CN109196389A - 包括具有减反射涂层的基材的光学制品 - Google Patents

包括具有减反射涂层的基材的光学制品 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种包括具有两个主表面的基材的光学制品，其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖，所述涂层包含在所述外表面下方的具有第一折射率n1的第一表面层以及在所述第一表面层下方的具有第二折射率n2的第二层，其中，n2<n1，并且所述第二层具有所述聚合物涂层的最低折射率，并且所述涂层由于折射率n1与n2之间的差异而展现出减反射特性，所述涂层内的所述折射率差异是由穿过所述外表面的对初始聚合物涂层的等离子体、电晕和/或离子束处理产生的。本发明还涉及一种用于制造此光学制品的方法。

Description

包括具有减反射涂层的基材的光学制品
本发明涉及一种包含减反射聚合物涂层的光学制品、特别是眼科镜片，以及一种用于制造这种光学制品的方法。
典型的光学制品构造(如眼科镜片构造)包括优选由有机玻璃制成的基材，所述基材的至少主表面通常涂覆有聚合物涂层以改进有机玻璃的抗冲击性和/或耐磨损性和/或耐刮擦性。
为了赋予光学制品减反射特性，无论是否涂有上述聚合物涂层，通常在基材或聚合物涂层上形成减反射涂层。典型地，这种减反射涂层由交替具有低折射率和高折射率的无机层的堆叠体制成。
除了这种减反射涂层的沉积意味着另外的制造步骤之外，这种具有无机性质的减反射涂层的存在对制品的机械特性也是有害的。
还已提出通过控制在制品基材主表面上形成的聚合物涂层表面的粗糙度来赋予光学制品减反射特性。可以通过使涂层的外表面经受等离子体蚀刻获得这种粗糙度控制。参见例如：
1.J.Hsu,P.Wang,Y.Lin,和H.Chen,“Anti-reflective effect of transparentpolymer by plasma treatment with end-hall ion source and optical coating[用端部霍尔离子源和光学涂层进行等离子体处理的透明聚合物的减反射效果],”Opt.Rev.[光学综述]17,1-4(2010)
2.U.Schulz和N.Kaiser,“Antireflective Coating with NanostructuredOrganic Top-Layer[具有纳米结构有机顶层的减反射涂层],”Opt.Interf.Coatings[光学界面涂层]1,WA2(2010)
3.U.Schulz,P.Munzert,R.Leitel,I.Wendling,N.Kaiser,和a Tünnermann,“Antireflection of transparent polymers by advanced plasma etchingprocedures.[通过先进的等离子体蚀刻程序的透明聚合物的减反射],”Opt.Express[光学快报]15,13108-13(2007)
4.G.S.Oehrlein,R.J.Phaneuf,和D.B.Graves,“Plasma-polymer interactions:A review of progress in understanding polymer resist mask durability duringplasma etching for nanoscale fabrication[等离子体-聚合物相互作用：关于理解在用于纳米级制造的等离子体蚀刻期间聚合物抗蚀剂掩模耐久性的进展的综述],”J.Vac.[真空杂志]
然而，由此产生的表面纳米结构在机械上较弱并且易于通过外部机械作用(如摩擦、擦拭等)改变，因此导致减反射特性降低并且甚至丧失。
因此，本发明的目的是提供一种具有减反射特性而没有已知现有技术的缺点的光学制品。
更具体地，本发明的目的是提供一种具有减反射特性的光学制品，所述光学制品不包含由无机材料层的堆叠体制成的减反射涂层，并且没有展现出具有粗糙表面的涂层的机械弱点。
本发明实现了上述目的，本发明提供了一种包括具有两个主表面的基材的光学制品，其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖，所述涂层包含在所述外表面下方的具有第一折射率n1的第一表面层以及在所述第一表面层下方的具有第二折射率n2的第二层，其中，n2&lt;n1，并且所述第二层具有所述聚合物涂层的最低折射率，并且所述涂层由于折射率n1与n2之间的差异而展现出减反射特性，所述涂层内的所述折射率差异是由穿过外表面的对初始聚合物涂层的等离子体、电晕和/或离子束处理产生的。
没有通过特定理论联系，看起来等离子体、电晕和/或离子束处理部分地消除了此涂层的表面下的涂层的有机材料，在一定深度的涂层中产生了涉及降低折射率的孔隙率。然后产生具有较低孔隙率的层。作为替代方案，在涂层的深度内产生从涂层外表面的孔隙率和/或折射率的分布曲线，直到达到最小值，并且此后折射率在涂层深度上前行的同时再次增加，直至达到任何处理之前聚合物涂层的折射率。
同时，涂层的表面粗糙度不受或稍微受到处理的影响，并且聚合物材料的致密化可以在薄层中发生。在某些情况下，它可能在表面上增加涂层的折射率。
