CN109166809A - 湿蚀刻设备 - Google Patents

湿蚀刻设备 Download PDF

Info

Publication number
CN109166809A
CN109166809A CN201810764873.8A CN201810764873A CN109166809A CN 109166809 A CN109166809 A CN 109166809A CN 201810764873 A CN201810764873 A CN 201810764873A CN 109166809 A CN109166809 A CN 109166809A
Authority
CN
China
Prior art keywords
etching
wet etching
cover plate
tank cover
equipment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810764873.8A
Other languages
English (en)
Inventor
王建刚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201810764873.8A priority Critical patent/CN109166809A/zh
Publication of CN109166809A publication Critical patent/CN109166809A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

本发明提供一种湿蚀刻设备。该湿蚀刻设备通过在蚀刻槽盖板上设置液体吸收装置，快速将蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液进行吸收处理，防止蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液被溅射或滴至玻璃基板上，减少因蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液导致的产品异常，改善玻璃基板上的Mura，提高产品生产良率，并且在该湿蚀刻设备的维护保养中，不需要设备作业人员手动对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，减少设备作业人员的工作量以及职业伤害；此外，由于减少了蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液，可以便于设备作业人员对蚀刻槽内部的检测与观察，提升制程参数获取的准确性。

Description

湿蚀刻设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种湿蚀刻设备。
背景技术
薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)是目前液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线透射出来产生画面。
目前在面板的制作过程中广泛的使用湿蚀刻制程，在湿蚀刻制程所使用的药液在工艺制程过程中，容易通过溅射或者液化的方式残留至蚀刻槽体的盖板(Cover)上，蚀刻槽体的盖板上残留的药液随着时间的推移，其浓度会与药液罐(Tank)中的药液浓度产生差异，在后续的湿蚀刻工艺制程中，盖板上残留的药液可能被溅射或滴至玻璃基板上，导致局部区域蚀刻不均，出现Mura。而现有技术中在湿蚀刻设备的维护保养中，需要作业人员使用水枪对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，再使用无尘布进行擦拭，维护保养工作量较大，并且作业人员长期处于该工作环境中，对身体有一定伤害；此外，蚀刻槽体的盖板上残留的药液会影响外界对设备内部进行监测与观察，导致获取的制程参数存有一定的误差。
发明内容
本发明的目的在于提供一种湿蚀刻设备，能够快速将蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液进行吸收处理，提高产品生产良率。
为实现上述目的，本发明提供了一种湿蚀刻设备，包括：蚀刻槽盖板以及与所述蚀刻槽盖板接触的液体吸收装置；
所述液体吸收装置用于吸收蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液。
所述液体吸收装置包括：驱动单元、与所述驱动单元连接的传动单元以及与所述传动单元连接的液体吸收单元。
所述驱动单元包括电机、与所述电机连接的蜗杆以及与所述蜗杆连接的涡轮。
所述传动单元包括与所述涡轮连接的曲柄、与所述曲柄连接的连杆、与所述连杆连接的连接杆以及与所述连接杆连接的多个摆杆。
所述液体吸收单元包括分别与多个摆杆铰接的多个刮片器，所述多个刮片器与所述蚀刻槽盖板接触。
所述传动单元还包括分别与多个摆杆连接的多个铰链，所述刮片器与摆杆通过铰链连接。
所述刮片器的材料为氟化橡胶、铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
所述曲柄、连杆、连接杆及摆杆的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
所述铰链的材料为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
所述蜗杆及涡轮的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
本发明的有益效果：本发明的湿蚀刻设备，通过在蚀刻槽盖板上设置液体吸收装置，快速将蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液进行吸收处理，防止蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液被溅射或滴至玻璃基板上，减少因蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液导致的产品异常，改善玻璃基板上的Mura，提高产品生产良率，并且在该湿蚀刻设备的维护保养中，不需要设备作业人员手动对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，减少设备作业人员的工作量以及职业伤害；此外，由于减少了蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液，可以便于设备作业人员对蚀刻槽内部的检测与观察，提升制程参数获取的准确性。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的湿蚀刻设备的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种湿蚀刻设备，包括：蚀刻槽盖板10以及与所述蚀刻槽盖板10接触的液体吸收装置20；
所述液体吸收装置20用于吸收蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液。
具体的，所述液体吸收装置20包括：驱动单元21、与所述驱动单元21连接的传动单元22以及与所述传动单元22连接的液体吸收单元23；
所述驱动单元21驱动传动单元22开始运动，该传动单元22带动液体吸收单元23在蚀刻槽盖板10运动，从而快速吸收蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液。
具体的，所述驱动单元21包括电机211、与所述电机211连接的蜗杆212以及与所述蜗杆212连接的涡轮213。
