CN109182984A - 一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法 - Google Patents

一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109182984A
CN109182984A CN201811107113.6A CN201811107113A CN109182984A CN 109182984 A CN109182984 A CN 109182984A CN 201811107113 A CN201811107113 A CN 201811107113A CN 109182984 A CN109182984 A CN 109182984A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
ticn
screw tap
target
ticn coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201811107113.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109182984B (zh
Inventor
马胜利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xi'an Hao Yuan Aviation Technology Co Ltd
Original Assignee
Xi'an Hao Yuan Aviation Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xi'an Hao Yuan Aviation Technology Co Ltd filed Critical Xi'an Hao Yuan Aviation Technology Co Ltd
Priority to CN201811107113.6A priority Critical patent/CN109182984B/zh
Publication of CN109182984A publication Critical patent/CN109182984A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109182984B publication Critical patent/CN109182984B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • C23C14/025Metallic sublayers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641Nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0664Carbonitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/347Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with layers adapted for cutting tools or wear applications

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,将高速钢制成的丝锥经预处理后,放入电弧离子镀膜设备中的转架杆上,以Ti靶作为制备TiCN涂层的Ti元素来源,通过电弧电源的电流控制Ti靶的溅射率;采用高纯Ar作为主要离化气体,采用高纯N2和高纯CH2作为反应气体,使其离化并与Ti元素结合,在丝锥表面沉积形成TiCN涂层;所制备的TiCN涂层为多层结构,即Ti/TiN/TiCN/TiN/TiCN,总厚度为2微米,原子成分含量为Ti:52at.%,C:28at.%,N:20at.%,涂层硬度HV3000,在室温干摩擦和对副为GCr15条件下,销盘实验测出涂层的摩擦系数为0.15,具有优良的减摩性能,适合于在难加工材料进行攻丝加工的应用。