涂层的相应结构将在下文中详述。
在本说明书中，表述[涂层的]“外表面”意指距离基材最远的涂层表面。
当层A位于层B下方时，意味着层B距离外表面更远。
尽管另有说明，但折射率是在25℃下在550nm波长下测量的。
一层有机涂层被定义为其中折射率均匀并且可以测量的层。
认为具有1-5nm厚度的层是均匀的。
在一个实施例中，所述第一表面层和所述第二层是相邻的。
在另一个实施例中，所述第一层和所述第二层不相邻，并且所述聚合物涂层内的折射率可以从所述第一表面层到所述第二层以连续或不连续的方式变化，特别地在所述聚合物涂层内的折射率的变化可以是梯度。
所述第一表面层、第二层和第三层的厚度典型地可以是范围从1至55nm。在一个实施例中，它们优选是薄的(典型地从1至5nm)。
优选地，折射率的差异n1-n2高于或等于0.05、更优选地高于或等于0.10、更好地高于或等于以下值：0.15、0.20、0.25、0.30，并且在等离子体、电晕和/或离子束处理之后，所述第二层的折射率n2展现出所述聚合物涂层的最低折射率。
通常，所述第一表面层中的折射率n1范围是从1.45至1.65，并且所述第二层中的折射率n2范围是从1.25至小于1.45。
典型地，所述第二层具有比第一层更高的孔隙率。孔隙率测量是利用Lorentz-Lorentz方程的椭偏仪法，所述方程在其中第二种材料是空气的2种材料的共混物的情况下表示。必需在所述方程中引入致密材料(例如涂层材料)的折射率。所述第二层的最大孔隙率范围是从10％至70％、优选从20％至60、并且更优选从20％至40％。所述第二层的孔隙率的典型值为30％。
而且，优选地，所述聚合物涂层的外表面在等离子体和/或离子束处理之后展现出比最初更大的硬度。
所述聚合物涂层通常具有范围从1至10微米、优选从2μm至4μm的厚度。
通常，所述第二层位于所述聚合物涂层外表面下方15nm至55nm处。
在一个实施例中，所述涂层包含位于所述第二层下方并具有折射率n3&gt;n2的第三层。
在另一个实施例中，所述聚合物涂层内的折射率可以从所述第二层到所述第三层以连续或不连续的方式变化，特别地在所述聚合物涂层内的折射率的变化可以是梯度。
在另一个实施例中，所述第三层的折射率与等离子体、电晕或离子束处理之前的聚合物涂层的初始折射率相同。
在另一个实施例中，n3&lt;n1。
通常，所述聚合物涂层的外表面具有低粗糙度。典型地，所述涂层的所述外表面具有低于10nm、优选低于5nm、更优选低于2nm的粗糙度Ra，Ra通过原子力显微镜法(AFM)测定。
Ra经典地被定义为粗糙度曲线与平均线的垂直偏差的绝对值的算术平均值。
在一个实施例中，所述聚合物涂层包含含有有机基团的基质。有机基团(含有碳原子的基团)。
在另一个实施例中，所述聚合物涂层包含-(Si-O)-单元，并且优选为聚硅氧烷。
优选地，所述聚合物涂层包含至少一种环氧硅烷聚合物和任选地至少一种胶体。
优选地，所述聚合物涂层包括耐磨损和/或抗刮擦涂层。
优选的环氧硅烷聚合物是环氧烷氧基硅烷聚合物，并且特别是环氧三烷氧基硅烷聚合物，如α-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷和α-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷聚合物。
优选地，所述环氧硅烷具有下式：
RnYmSi(X)4-n-m (I)
其中R基团相同或不同，是通过碳原子与Si原子连接并包含至少一个、优选一个环氧官能团的单价有机基团；X基团相同或不同，是可水解的基团；Y是不含环氧基且通过碳原子与Si原子连接的单价有机基团，n和m是整数，例如n＝1并且m＝0或1。
优选的R基团具有下式V和VI：
其中R2是烷基，优选甲基或氢原子，更优选氢原子；a和c是范围从1至6的整数，并且b表示0、1或2。
最优选的环氧硅烷是其中在式I中，n＝1，m＝0且X是C1-C5烷氧基、优选OCH3的那些。
许多环氧官能的烷氧基硅烷适合作为水解前体，包括环氧二烷氧基硅烷，如γ-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基-甲基-二异丙烯氧基硅烷、和γ-缩水甘油氧基乙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷；
环氧三烷氧基硅烷，如缩水甘油氧基甲基-三甲氧基硅烷、缩水甘油氧基甲基三乙氧基硅烷、缩水甘油氧基甲基-三丙氧基硅烷、缩水甘油氧基甲基-三丁氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基三甲氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基三乙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基-三丙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基-三丁氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基三甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