具体的，所述传动单元22包括与所述涡轮213连接的曲柄221、与所述曲柄221连接的连杆222、与所述连杆222连接的连接杆223以及与所述连接杆223连接的多个摆杆224。
具体的，所述液体吸收单元23包括分别与多个摆杆224铰接的多个刮片器231，该多个刮片器231与所述蚀刻槽盖板10接触。
进一步的，所述传动单元22还包括分别与多个摆杆224连接的多个铰链225，所述刮片器231与摆杆224通过铰链225连接。
需要说明的是，首先，驱动单元21的电机211驱动蜗杆212旋转，该蜗杆212带动涡轮213旋转，接着涡轮213带动曲柄221旋转，该曲柄211带动连杆222运动，使连杆222与连接杆223之间的角度、力及力矩发生周期性变化，从而带动连接杆223沿水平方向往复运动，继而该连接杆223带动多个摆杆224沿水平方向来回摆动，最后，多个摆杆224分别带动多个刮片器231在蚀刻槽盖板10上来回摆动，以快速将蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液进行吸收处理，防止蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液被溅射或滴至玻璃基板上，减少因蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液导致的产品异常，改善玻璃基板上的Mura，提高产品生产良率，并且在该湿蚀刻设备的维护保养中，不需要设备作业人员手动对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，减少设备作业人员的工作量以及职业伤害；此外，由于减少了蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液，可以便于设备作业人员对蚀刻槽内部的检测与观察，提升制程参数获取的准确性。
具体的，所述刮片器231的数量与摆杆224的数量一一对应，本发明可根据蚀刻槽盖板10以及刮片器231的实际面积大小，来设置刮片器231的数量及形状，本发明在此不做限制，只要多个刮片器231能将蚀刻槽盖板10的面积完全覆盖到即可。
具体的，所述刮片器231的材料为氟化橡胶、铁氟龙、聚丙烯(PP)或可熔性聚四氟乙烯(PFA)，以增加刮片器231的耐酸耐碱性，提高耐腐蚀性。
具体的，所述曲柄221、连杆222、连接杆223、摆杆224及铰链225的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯，以增加传动单元22的耐酸耐碱性，提高耐腐蚀性。
具体的，所述蜗杆212及涡轮213的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯，以增加驱动单元21的耐酸耐碱性，提高耐腐蚀性。
综上所述，本发明的湿蚀刻设备，通过在蚀刻槽盖板上设置液体吸收装置，快速将蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液进行吸收处理，防止蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液被溅射或滴至玻璃基板上，减少因蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液导致的产品异常，改善玻璃基板上的Mura，提高产品生产良率，并且在该湿蚀刻设备的维护保养中，不需要设备作业人员手动对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，减少设备作业人员的工作量以及职业伤害；此外，由于减少了蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液，可以便于设备作业人员对蚀刻槽内部的检测与观察，提升制程参数获取的准确性。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种湿蚀刻设备，其特征在于，包括：蚀刻槽盖板(10)以及与所述蚀刻槽盖板(10)接触的液体吸收装置(20)；
所述液体吸收装置(20)用于吸收蚀刻槽盖板(10)上残留的蚀刻药液。
2.如权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述液体吸收装置(20)包括：驱动单元(21)、与所述驱动单元(21)连接的传动单元(22)以及与所述传动单元(22)连接的液体吸收单元(23)。
3.如权利要求2所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述驱动单元(21)包括电机(211)、与所述电机(211)连接的蜗杆(212)以及与所述蜗杆(212)连接的涡轮(213)。
4.如权利要求3所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述传动单元(22)包括与所述涡轮(213)连接的曲柄(221)、与所述曲柄(221)连接的连杆(222)、与所述连杆(222)连接的连接杆(223)以及与所述连接杆(223)连接的多个摆杆(224)。
5.如权利要求4所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述液体吸收单元(23)包括分别与多个摆杆(224)铰接的多个刮片器(231)，所述多个刮片器(231)与所述蚀刻槽盖板(10)接触。
6.如权利要求5所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述传动单元(22)还包括分别与多个摆杆(224)连接的多个铰链(225)，所述刮片器(231)与摆杆(224)通过铰链(225)连接。
7.如权利要求5所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述刮片器(231)的材料为氟化橡胶、铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
8.如权利要求4所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述曲柄(221)、连杆(222)、连接杆(223)及摆杆(224)的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
9.如权利要求6所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述铰链(225)的材料为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
10.如权利要求3所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述蜗杆(212)及涡轮(213)的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。
CN201810764873.8A 2018-07-12 2018-07-12 湿蚀刻设备 Pending CN109166809A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810764873.8A CN109166809A (zh) 2018-07-12 2018-07-12 湿蚀刻设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810764873.8A CN109166809A (zh) 2018-07-12 2018-07-12 湿蚀刻设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109166809A true CN109166809A (zh) 2019-01-08