Description

一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法
技术领域
本发明属于涂层在刀具应用技术领域,涉及刀具表面涂层的制备,进一步涉及一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法。
背景技术
丝锥是加工各种中、小尺寸内螺纹的刀具,它结构简单,使用方便,在生产中应用得非常广泛。按照使用方式可以分为手用丝锥和机用丝锥,一般把制造精度较高的高速钢或硬质合金磨牙丝锥称为机用丝锥,把碳素工具钢或合金工具钢的滚牙(或切牙)丝锥称为手用丝锥,实际上两者的结构和工作原理基本相同。通常,丝锥由工作部分和柄部构成。工作部分又分切削部分和校准部分,前者磨有切削锥,担负切削工作,后者用以校准螺纹的尺寸和形状。丝锥在使用过程中的失效形式主要有:
1、排屑不好造成切屑堵塞产生的折断;
2、丝锥每齿切削厚度太大造成的崩齿;
3、攻丝锥螺纹时速度过高、切削液选择不当和工件的材料硬度过高等造成的丝锥磨损严重。
近年来,涂层丝锥应用越来越广,发展涂层丝锥技术的主要目的是提高生产效率和降低生产成本,优点主要表现在以下几点:
1、增加丝锥表面硬度和耐磨性;
2、减少丝锥与工件摩擦;
3、排屑顺畅,避免丝锥过早损坏;
4、提高工件表面质量;
5、提高切屑速度,缩短加工时间。
目前,丝锥表面采用的涂层类型主要有TiN涂层,TiAlN涂层,TiCN涂层和DLC涂层等,这些涂层主要通过物理气相沉积PVD工艺制备。申请人在多年研究中发现,TiCN涂层可能是一种最为适合的丝锥表面涂层,主要是因为这种涂层成分调控范围大,硬度高(HV2400-3500)、摩擦系数低0.1-0.3,涂层强韧性等综合力学性能好,可增加丝锥的耐磨性能和润滑性能,并抑制切削瘤的产生与附着,可有效防止丝锥的折断、崩齿及磨损等,尤其在难加工材料攻丝中优势显著。
TiCN是最为常见的一种具有层状结构的硬质涂层。理论上讲,当碳含量为零时,即为TiN涂层,外观呈金黄色,TiN涂层硬度HV2400,而且韧性较好。随TiCN涂层中的碳含量增加,涂层外观呈浅黄色-棕色-蓝灰色-深灰色等不断变化,其硬度也会逐渐从HV2400增加到HV3500。当氮含量为零时,即为TiC涂层,外观呈深灰色,TiC涂层硬度达到最大HV3500,但韧性却大幅下降,不适合丝锥表面涂层应用。因此,TiCN作为丝锥表面涂层应用时仍有大量技术难题需要攻关,具体有,TiCN作为丝锥表面涂层时,Ti、C、N三种元素含量多少最为合适,多层结构如何优化设计及实现,以及涂层制备工艺试验条件等,特别是用于难加工材料攻丝的丝锥表面涂层,因此,研发设计出一种既有耐磨减摩性能,又有综合强韧性能的新型丝锥表面TiCN涂层一直是申请人研究的热点。
发明内容
基于现有技术中未涂层丝锥生产效率低,以及已有涂层丝锥的使用性能不足的技术难题,本发明的目的在于,提供一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,该方法在丝锥表面制备TiCN涂层,使得丝锥具有高硬度、低摩擦系数性能,特别适合于丝锥在难加工材料的应用。
为了实现上述任务,本发明采取如下的技术解决方案:
一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:
1)将高速钢制成的丝锥预处理后放入电弧离子镀膜设备中的转架杆上,该转架杆随转架台转动,或者自转,以保证镀膜过程的均匀性。
2)以Ti靶作为制备TiCN涂层的Ti元素来源,Ti靶安置在炉体内壁上,通过电弧电源的电流控制Ti靶的溅射率;Ti靶共三组,每组三个,共计九个Ti靶,以均布的方式安置在炉体内壁上,采用高纯Ar作为主要离化气体,保证有效的辉光放电过程;采用高纯N2和高纯CH2作为反应气体,使其离化并与Ti元素结合,在丝锥表面沉积形成TiCN涂层。
3)制备工艺条件:
A)丝锥等离子体清洗:
丝锥装入真空室后,抽真空并加热到500℃不变,镀膜前,通入30ml/min的Ar到真空室,当真空室气压达到6Pa时,开偏压至-800V对真空室的丝锥表面进行轰击清洗,持续30分钟;
B)Ti底层制备:
丝锥清洗完成后,调节Ar流量到10ml/min,将真空室气压调至0.3Pa,打开Ti靶电弧电源,弧电流100A,调整偏压到-150V,开始在丝锥表面制备Ti底层,持续10分钟;
C)TiN过渡层制备:
Ti底层制备完成后,将偏压调整为-100V,打开N2开关,调整N2流量,使真空室气压为1Pa,将Ti靶打开,弧电流100A,开始在Ti底层上制备TiN过渡层,持续20分钟,制备过程中,真空室温度由加热器加热维持500℃不变。
D)TiCN涂层制备:
TiN过渡层制备完成后,将偏压调整为-80V,打开N2和CH2作开关,调整N2流量和CH2流量比例为2:3,使真空室气压为1Pa,将Ti靶打开,弧电流100A,开始在TiN过渡层上制备TiCN涂层,持续30分钟。
E)TiN过渡层制备:
TiCN涂层制备完成后,关闭CH2开关,将偏压调整为-100V,调整N2流量,使真空室气压维持在1Pa,Ti靶弧电流100A,继续在TiCN涂层上制备TiN过渡层,持续20分钟。
F)TiCN涂层制备:
TiN过渡层制备完成后,将偏压调整为-80V,打开N2和CH2作开关,调整N2流量和CH2流量比例为2:3,使真空室气压为1Pa,Ti靶弧电流100A,在TiN过渡层上继续制备TiCN涂层,持续30分钟后结束镀膜过程,即可在丝锥表面获得TiCN涂层。
本发明的用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,在丝锥表面所制备的TiCN涂层为多层结构,即Ti/TiN/TiCN/TiN/TiCN,其中,Ti底层,是为了提高TiCN涂层与丝锥的结合力。而在整个的TiCN涂层中设计了2层TiN过渡层,其主要作用是:
1、减缓涂层中的内应力,防止涂层在使用过程中过早剥落;
2、提高涂层的韧性,防止涂层太脆造成的丝锥崩齿和折断。
这独特的多层结构和PVD沉积工艺既保证了涂层结合力的提高,又保证了涂层耐磨性能、减摩性能和综合强韧性能的改善。
经测定,采用本发明的用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,在丝锥表面所制备的TiCN涂层,其涂层总厚度为2微米,原子成分含量为Ti:52at.%,C:28at.%,N:20at.%,涂层硬度HV3000,在室温干摩擦和对副为GCr15条件下,销盘实验测出涂层的摩擦系数为0.15,具有优良的减摩性能。适合于在难加工材料进行攻丝加工的应用。
附图说明
图1为电弧离子镀膜设备结构示意图。
以下结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。
具体实施方式
本实施例给出一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,需要说明的是,本发明的用于丝锥表面制备TiCN涂层的,在丝锥表面所制备的TiCN涂层,可以在任何高速钢材料制备的刀具上进行,并不限于该实施例。
本实施例给出的用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,其具体制备过程是:
(1)采用经1170℃淬火,550℃回火后的硬度为HRC=60的丝锥(材料:W18Cr4V)作为样品,首先进行预处理,即经表面除油、抛光后浸入丙酮中超声波清洗,酒精脱水,备用。
(2)将预处理好的样品放入电弧离子镀膜设备中。如图1所示,电弧离子镀膜设备至少包括外加电源偏压1、转台架2、真空室3、转架杆4、Ti靶(5、6、7)、供气管道8、加热器9、泵组10。
样品置于转架杆4上,转架杆4可以随转台架2转动,也可以自转,这样就保证了镀膜过程的均匀性。
(3)采用直径100mm的圆形Ti靶(5、6、7)作为Ti的来源,通过圆形Ti靶的弧电源电流控制Ti靶的溅射率。如图1所示,圆形Ti靶共三组(每组三个,共计九个)以均布的方式安置在炉体内壁上,采用高纯Ar作为主要离化气体,保证有效的辉光放电过程;采用高纯N2和CH2作为反应气体,通过供气管道8进入真空室,使其离化并与各靶中的Ti元素结合,在样品表面沉积形成TiCN涂层。
(4)TiCN涂层的优化工艺条件为:
A)丝锥等离子体清洗:
丝锥装入真空室后,抽真空并加热到500℃不变,镀膜前,通入30ml/min的Ar到真空室,当真空室气压达到6Pa时,开偏压至-800V对真空室的丝锥表面进行轰击清洗,持续30分钟;
B)Ti底层制备:
丝锥清洗完成后,调节Ar流量到10ml/min,将真空室气压调至0.3Pa,打开Ti靶电弧电源,弧电流100A,调整偏压到-150V,制备Ti底层,持续10分钟。
C)TiN过渡层制备:
Ti底层制备完成后,将偏压调整为-100V,打开N2开关,调整N2流量,使真空室气压为1Pa,将Ti靶打开,弧电流100A,开始在Ti底层上制备TiN过渡层,持续20分钟,镀膜过程中真空室温度由加热器加热维持为500℃。
D)TiCN涂层制备:
TiN过渡层制备完成后,将偏压调整为-80V,打开N2和CH2作开关,调整N2流量和CH2流量比例为2:3,使真空室气压为1Pa,将Ti靶打开,弧电流100A,开始在TiN过渡层上制备TiCN涂层,持续30分钟。
E)TiN过渡层制备:
TiCN涂层制备30分钟后,关闭CH2开关,将偏压调整为-100V,调整N2流量,使真空室气压维持在1Pa,调整Ti靶弧电流为100A,继续在TiCN涂层上制备TiN过渡层,持续20分钟。
F)TiCN涂层制备:
TiN过渡层制备完成后,将偏压调整为-80V,打开N2和CH2作开关,调整N2流量和CH2流量比例为2:3,使真空室气压为1Pa,Ti靶弧电流100A,在TiN过渡层上继续制备TiCN涂层,持续30分钟后结束镀膜过程,即可在丝锥表面获得TiCN涂层。
经测定,采用本实施例的用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,所制备的TiCN涂层总厚度为2微米,原子成分含量为Ti:52at.%,C:28at.%,N:20at.%,涂层硬度HV3000,在室温干摩擦和对副为GCr15条件下,销盘实验测出涂层的摩擦系数为0.15,表明TiCN涂层具有优良的减摩性能。
将所制备的带有TiCN涂层的丝锥用于加工调质钢40CrMn工件攻丝测试,使用寿命比未涂层丝锥提高了3倍,用于加工硅含量为8%-12%的铝合金工件攻丝,使用寿命比未涂层丝锥提高了2.5倍,用于加工镍铬铁合金Inconel 718工件攻丝,使用寿命比未涂层丝锥提高1倍。

