CN113134498A - 一种线路板干膜显影机清洗工艺 - Google Patents

一种线路板干膜显影机清洗工艺 Download PDF

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陈华
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Abstract

本发明公开了一种线路板干膜显影机清洗工艺，属于清洗工艺领域，具体方法为采用质量浓度为60‑100％的甲酸溶液和/或苯甲酸溶液对干膜显影机内的显影槽进行清洗；所述显影槽内残留有干膜，所述干膜的成分包括丙烯酸树脂、丙烯酯单体、乙基‑4‑二亚甲胺苯酸脂和环氧树脂。本发明的清洗工艺简单，无需拆卸喷嘴，只需浸洗循环就能轻松清洗除去污垢，提高了显影槽污垢的清洗能力，清洗周期长。

Description

一种线路板干膜显影机清洗工艺
技术领域
本发明涉及显影机清洗工艺，具体涉及一种线路板干膜显影机清洗工艺。
背景技术
干膜制造线路板的优点：分辨率高，能制造线宽0.1mm的图形，能获得边缘垂直的线条且保证线条的精度，可靠性高，便于掌握，利于机械化和自动化作业，然而在使用干膜显影机过程中，显影机上的滚轮、海绵及各个槽中会附着大量的残膜，甚至喷淋口都有被堵塞的风险，因干膜附着力强，不及时清理会严重影响产品质量及生产效率。现有的干膜显影机保养技术：是使用氢氧化钠+硫酸的先碱后酸洗、冰醋酸(乙酸)洗、显影清槽(洗)剂三种方法，但是这些方法均存在清洗耗时长、物料及人工成本高以及清洗效果不佳等问题，另外，传统清洗剂中的氢氧化钠(无机)：具有强碱性，腐蚀性极强，氢氧化钠等强碱除油污，是利用高温下(30-50℃)油脂在强碱溶液中的皂化反应生成羧酸钠盐和甘油的原理，利用其相溶性清洗；传统清洗剂中的乙酸(有机)：也叫醋酸，是一种有机一元酸，其水溶液中呈弱酸性且蚀性强，也是利用其相溶性清洗。
发明内容
本发明的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种线路板干膜显影机清洗工艺。
本发明的技术解决方案如下：
一种线路板干膜显影机清洗工艺，采用质量浓度为60-100％的甲酸溶液和/或苯甲酸溶液对干膜显影机内的显影槽进行清洗；所述显影槽内残留有干膜，所述干膜的成分包括丙烯酸树脂、丙烯酯单体、乙基-4-二亚甲胺苯酸脂和环氧树脂。
优选地，所述清洗温度为25-30℃
优选地，一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将甲酸溶液和/或苯甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗。
优选地，所述步骤一中，喷淋清洗时间1-2h。
优选地，所述步骤一中，喷淋压力为1-2kg/cm2。
优选地，所述步骤二中，清洗时间为0.5-1h。
优选地，所述干膜显影机的使用时间在3-5个月，所述清洗时间为≤2h。
优选地，还包括步骤三，将步骤一中循环喷淋后的残液进行回收利用。具体地为：将洗后残液使用专用桶或原药水桶收集存储，在桶上标识使用次数及药水名称、日期；再次保养清洗时再倒入显影槽中,如液位不足时，添加新液补充；可重复使用3次(含首次)。
本发明至少具有以下有益效果之一：
(1)本发明的一种线路板干膜显影机清洗工艺，采用甲酸溶液或苯甲酸溶液，对显影机上的显影槽进行清洗，由于干膜中的丙烯酸类单体上面有羧基和双键，环氧树脂上有环氧基、仲羟基和次甲基上的氢，其中双键和次甲基上的氢接枝反应，羧基又可与环氧基、仲羟基进行酯化反应，因此，去污能力极强。另外，甲酸及其水溶液能溶解许多金属、金属氧化物、氢氧化物及盐,所生成的甲酸盐都能溶解于水，因而可作为化学清洗剂，甲酸不含氯离子，也可用于含不锈钢材料的设备的清洗，属于有机酸性溶剂，能够溶解一些不溶于水的有机物质。
(2)甲酸能与水、乙醇、乙醚和甘油任意混溶，也能和大多数的极性有机溶剂混溶，在烃中也有一定的溶解性；因此清除范围较广，而且配置条件容易，同时甲酸具有挥发性，清洗后不易残留在显影槽内，而且本发明的清洗方法是在常温下就可以完成清洗，较传统药水需要在高温(30-50℃)下才能完成清洗，节约水电，成本降低。
(3)本发明的清洗工艺简单，无需拆卸喷嘴，只需浸洗循环就能轻松清洗除去污垢，提高了显影槽污垢的清洗能力，清洗周期长。
具体实施方式
为了能够进一步了解本发明的结构、特征及其他目的，现结合所附较佳实施例详细说明如下。
以下具体实施例中的干膜显影机采用设备型号：HXDE-005A，每个月产量2-3W平米，但并不局限于此。
实施例1
一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：干膜显影机正常使用3个月；
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将60wt％的甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗1h，清洗温度为25℃，喷淋压力为1kg/cm2；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗0.5h。
实施例2
一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：干膜显影机正常使用3个月；
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将70wt％的甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗1h，清洗温度为25℃，喷淋压力为1kg/cm2；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗0.5h。
实施例3
一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：干膜显影机正常使用3个月；
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将80wt％的甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗1h，清洗温度为25℃，喷淋压力为1kg/cm2；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗0.5h。
实施例4
一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：干膜显影机正常使用3个月；
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将70wt％的苯甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗1h，清洗温度为25℃，喷淋压力为1kg/cm2；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗0.5h。
实施例5
一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：干膜显影机正常使用3个月；
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将50wt％的甲酸溶液和20wt％的苯甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗1h，清洗温度为25℃，喷淋压力为1kg/cm2；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗0.5h。
对比例1(采用传统清洗剂清洗)
一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：干膜显影机正常使用3个月；
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将60wt％的氢氧化钠溶液清洗，然后采用30wt％硫酸溶液清洗，清洗温度为35℃，清洗时间2h；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗0.5h。
对比例2
一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：干膜显影机正常使用3个月；
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将100wt％的乙酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗1h，清洗温度为25℃，喷淋压力为1-2kg/cm2；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗0.5h。
对上述实施例和对比例的试样进行显影槽品质表现请参见表1，同时对实施例和对比例的残留物溶解率进行计算，具体方式为，记录清洗前槽体内的残留物质量m1，清洗后的残留物质量m2，溶解率＝(m1-m2)/m2。
表1实施例和对比例的试样进行显影槽品质结果
试样 显影槽 残留物溶解率(％)
实施例1 洁净无污垢、不粘手、无腐蚀 95
实施例2 洁净无污垢、不粘手、无腐蚀 96
实施例3 洁净无污垢、不粘手、无腐蚀 95
实施例4 洁净无污垢、不粘手、无腐蚀 97
实施例5 洁净无污垢、不粘手、无腐蚀 98
对比例1 洁净无污垢、不粘手、有腐蚀 87
对比例2 洁净无污垢、粘手、无腐蚀 67
从上表可以看出，实施例清洗后的显影槽洁净无污垢、不粘手，没有出现腐蚀现象，残留物溶解率高达97％，而对比例1清洗后的显影槽出现腐蚀现象，残留物溶解率低于实施例，主要是由于对比例1采用了先碱洗后酸洗的步骤，同时氢氧化钠和硫酸，具有较强腐蚀的作用，而且，对比例1需要在30-50℃下进行操作，同时采用两道工序，在生产中较实施例工序复杂，而且与实施例采用的原理也不一样，由于显影槽中干膜残留物中的丙烯酸内单体上面有羧基和双键，环氧树脂上有环氧基、仲羟基和次甲基上的氢，其中双键和次甲基上的氢接枝反应，羧基又与环氧基、仲羟基进行酯化反应，实施例中采用的甲酸或苯甲酸，因此，起到很好的清洗效果，而且甲酸挥发性好，不易残留在显影槽内，同时显影槽长时间使用后难免表面出现金属氧化物，而甲酸或苯甲酸与金属氧化物生成可溶性的甲酸盐，因此，清洗能力较好；对比例2采用乙酸，乙酸的酸性较弱，因此，影响其清洗能力。
在不出现冲突的前提下，本领域技术人员可以将上述附加技术特征自由组合以及叠加使用。
在本发明的实施例的描述中，需要理解的是，“-”和“～”表示的是两个数值之同的范围，并且该范围包括端点。例如：“A-B”表示大于或等于A，且小于或等于B的范围。“A～B”表示大于或等于A，且小于或等于B的范围。
在本发明的实施例的描述中，本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
以上所述仅为本发明的优先实施方式，只要以基本相同手段实现本发明目的的技术方案都属于本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：采用质量浓度为60-100％的甲酸溶液和/或苯甲酸溶液对干膜显影机内的显影槽进行清洗。
2.根据权利要求1所述的一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：。所述清洗温度为25-30℃
3.根据权利要求1所述的一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：包含以下步骤：
步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将甲酸溶液和/或苯甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗；
步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗。
4.根据权利要求3所述的一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：所述步骤一中，喷淋清洗时间1-2h。
5.根据权利要求1所述的一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：所述步骤一中，喷淋压力为1-2kg/cm2。
6.根据权利要求1所述的一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：所述步骤二中，清洗时间为0.5-1h。
7.根据权利要求1所述的一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：所述干膜显影机的使用时间在3-5个月，所述清洗时间为≤2h。
8.根据权利要求3所述的一种线路板干膜显影机清洗工艺，其特征在于：还包括步骤三，将步骤一中循环喷淋后的残液进行回收利用。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114895531A (zh) * 2022-04-18 2022-08-12 上海图灵智算量子科技有限公司 用于光刻工艺的清洗基底的方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101649068A (zh) * 2008-08-12 2010-02-17 贵州航天林泉电机有限公司 环氧树脂溶解剂及其制备方法
CN102757871A (zh) * 2012-06-19 2012-10-31 瀚宇博德科技（江阴）有限公司 Pcb干膜显影槽清洗剂及其制备方法
CN106434011A (zh) * 2016-08-31 2017-02-22 珠海顺泽科技股份有限公司 一种用于pcb制程中的显影槽清洗剂
CN108373950A (zh) * 2017-10-26 2018-08-07 信丰正天伟电子科技有限公司 一种用于pcb干膜显影槽的清洗剂及清洗工艺
CN109234036A (zh) * 2018-09-19 2019-01-18 珠海特普力高精细化工有限公司 一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法
CN109880701A (zh) * 2019-02-23 2019-06-14 上海富柏化工有限公司 Pcb干膜显影槽清槽剂及其制备方法与应用

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101649068A (zh) * 2008-08-12 2010-02-17 贵州航天林泉电机有限公司 环氧树脂溶解剂及其制备方法
CN102757871A (zh) * 2012-06-19 2012-10-31 瀚宇博德科技（江阴）有限公司 Pcb干膜显影槽清洗剂及其制备方法
CN106434011A (zh) * 2016-08-31 2017-02-22 珠海顺泽科技股份有限公司 一种用于pcb制程中的显影槽清洗剂
CN108373950A (zh) * 2017-10-26 2018-08-07 信丰正天伟电子科技有限公司 一种用于pcb干膜显影槽的清洗剂及清洗工艺
CN109234036A (zh) * 2018-09-19 2019-01-18 珠海特普力高精细化工有限公司 一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法
CN109880701A (zh) * 2019-02-23 2019-06-14 上海富柏化工有限公司 Pcb干膜显影槽清槽剂及其制备方法与应用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114895531A (zh) * 2022-04-18 2022-08-12 上海图灵智算量子科技有限公司 用于光刻工艺的清洗基底的方法
CN114895531B (zh) * 2022-04-18 2024-02-23 上海图灵智算量子科技有限公司 用于光刻工艺的清洗基底的方法

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