Family

ID=64897738

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810764873.8A Pending CN109166809A (zh) 2018-07-12 2018-07-12 湿蚀刻设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109166809A (zh)

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000056482A (ko) * 1999-02-22 2000-09-15 윤종용 식각조 커버 클리닝 툴
US20050056307A1 (en) * 2003-09-03 2005-03-17 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate cleaning and drying apparatus
JP2006286823A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Sanyo Electric Co Ltd 結晶系半導体基板のエッチング方法
CN201793744U (zh) * 2010-09-29 2011-04-13 常州天合光能有限公司 太阳能电池链式湿法刻蚀设备的排风管口盖板
CN203005366U (zh) * 2013-01-07 2013-06-19 吉林大学 一种前侧窗雨刷机构
CN204011461U (zh) * 2014-09-05 2014-12-10 浙江晶科能源有限公司 一种处理溶液槽盖板滴液的气盘
CN104667559A (zh) * 2013-12-03 2015-06-03 昆山国显光电有限公司 一种刻蚀酸雾抽离器
CN104966690A (zh) * 2015-07-24 2015-10-07 京东方科技集团股份有限公司 刻蚀装置及其使用方法
CN105405798A (zh) * 2016-01-04 2016-03-16 京东方科技集团股份有限公司 一种刻蚀设备
CN205365416U (zh) * 2016-01-22 2016-07-06 山东科技大学 一种汽车后视镜雨刷装置
CN105826171A (zh) * 2016-04-28 2016-08-03 中国电子科技集团公司第四十五研究所 动密封旋转装置
CN205508851U (zh) * 2016-02-04 2016-08-24 尚德太阳能电力有限公司 防止湿法刻蚀槽滴液的装置
CN206619583U (zh) * 2017-02-21 2017-11-07 无锡德鑫太阳能电力有限公司 匹配链式扩散的防滴液刻蚀槽盖结构
CN107521460A (zh) * 2017-08-18 2017-12-29 芜湖乐普汽车科技有限公司 一种雨刮器的雨刷传动机构
CN207009462U (zh) * 2017-07-14 2018-02-13 浙江艾能聚光伏科技股份有限公司 一种硅片的刻蚀设备
CN207082513U (zh) * 2017-06-06 2018-03-09 天津宝兴威科技股份有限公司 一种用于湿法蚀刻槽的防滴液盖板