Claims (3)

1.一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:
1)将高速钢制成的丝锥经预处理后,放入电弧离子镀膜设备中的转架杆上,该转架杆随转架台转动,或者自转,以保证镀膜过程的均匀性;
2)以Ti靶作为制备TiCN涂层的Ti元素来源,Ti靶安置在炉体内壁上,通过电弧电源的电流控制Ti靶的溅射率;Ti靶共三组,每组三个,共计九个,以均布的方式安置在炉体内壁上;
采用高纯Ar作为主要离化气体,保证有效的辉光放电过程;
采用高纯N2和高纯CH2作为反应气体,使其离化并与Ti元素结合,在丝锥表面沉积形成TiCN涂层;
3)制备工艺条件:
A)丝锥等离子体清洗:
丝锥装入真空室后,抽真空并加热到500℃不变,镀膜前,通入30ml/min的Ar到真空室,当真空室气压达到6Pa时,开偏压至-800V对真空室的丝锥表面进行轰击清洗,持续30分钟;
B)Ti底层制备:
丝锥清洗完成后,调节Ar流量到10ml/min,将真空室气压调至0.3Pa,打开Ti靶电弧电源,弧电流100A,调整偏压到-150V,开始制备Ti底层,持续10分钟;
C)TiN过渡层制备:
Ti底层制备完成后,将偏压调整为-100V,打开N2开关,调整N2流量,使真空室气压为1Pa,将Ti靶打开,弧电流100A,开始在Ti底层上制备TiN过渡层,持续20分钟,制备过程中,真空室温度由加热器加热维持500℃不变;
D)TiCN涂层制备:
TiN过渡层制备完成后,将偏压调整为-80V,打开N2和CH2作开关,调整N2流量和CH2流量比例为2:3,使真空室气压为1Pa,将Ti靶打开,弧电流100A,开始在TiN过渡层上制备TiCN涂层,持续30分钟;
E)TiN过渡层制备:
TiCN涂层制备完成后,关闭CH2开关,将偏压调整为-100V,调整N2流量,使真空室气压维持在1Pa,Ti靶弧电流100A,继续在TiCN涂层上制备TiN过渡层,持续20分钟;
F)TiCN涂层制备:
TiN过渡层制备完成后,将偏压调整为-80V,打开N2和CH2作开关,调整N2流量和CH2流量比例为2:3,使真空室气压为1Pa,Ti靶弧电流100A,在TiN过渡层上继续制备TiCN涂层,持续30分钟后结束镀膜过程,即可在丝锥表面获得TiCN涂层。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的TiCN涂层为多层结构,即Ti/TiN/TiCN/TiN/TiCN,其涂层总厚度为2微米,原子成分含量为Ti:52at.%,C:28at.%,N:20at.%,硬度HV3000,在室温干摩擦和对副为GCr15条件下,摩擦系数为0.15。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的预处理为表面除油、抛光后浸入丙酮中超声波清洗,酒精脱水。
CN201811107113.6A 2018-09-21 2018-09-21 一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法 Active CN109182984B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811107113.6A CN109182984B (zh) 2018-09-21 2018-09-21 一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811107113.6A CN109182984B (zh) 2018-09-21 2018-09-21 一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109182984A true CN109182984A (zh) 2019-01-11
CN109182984B CN109182984B (zh) 2020-10-23