基乙基-三乙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基乙基-三丙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基乙基三丁氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基-三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基-三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基-三丙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三丁氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基-三甲氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基-三乙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基-三丙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基三丁氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基-三甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基-三乙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基-三丙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基三丁氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丁基-三甲氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基-三乙氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基-三丙氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基-三丁氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基-三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丁基-三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丁基-三丙氧基硅烷、γ-丙氧基丁基-三丁氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基-三甲氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基-三乙氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基-三丙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丁基-三甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丁基-三乙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丁基-三丙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丁基-三丁氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)-甲基-三甲氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)甲基-三乙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)甲基-三丙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)-甲基-三丁氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)乙基-三乙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)乙基-三乙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)乙基-三丙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)-乙基-三丁氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)丙基-三甲氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)丙基-三乙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)丙基-三丙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)丙基-三丁氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)丁基-三甲氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)丁基-三乙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)-丁基-三丙氧基硅烷、和(3,4-环氧环己基)丁基-三丁氧基硅烷。
优选地，环氧硅烷选自由以下各项组成的组：γ-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷和2-(3,4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷或其两种或更多种的混合物。
优选使用γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷(GLYMO)。
根据本发明的一个方面，优选在混合到所述组合物的其他组分中之前，水解环氧硅烷。
可以如本领域中已知的通过在水存在下使用酸性催化剂(盐酸、乙酸)进行水解。
烷氧基的水解释放出相关的醇，以形成将自发缩合的硅烷醇基团。优选地，烷氧基硅烷与化学计算量的水反应以水解可水解基团、典型地烷氧基。
在一个实施例中，所述涂层包含胶体。可以使用的胶体优选在二氧化硅与高折射率氧化物如TiO2、ZrO2、Sb2O5、WO3之间进行选择。
在一个实施例中，所述聚合物涂层的涂覆组合物含有按重量计至少30％、优选30％至60％的固体材料(无机胶体)并且更优选按重量计40％至55％(按涂层的干含量计)。
优选的胶体是胶体二氧化硅。
优选的耐磨损涂层是包含环氧硅烷聚合物和胶体的那些，并且特别是EP-0.614.957中披露的那些。
基材可以是光学领域中使用的任何经典基材，如无机或有机玻璃，例如由热塑性或热固性塑料制成的有机玻璃。
作为尤其优选种类的基材材料，要提及的是聚碳酸酯，聚酰胺，聚酰亚胺，聚砜，聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚碳酸酯的共聚物，聚烯烃，如聚降冰片烯，由亚烷基二醇双烯丙基碳酸酯的聚合或(共)聚合产生的树脂，如二乙二醇双(碳酸烯丙基酯)的聚合物和共聚物(例如由PPG工业公司(PPG Industries company)以商品名销售的，对应销售的镜片被称为来自依视路(ESSILOR)的镜片)，聚碳酸酯，如衍生自双酚A的那些，(甲基)丙烯酸或硫代(甲基)丙烯酸聚合物和共聚物，如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，尿烷和硫代尿烷聚合物和共聚物，环氧聚合物和共聚物，环硫化物聚合物和共聚物。
在一个实施例中，低表面能疏水材料如氟化树脂或氟化聚合物可以作为顶涂层施加在具有根据本发明的涂层的制品的表面上。
优选地，这种顶涂层的表面能小于或等于14mJ/m2、优选小于或等于12mJ/m2。通常，这种低表面能涂层包含氟聚合物或氟硅烷中的至少一种。此类氟聚合物或氟硅烷包括但不限于和可商购的氟硅烷，如Dow Corning 2604、2624和2634；Daikin OptoolShinetsu 十七氟硅烷(例如由GELEST制造的)、(例如，由CYTONIX制造的)；FAS13，CYTOPTM(来自ASAHI)等。可以将这些涂层通过浸渍、蒸汽涂覆、喷涂、用辊施加和本领域已知的其他合适方法施加到制品的纳米结构表面上。
推荐用于制备疏水性和/或疏油性顶涂层的含有氟硅烷的组合物描述于美国专利号6,183,872中。它们含有具有有机基团的氟聚合物，这些氟聚合物带有由以下通式表示的硅基基团并且具有5.102至1.105的分子量：
其中RF表示全氟烷基；Z表示氟或三氟甲基；a、b、c、d和e各自彼此独立地表示0或大于或等于1的整数，前提是总和a+b+c+d+e不小于1且在a、b、c、d和e下索引的括号之间的重复单位的顺序不限于给出的顺序；Y表示H或包含从1至4个碳原子的烷基；X表示氢、溴或碘原子；
R1表示羟基或可水解基团；R2表示氢原子或单价烃基；m表示0、1或2；n表示1、2或3；并且p表示等于至少1、优选等于至少2的整数。
特别优选的是具有下式的全氟聚醚：
其中Y、R1、m和p如上所定义，并且a是从1至50的整数。
含有由前式(1)给出的氟硅烷的配制品由大金工业公司(DAIKIN INDUSTRIES)以名称OPTOOL 销售。
文献JP 2005 187936描述了适用于形成防污涂层的硅烷的氟化化合物，并且特别是由下式给出的化合物：
其中
R'F是直链二价全氟聚醚基团，
R'是C1-C4烷基或苯基，
X'是可水解基团，
a'是从0至2的整数，
b'是从1至5的整数，并且
m'和n'是等于2或3的整数。
由上式(2)给出的氟硅烷化合物由信越化学有限公司(SHIN-ETSU CHEMICAL CO,Ltd)以名称销售。
由式(2)给出的氟硅烷化合物及其制备方法也描述在专利申请EP 1 300 433中。
根据本发明，本发明的涂层具有减反射特性，即，所述聚合物涂层的外表面在15°入射时展现出低于2.5％的Rv值，优选低于以下值之一：2.4％、2.3％、2.2％、2.1％、2％、1.9％、1.8％、1.7％、1.6％、1.5％，并且在15°和45°入射时更好地低于2.5％。
光反射率Rv是如在ISO 13666:1998标准中定义的，并根据ISO 8980-4标准进行测量(对于低于17°、典型地15°的入射角)。
本发明还涉及一种制造如以上披露的光学制品的方法，所述方法包括用等离子体和/或离子束穿过光学制品的聚合物涂层的外表面处理所述聚合物涂层，所述光学制品包括具有两个主表面的基材，其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖，以便在所述外表面下方形成具有第一折射率n1的第一表面层并且在所述第一表面层下方形成具有第二折射率n2的第二层，其中n2&lt;n1，从而赋予所述涂层减反射特性。
优选地，等离子体处理包括在范围从10毫托至150毫托的压力下、在范围从5分钟至80分钟、优选15至40分钟、更好地15至25分钟的时间段内使所述聚合物涂层的外表面经受氧等离子。
而且，优选地，使用射频源产生双氧等离子体，所述射频源具有的张力范围为从100至600V、优选100至300V，并且所施加的功率范围为从10W至250W、优选20至100W。所施加的表面功率密度优选为范围从0.05至1.5W/cm2、更优选从0.1至0.55W/cm2。
在一个实施例中，所述光学制品通过用具有范围从10至50瓦特的功率的射频源获得的等离子体、优选双氧等离子体来处理。
说明书的以下部分参考附图，这些附图代表：
图1：与未根据本发明处理的类似光学制品相比，根据本发明的光学制品的光透射率的曲线图；
图2：根据本发明的光学制品和未根据本发明处理的相似光学制品的作为入射角的函数的反射率Rv(％)的曲线图；
图3：根据本发明的光学制品的耐擦拭性的曲线图；
图4：作为距离所述聚合物涂层外表面的深度的函数的本发明的不同光学制品的折射率的曲线图；并且
图5：根据本发明的制品和在等离子体处理之前的相同的光学制品二者的聚合物涂层的外表面的原子力显微镜(AFM)照片，并且
图6：是根据本发明的光学制品和处理之前的相同光学制品(对照)的外表面的纳米压痕硬度的曲线图。
实例
1.初始光学制品
以下实例中使用的初始光学制品是具有2mm中心厚度的由二乙二醇二(碳酸烯丙基酯)聚合物构成的有机玻璃的眼科镜片，将这些眼科镜片浸涂在根据EP-0.614.957的实例3的聚合物涂层组合物中，并且然后在60℃下预固化15分钟。然后将它们置于100℃的烘箱中3小时。
所得涂层的厚度为3μm。
这些初始光学制品在以下实例中标识为A。
2.等离子体处理
初始光学制品A的等离子体处理已在配备有15cm直径的金属电极的真空室中进行。将样品(同时4个)安装在所述电极上，所述电极用RF电源(13.56MHz)供电。
等离子体是在100毫托的压力、26W的RF电源以及120V或270V的张力下的双氧等离子体。在一侧(涂层侧)或两侧上进行处理持续不同的时间。
获得以下样品：
样品 张力(V) 持续时间(分钟) 所处理的侧
A1 120 20 两侧
A2 120 40 一侧
A3 120 40 一侧
A4 120 20 一侧
A5 120 20 一侧
A6 270 20 一侧
A7 270 20 一侧
A8 270 20 一侧
3.透射率测试
样品A1至A5的光透射率已使用标准方法通过用光谱仪测量来确定。结果示出在图1中，其清楚地显示根据本发明的光学制品具有优于初始光学制品的光透射率。
4.反射率测试
样品A6至A8的反射率已根据标准ISO 8980-4 2006确定。
结果在图2中给出，其示出根据本发明的光学制品对于45°的入射角具有至多2.5％的反射率Rv，而初始光学制品A对于45°的入射角具有大于3％直至5％的反射率。应注意，已对样品A6至A8的若干示例进行了反射率测试，并且这些测试在凹面(Cc)或凸面(Cx)上进行。
5.耐擦拭性
使用来自CSM公司的摩擦计(销盘式摩擦计(TRB))对样品A6进行擦拭测试。
对于此测试，首先测量样品A6的反射光谱，并且然后使用承载在置于样品上的布上的硅酮销(8肖氏0)对样品A6进行擦拭。
然后将样品在布下移动。
以1cm/s的速度以增加的强度(1N、2N、5N和10N)进行十次圆形转动(半径15mm)。此后，再次测量反射光谱。
接触面积取决于承载强度并且对于1N是0.3cm2，对于2N是0.5cm2，对于5N是0.65cm2，并且对于10N是1.1cm2。
图3示出样品的反射光谱在测试后没有变化，这意味着聚合物涂层的减反射特性没有改变。
6.折射率的测定
折射率已通过光谱-椭偏测量术(spectro-ellipsometry)对与样品A1-A6相似的样品进行测量，但进一步测量中间处理次数。
结果在图4上示出。
从图4中可以看出，处理前聚合物涂层的折射率在整个涂层中是相同的(约1.49)，而在根据本发明的处理之后，
1)所述聚合物涂层包含表面层，所述表面层具有测量为比处理前涂层的折射率更高的折射率，
2)所述聚合物涂层的折射率在聚合物涂层内连续降低，直到达到其折射率对应于最小值的层(第二层)，并且折射率进一步增加直到具有所述聚合物涂层值的初始值(等离子体处理之前)的折射率的第三层。(没有表示这3个薄层(1-5nm厚))。
7.表面粗糙度
图5示出了通过原子力显微镜法获得的如上述1.(对照)中获得的镜片样品A和根据本发明的样品的外表面的图像：将如上述1)中所述获得的相同的镜片样品在250W下用双氧等离子体处理20分钟。所获得的样品在透射率上具有2.5％的增加，并且显然地，根据本发明的样品的外表面的粗糙度小于对照样品的粗糙度。这意味着本发明的光学制品的减反射特性不是涂层外表面粗糙度增加的结果。
8.表面硬度
通过纳米压痕对样品A(对照)和根据本发明的样品(在26W、270V下用双氧等离子体处理的样品)测量表面硬度。
如WO2015166144中所述，通过纳米压痕测定硬度H。
而且，为了确保结果不是由于退火，样品A已经在大气条件下在120℃的温度下在1小时期间退火。
结果示出在图6中，图6是聚合物涂层中作为比率h/e(e＝涂层厚度，h＝涂层表面之下的深度)的函数的硬度H(GPA)的曲线图。
可以看出，对于根据本发明的样品，在外表面附近存在涂层硬化。

Claims (17)

1.一种包括具有两个主表面的基材的光学制品，其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖，所述涂层包含在所述外表面下方的具有第一折射率n1的第一表面层以及在所述第一表面层下方的具有第二折射率n2的第二层，其中，n2&lt;n1，并且所述第二层具有所述聚合物涂层的最低折射率，并且所述涂层由于折射率n1与n2之间的差异而展现出减反射特性，所述涂层内的所述折射率差异是由穿过所述外表面的对初始聚合物涂层的等离子体、电晕和/或离子束处理产生的。
2.根据权利要求1所述的光学制品，其中所述涂层包含位于所述第二层下方并且具有折射率n3&gt;n2的第三层。
3.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中n1-n2是高于或等于0.05、优选高于或等于0.10。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学制品，其中所述第一层和所述第二层不相邻，并且所述聚合物涂层内的折射率从所述第一层到所述第二层以连续或不连续的方式变化。
5.根据权利要求4所述的光学制品，其中所述折射率的变化是梯度。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学制品，其中所述第二层具有比所述第一层更高的孔隙率。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的光学制品，其中所述涂层的所述外表面在所述等离子体、电晕和/或离子束处理后展现出更大的硬度。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学制品，其中所述聚合物涂层具有范围从2微米至4微米的厚度。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的光学制品，其中所述第二层位于距离所述聚合物涂层的所述外表面从15纳米至55纳米。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学制品，其中所述涂层的所述外表面具有低于10nm、优选低于5nm、更优选低于2nm的粗糙度Ra。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的光学制品，其中所述聚合物涂层包含至少一种无机胶体。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的光学制品，其中所述聚合物涂层包含含有有机基团的基质。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的光学制品，其中所述聚合物涂层包含至少一种环氧硅烷聚合物。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的光学制品，其中所述聚合物涂层是耐磨损和/或抗刮擦涂层。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的光学制品，其中所述聚合物涂层的外表面在15°和45°入射下展现出低于2.5％的Rv值。
16.一种用于制造根据权利要求1至15中任一项所述的光学制品的方法，其中所述光学制品包括具有两个主表面的基材，其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖，所述方法包括用等离子体、电晕和/或离子束穿过光学制品的初始聚合物涂层的外表面来处理所述初始聚合物涂层，以便在所述聚合物涂层内形成第一层和第二层，从而赋予所述聚合物涂层减反射特性。
17.根据权利要求16所述的方法，其中所述光学制品通过由具有范围从0.05至1.5W/cm2的表面功率密度的射频源获得的等离子体、优选双氧等离子体来处理。
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