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000056482A (ko) * 1999-02-22 2000-09-15 윤종용 식각조 커버 클리닝 툴
US20050056307A1 (en) * 2003-09-03 2005-03-17 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate cleaning and drying apparatus
JP2006286823A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Sanyo Electric Co Ltd 結晶系半導体基板のエッチング方法
CN201793744U (zh) * 2010-09-29 2011-04-13 常州天合光能有限公司 太阳能电池链式湿法刻蚀设备的排风管口盖板
CN203005366U (zh) * 2013-01-07 2013-06-19 吉林大学 一种前侧窗雨刷机构
CN104667559A (zh) * 2013-12-03 2015-06-03 昆山国显光电有限公司 一种刻蚀酸雾抽离器
CN204011461U (zh) * 2014-09-05 2014-12-10 浙江晶科能源有限公司 一种处理溶液槽盖板滴液的气盘
CN104966690A (zh) * 2015-07-24 2015-10-07 京东方科技集团股份有限公司 刻蚀装置及其使用方法
CN105405798A (zh) * 2016-01-04 2016-03-16 京东方科技集团股份有限公司 一种刻蚀设备
CN205365416U (zh) * 2016-01-22 2016-07-06 山东科技大学 一种汽车后视镜雨刷装置
CN205508851U (zh) * 2016-02-04 2016-08-24 尚德太阳能电力有限公司 防止湿法刻蚀槽滴液的装置
CN105826171A (zh) * 2016-04-28 2016-08-03 中国电子科技集团公司第四十五研究所 动密封旋转装置
CN206619583U (zh) * 2017-02-21 2017-11-07 无锡德鑫太阳能电力有限公司 匹配链式扩散的防滴液刻蚀槽盖结构
CN207082513U (zh) * 2017-06-06 2018-03-09 天津宝兴威科技股份有限公司 一种用于湿法蚀刻槽的防滴液盖板
CN207009462U (zh) * 2017-07-14 2018-02-13 浙江艾能聚光伏科技股份有限公司 一种硅片的刻蚀设备
CN107521460A (zh) * 2017-08-18 2017-12-29 芜湖乐普汽车科技有限公司 一种雨刮器的雨刷传动机构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9586238B2 (en) Needle clean device and sealant coater having the device
CN103223413B (zh) 一种自动清洁玻璃表面的粘尘方法
JP2007047351A (ja) 液晶パネルの洗浄装置、及び液晶装置の製造方法
CN109166809A (zh) 湿蚀刻设备
TW201039931A (en) Cleansing apparatus and method for glass substrate
WO2016031614A1 (ja) 表示パネルの製造方法
EP2799926A1 (en) Array substrate, liquid crystal display device and alignment rubbing method
CN211634449U (zh) 一种消毒效果好的医疗器械消毒装置
DE112012006834T5 (de) Rahmenlose Flüssigkristallanzeigevorrichtung
CN110404852A (zh) 喷淋装置
CN207265015U (zh) 液帘分叉检测装置
CN104148306A (zh) 太阳能电池除尘设备
JP2019150801A (ja) 洗浄装置
WO2020019731A1 (zh) 一种液刀及采用该液刀的自动清洁方法
KR20060117663A (ko) 평판 디스플레이 제조를 위한 세정 브러시 유닛
CN217289690U (zh) 一种用于玻璃药瓶的擦拭装置
JP2012194402A (ja) 液晶素子、液晶表示装置
JP2017021241A (ja) 液晶材料の処理装置および処理方法、液晶表示パネルの製造方法、並びに液晶表示装置
CN109226149A (zh) 一种注射液瓶体清洁装置
KR100923531B1 (ko) 디스플레이 패널 세정롤러유닛 요동장치
US20140055773A1 (en) Method and device for inspecting glass substrate of liquid crystal display
CN110702693B (zh) 一种印染废水检测装置及其检测方法
CN209365639U (zh) 一种pi制程中网纹辊的清洗装置
CN105834180A (zh) 一种实验仪器清洗机
CN211160803U (zh) 一种模具升温装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information

Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Applicant after: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co.,Ltd.

Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd.

CB02 Change of applicant information
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20190108

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication