显影槽污垢清除剂，包括以下原料：酸液15g、增溶剂12g、表面活性剂3g、去离子水65g，其中，酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。
一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，添水，向搅拌罐中添加14升的去离子水，按动开关启动搅拌罐开始搅拌，其中，搅拌罐容积为100升，采用不锈钢材质所制，拌筒最大转速为10转/分钟；
步骤二，向添加有去离子水的搅拌罐中加入14升硫酸溶液，其中硫酸的质量分数为50%，继续搅拌30分钟；
步骤三，再向搅拌罐中加入7升盐酸，其中盐酸的质量分数为35%，搅拌7分钟；
步骤四，向加入盐酸后的搅拌罐中添加4升羟基乙酸，继续搅拌14分钟；
步骤五，向搅拌罐中缓慢加入7升乙醇，乙醇为工业乙醇；
步骤六，加入乙醇后紧接着添加7升乙二醇单丁醚，持续搅拌24分钟；
步骤七，在向搅拌罐中添加5升二乙二醇单丁醚；
步骤八，加入二乙二醇单丁醚后再向搅拌罐中添加3升的表面活性剂，持续搅拌；
步骤九，向搅拌罐中再次添加去离子水至80升刻度线并充分搅拌1小时，制得清除剂。
一种环保型显影槽污垢清除剂在电路板制造中的使用方法，包括以下步骤：
S1，将槽内显影液排放完全，保证槽内不残留有显影液；
S2，用自来水对显影槽进行冲洗,冲洗完一遍后再次进行二次冲洗，确保槽内的液体冲洗干净；
S3，观测显影槽的容量，添加适量清洗剂并浸泡，浸泡时长为14分钟；
S4，开启循环泵，循环冲洗30分钟；
S5，将槽内清洗液排放完全；
S6，采用市政供水对槽内进行冲洗，反复两次；
S7，利用纯水循环水洗3次即可。
实施例4
一种环保型显影槽污垢清除剂，包括以下原料：酸液20g、增溶剂16g、表面活性剂4g、去离子水77g，其中，酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。
一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，添水，向搅拌罐中添加16升的去离子水，按动开关启动搅拌罐开始搅拌，其中，搅拌罐容积为110升，采用不锈钢材质所制，拌筒最大转速为11转/分钟；
步骤二，向添加有去离子水的搅拌罐中加入16升硫酸溶液，其中硫酸的质量分数为50%，继续搅拌35分钟；
步骤三，再向搅拌罐中加入8升盐酸，其中盐酸的质量分数为35%，搅拌8分钟；
步骤四，向加入盐酸后的搅拌罐中添加5升羟基乙酸，继续搅拌16分钟；
步骤五，向搅拌罐中缓慢加入8升乙醇，乙醇为工业乙醇；
步骤六，加入乙醇后紧接着添加8升乙二醇单丁醚，持续搅拌26分钟；
步骤七，在向搅拌罐中添加6升二乙二醇单丁醚；
步骤八，加入二乙二醇单丁醚后再向搅拌罐中添加4升的表面活性剂，持续搅拌；
步骤九，向搅拌罐中再次添加去离子水至90升刻度线并充分搅拌1小时，制得清除剂。
一种环保型显影槽污垢清除剂在电路板制造中的使用方法，包括以下步骤：
S1，将槽内显影液排放完全，保证槽内不残留有显影液；
S2，用自来水对显影槽进行冲洗,冲洗完一遍后再次进行二次冲洗，确保槽内的液体冲洗干净；
S3，观测显影槽的容量，添加适量清洗剂并浸泡，浸泡时长为16分钟；
S4，开启循环泵，循环冲洗35分钟；
S5，将槽内清洗液排放完全；
S6，采用市政供水对槽内进行冲洗，反复两次；
S7，利用纯水循环水洗3次即可。
实施例5
一种环保型显影槽污垢清除剂，包括以下原料：酸液30g、增溶剂20g、表面活性剂5g、去离子水89g，其中，酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。
一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，添水，向搅拌罐中添加18升的去离子水，按动开关启动搅拌罐开始搅拌，其中，搅拌罐容积为120升，采用不锈钢材质所制，拌筒最大转速为12转/分钟；
步骤二，向添加有去离子水的搅拌罐中加入18升硫酸溶液，其中硫酸的质量分数为50%，继续搅拌40分钟；
步骤三，再向搅拌罐中加入9升盐酸，其中盐酸的质量分数为35%，搅拌9分钟；
步骤四，向加入盐酸后的搅拌罐中添加6升羟基乙酸，继续搅拌18分钟；
步骤五，向搅拌罐中缓慢加入9升乙醇，乙醇为工业乙醇；
步骤六，加入乙醇后紧接着添加9升乙二醇单丁醚，持续搅拌28分钟；
步骤七，在向搅拌罐中添加7升二乙二醇单丁醚；
步骤八，加入二乙二醇单丁醚后再向搅拌罐中添加5升的表面活性剂，持续搅拌；
步骤九，向搅拌罐中再次添加去离子水至100升刻度线并充分搅拌1小时，制得清除剂。
一种环保型显影槽污垢清除剂在电路板制造中的使用方法，包括以下步骤：
S1，将槽内显影液排放完全，保证槽内不残留有显影液；
S2，用自来水对显影槽进行冲洗,冲洗完一遍后再次进行二次冲洗，确保槽内的液体冲洗干净；
S3，观测显影槽的容量，添加适量清洗剂并浸泡，浸泡时长为18分钟；
S4，开启循环泵，循环冲洗40分钟；
S5，将槽内清洗液排放完全；
S6，采用市政供水对槽内进行冲洗，反复两次；
S7，利用纯水循环水洗3次即可。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (7)
1.一种环保型显影槽污垢清除剂，其特征在于，包括以下原料：酸液5-30份、增溶剂5-20份、表面活性剂1-5份、去离子水45-89份。
2.根据权利要求1所述的一种环保型显影槽污垢清除剂，其特征在于，包括以下原料：酸液10-20份、增溶剂8-16份、表面活性剂2-4份、去离子水57-77份。
3.根据权利要求1所述的一种环保型显影槽污垢清除剂，其特征在于，包括以下原料：酸液15份、增溶剂12份、表面活性剂3份、去离子水65份。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种环保型显影槽污垢清除剂，其特征在于，所述酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成，增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成，表面活性剂为脂肪酸甘油酯。
5.根据权利要求1所述的一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一，添水，向搅拌罐中添加10-18升的去离子水，按动开关启动搅拌罐开始搅拌；
步骤二，向添加有去离子水的搅拌罐中加入10-18升硫酸溶液，其中硫酸的质量分数为50%，继续搅拌20-40分钟；
步骤三，再向搅拌罐中加入5-9升盐酸，其中盐酸的质量分数为35%，搅拌5-9分钟；
步骤四，向加入盐酸后的搅拌罐中添加2-6升羟基乙酸，继续搅拌10-18分钟；
步骤五，向搅拌罐中缓慢加入5-9升乙醇，乙醇为工业乙醇；
步骤六，加入乙醇后紧接着添加5-9升乙二醇单丁醚，持续搅拌20-28分钟；
步骤七，在向搅拌罐中添加3-7升二乙二醇单丁醚；
步骤八，加入二乙二醇单丁醚后再向搅拌罐中添加1-5升的表面活性剂，持续搅拌；
步骤九，向搅拌罐中再次添加去离子水至60-100升刻度线并充分搅拌1小时，制得清除剂。
6.根据权利要求5所述的一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法，其特征在于，所述搅拌罐容积为80-120升，采用不锈钢材质所制，拌筒最大转速为8-12转/分钟。
7.一种环保型显影槽污垢清除剂在电路板制造中的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1，将槽内显影液排放完全；
S2，用自来水对显影槽进行冲洗,冲洗完一遍后再次进行二次冲洗；
S3，观测显影槽的容量，添加适量清洗剂并浸泡，浸泡时长为1012141618分钟；
S4，开启循环泵，循环冲洗2025303540分钟；
S5，将槽内清洗液排放完全；
S6，采用市政供水对槽内进行冲洗，反复两次；
S7，利用纯水循环水洗3次即可。
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