Family

ID=64909289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811107113.6A Active CN109182984B (zh) 2018-09-21 2018-09-21 一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109182984B (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110468379A (zh) * 2019-08-27 2019-11-19 中国科学院金属研究所 一种配置热丝的电弧离子镀膜装置
CN110923652A (zh) * 2019-12-26 2020-03-27 北京大学深圳研究院 一种丝材表面涂层磁控溅射连续沉积用装置
CN112708856A (zh) * 2020-11-30 2021-04-27 浙江安胜科技股份有限公司 真空器皿离子镀工艺
CN113564537A (zh) * 2021-07-02 2021-10-29 西安浩元航空科技有限公司 一种用于采掘截割刀具表面制备超硬耐磨涂层的方法
CN113718252A (zh) * 2021-09-03 2021-11-30 科汇纳米技术(深圳)有限公司 Tc4材料表面镀制类金刚石保护层的方法、tc4材料及其应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102392217A (zh) * 2011-11-23 2012-03-28 西北工业大学 一种叶片表面抗点蚀涂层及其制备方法
CN105154880A (zh) * 2015-09-08 2015-12-16 上海应用技术学院 汽轮机转子轮槽铣刀表面TiCN多层复合涂层制备工艺

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102392217A (zh) * 2011-11-23 2012-03-28 西北工业大学 一种叶片表面抗点蚀涂层及其制备方法
CN105154880A (zh) * 2015-09-08 2015-12-16 上海应用技术学院 汽轮机转子轮槽铣刀表面TiCN多层复合涂层制备工艺

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110468379A (zh) * 2019-08-27 2019-11-19 中国科学院金属研究所 一种配置热丝的电弧离子镀膜装置
CN110923652A (zh) * 2019-12-26 2020-03-27 北京大学深圳研究院 一种丝材表面涂层磁控溅射连续沉积用装置
CN112708856A (zh) * 2020-11-30 2021-04-27 浙江安胜科技股份有限公司 真空器皿离子镀工艺
CN113564537A (zh) * 2021-07-02 2021-10-29 西安浩元航空科技有限公司 一种用于采掘截割刀具表面制备超硬耐磨涂层的方法
CN113718252A (zh) * 2021-09-03 2021-11-30 科汇纳米技术(深圳)有限公司 Tc4材料表面镀制类金刚石保护层的方法、tc4材料及其应用

Also Published As

Publication number Publication date
CN109182984B (zh) 2020-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109182984A (zh) 一种用于丝锥表面制备TiCN涂层的方法
CN107130222B (zh) 高功率脉冲磁控溅射CrAlSiN纳米复合涂层及其制备方法
CN103898445B (zh) 一种多层AlCrN切削刀具涂层及其制备方法
CN110016642A (zh) 一种微织构梯度涂层刀具及其制备方法
US20010028926A1 (en) Method for the manufacture of coatings and an article
CN110129741B (zh) 一种多元纳米叠层涂层刀具及其制备方法
CN104928638A (zh) 一种AlCrSiN基多层纳米复合刀具涂层及其制备方法
CN103789726B (zh) 与工具表面结合牢固的AlTiCrN/MoN纳米多层涂层及其制备方法
CN106835031B (zh) 离子源增强电弧离子镀制备高温合金切削刀具涂层的方法
CN103273687A (zh) TiSiN+ZrSiN复合纳米涂层刀具及其制备方法
CN105063554A (zh) ZrSiCN纳米复合梯度涂层刀具及其制备工艺
CN106521493A (zh) 一种梯度结构类金刚石薄膜及其制备方法
CN104060222B (zh) TiSiN-WS2/Zr-WS2涂层刀具及其制备工艺
CN101831608A (zh) 一种纳米复合钛铝硅氮化物刀具涂层及其制备方法
CN103029366A (zh) 一种含有NiCrN三元涂层的制品及制备方法
CN105925941B (zh) TiAlCrN+MoS2/Ti/Al/Cr组合润滑涂层刀具及其制备工艺
JP6034579B2 (ja) 耐久性に優れる被覆工具
CN109182983A (zh) 一种用于硬质合金旋转锉表面制备TiAlSiN涂层的方法
CN108950488A (zh) TiAl/TiAlN/TiZrAlN复合涂层及其制备方法
Xiang et al. Influence of textured diamond film on tribological properties of cemented carbide substrate
CN106929799A (zh) 耐高温防护涂层及其制备方法与应用
CN108179393B (zh) 一种CrAlSiCON纳米复合涂层及其制备方法
CN104805404A (zh) Mo-W-S-C自润滑涂层刀具及其制备工艺
CN103938157B (zh) 一种ZrNbAlN超晶格涂层及制备方法
CN103556119A (zh) 一种氮化钛锆铌氮梯度硬质反应膜的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant