CN207009462U - 一种硅片的刻蚀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种硅片的刻蚀设备。它解决了现有刻蚀机的排风装置的结构过于简单，无法将槽内各处的酸性或碱性的雾气排出，清除效果差等技术问题。本硅片的刻蚀设备，包括机架，机架上固定有校正槽和刻蚀槽，机架上铰接有能将刻蚀槽开口封闭住的盖板，机架上设置有能将盖板处的雾气进行清除的清除机构，清除机构包括集液盒、刮板、导轨、滑块、抽风管和抽气泵，导轨水平固定在盖板中部，滑块设置在导轨上，滑块与一能带动其来回移动的移动结构相连，刮板通过连杆一和滑块相连，集液盒通过连杆二固定在滑块上，抽风管一端通过连杆三固定在滑块上，抽风管另一端穿出盖板与抽气泵相连。本实用新型具有清除效果好的优点。

Description

一种硅片的刻蚀设备

技术领域

本实用新型涉及一种刻蚀设备，特别是一种硅片的刻蚀设备。

背景技术

太阳能作为一种安全可靠、经济实惠且容易获得的绿色能源，正在被人们日益关注。因此，太阳能电池的一出现就得到了快速的发展，激烈的竞争使得行业的研究者对如何提高转换效率、降低生产成本展开探索。

太阳能电池原理主要是以半导体材料硅为基体，利用扩散工艺在硅晶体中掺入杂质继而形成电势差，从而形成了太阳能电池。太阳能电池需要一个大面积的PN结以实现光能到电能的转换，而扩散炉即为制造太阳能电池PN结的专用设备。在扩散工序中由于气流的关系，不可避免地在硅片的非扩散面边缘同样形成N区，从而导致硅片短路。因此，需要在扩散后增加一步刻蚀工艺，将硅片上下表面隔断。所以刻蚀技术是太阳能电池片制造工艺中一项相当重要的步骤。

经检索，如中国专利文献公开了一种用于湿刻蚀机的排风装置【申请号：201220106718.5；公开号：CN 202576567U】。这种用于湿刻蚀机的排风装置，其特征在于，包括槽盖、观察窗和槽体，槽盖设于槽体上，在槽盖上设有观察窗，其特征在于，伸缩管下端垂直设于槽盖的定位孔上，调节阀设于伸缩管的下端。

该专利中公开的刻蚀机的排风装置虽然可以提高硅片方阻的均匀性，但是，该刻蚀机的排风装置的结构过于简单，无法将槽内各处的酸性或碱性的雾气排出，清除效果差，因此，设计出一种硅片的刻蚀设备是很有必要的。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种硅片的刻蚀设备，该刻蚀设备具有清除效果好的特点。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种硅片的刻蚀设备，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有校正槽和刻蚀槽，校正槽内具有用于输送硅片的若干输送辊一，刻蚀槽内具有用于输送硅片的若干输送辊二，机架上铰接有能将刻蚀槽开口封闭住的盖板，盖板的截面呈倒V形，机架上设置有能将盖板处的雾气进行清除的清除机构，清除机构包括集液盒、刮板、导轨、滑块、抽风管和抽气泵，导轨水平固定在盖板中部，滑块设置在导轨上，滑块与一能带动其来回移动的移动结构相连，刮板通过连杆一和滑块相连，且刮板与盖板内壁相接触，集液盒通过连杆二固定在滑块上，且集液盒位于刮板正下方，抽风管一端通过连杆三固定在滑块上，抽风管另一端穿出盖板与抽气泵相连，抽风管上还设置有单向阀。

本实用新型的工作原理如下：刻蚀槽工作的过程中会形成酸性或碱性的雾气，通过移动结构带动滑块沿着导轨来回移动，滑块带动刮板来回移动，刮板将盖板上的酸性或碱性液体刮掉，并收集在集液盒中，同时，开启抽气泵，通过抽风管将盖板处的酸性或碱性气体抽走，可将盖板各处的雾气去除，清除效果好。

所述移动结构包括驱动电机、齿轮和齿条，齿条水平固定在导轨上，驱动电机固定在滑块上，驱动电机的输出轴水平设置，齿轮固定在驱动电机的输出轴端部，且齿轮与齿条相啮合。

当需要使滑块来回移动时，控制驱动电机的输出轴转动，驱动电机的输出轴带动齿轮转动，齿轮逐渐与齿条相啮合使滑块沿着导轨来回移动，从而可使滑块来回移动。

所述集液盒下部还连接有排液管，排液管上设置有电磁阀。

采用以上结构，通过排液管可方便将集液盒中的液体排出。

所述机架上设置有能对校正槽内的硅片进行喷淋的喷淋机构，喷淋机构包括喷淋管和调节辊，喷淋管通过支架固定在机架上，且喷淋管位于校正槽的正上方，喷淋管侧部开设有若干喷水孔，调节辊设置在校正槽内，且调节辊与输送辊一相互平行，调节辊与一能带动其上下升降的升降结构相连。

当需要对校正槽内的硅片进行喷淋时，通过喷淋管将水喷在硅片的上表面，通过升降结构带动调节辊上下移动，将其调节到所需位置，通过调节辊使硅片在行进过程中呈起伏状态，将水膜均匀的覆盖在硅片的上表面，喷淋效果好。

所述升降结构包括安装架、推杆电机、导杆和导套，安装架固定在机架上，导杆竖直固定在安装架上，导套设置在导杆上，调节辊连接在导套上，推杆电机固定在安装架上，推杆电机的推杆竖直向下，推杆电机的推杆端部和导套相连。

当需要使调节辊上下移动，控制推杆电机的推杆上下移动，推杆电机的推杆带动导套沿着导杆上下移动，导套带动调节辊上下移动，从而可使调节辊上下移动。

所述机架上还设置有能对刻蚀槽内进行补液的补液机构，补液机构包括配液桶、进液管和补液管，配液桶固定在机架上，配液桶上部和进液管一端相连通，进液管另一端能与外界相连通，进液管上还设置有输送泵一，配液桶下部和补液管一端相连通，补液管另一端和刻蚀槽相连通，补液管上还设置有输送泵二，配液桶上竖直设置有转动轴，转动轴上端与减速电机相连，转动轴下端固定有三个分隔片，且分隔片将配液桶内腔分隔成三个配液腔，分隔片上还固定有搅拌电机，搅拌电机的输出轴端部固定有搅拌叶片。

采用以上结构，通过分隔片将配液桶内腔分隔成三个配液腔，即可实现同时输入原料、搅拌原料和输出成品料，减少了等待所需的时间，可实现即配即用。

与现有技术相比，本硅片的刻蚀设备具有该优点：本实用新型中通过驱动电机使滑块沿着导轨来回移动，滑块带动刮板来回移动，刮板将盖板上的酸性或碱性液体刮掉，并收集在集液盒中，同时，开启抽气泵，通过抽风管将盖板处的酸性或碱性气体抽走，可将盖板各处的雾气去除，清除效果好。

附图说明

图1是本实用新型的平面结构示意图。

图2是本实用新型中清除机构的平面结构示意图。

图3是本实用新型中升降结构的平面结构示意图。

图4是本实用新型中补液机构的平面结构示意图。

图中，1、机架；2、校正槽；3、输送辊一；4、刻蚀槽；5、输送辊二；6、进液管；7、输送泵一；8、配液桶；9、补液管；10、输送泵二；11、转动轴；12、减速电机；13、盖板；14、调节辊；15、喷淋管；16、电磁阀；17、排液管；18、集液盒；19、连杆二；20、连杆三；21、抽风管；22、单向阀；23、抽气泵；24、导轨；25、滑块；26、驱动电机；27、齿条；28、齿轮；29、连杆一；31、刮板；32、安装架；33、推杆电机；34、导杆；35、导套；36、分隔片；37、搅拌电机；38、搅拌叶片。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。

如图1-图4所示，本硅片的刻蚀设备，包括机架1，机架1上固定有校正槽2和刻蚀槽4，校正槽2内具有用于输送硅片的若干输送辊一3，在本实施例中，输送辊一3的数量为五根，输送辊一3转动的动力采用的是现有技术；刻蚀槽4内具有用于输送硅片的若干输送辊二5，在本实施例中，输送辊二5的数量为二十根，输送辊二5转动的动力采用的是现有技术；机架1上铰接有能将刻蚀槽4开口封闭住的盖板13，盖板13的截面呈倒V形，机架1上设置有能将盖板13处的雾气进行清除的清除机构，清除机构包括集液盒18、刮板31、导轨24、滑块25、抽风管21和抽气泵23，导轨24水平固定在盖板13中部，在本实施例中，导轨24通过螺栓连接的方式固定在盖板13中部；滑块25设置在导轨24上，滑块25与一能带动其来回移动的移动结构相连，刮板31通过连杆一29和滑块25相连，且刮板31与盖板13内壁相接触，集液盒18通过连杆二19固定在滑块25上，且集液盒18位于刮板31正下方，抽风管21一端通过连杆三20固定在滑块25上，抽风管21另一端穿出盖板13与抽气泵23相连，抽风管21上还设置有单向阀22。

移动结构包括驱动电机26、齿轮28和齿条27，齿条27水平固定在导轨24上，在本实施例中，齿条27通过螺栓连接的方式固定在导轨24上；驱动电机26固定在滑块25上，在本实施例中，驱动电机26通过螺栓连接的方式固定在滑块25上；驱动电机26的输出轴水平设置，齿轮28固定在驱动电机26的输出轴端部，且齿轮28与齿条27相啮合。

集液盒18下部还连接有排液管17，排液管17上设置有电磁阀16。

采用该结构，通过排液管17可方便将集液盒18中的液体排出。

机架1上设置有能对校正槽2内的硅片进行喷淋的喷淋机构，喷淋机构包括喷淋管15和调节辊14，喷淋管15通过支架固定在机架1上，且喷淋管15位于校正槽2的正上方，喷淋管15侧部开设有若干喷水孔，在本实施例中，喷水孔的数量为十个；调节辊14设置在校正槽2内，且调节辊14与输送辊一3相互平行，调节辊14与一能带动其上下升降的升降结构相连。

升降结构包括安装架32、推杆电机33、导杆34和导套35，安装架32固定在机架1上，在本实施例中，安装架32通过螺栓连接的方式固定在机架1上；导杆34竖直固定在安装架32上，在本实施例中，导杆34通过螺栓连接的方式固定在安装架32上；导套35设置在导杆34上，调节辊14连接在导套35上，推杆电机33固定在安装架32上，推杆电机33的推杆竖直向下，推杆电机33的推杆端部和导套35相连。

机架1上还设置有能对刻蚀槽4内进行补液的补液机构，补液机构包括配液桶8、进液管6和补液管9，配液桶8固定在机架1上，在本实施例中，配液桶8通过螺栓连接的方式固定在机架1上；配液桶8上部和进液管6一端相连通，进液管6另一端能与外界相连通，进液管6上还设置有输送泵一7，配液桶8下部和补液管9一端相连通，补液管9另一端和刻蚀槽4相连通，补液管9上还设置有输送泵二10，配液桶8上竖直设置有转动轴11，转动轴11上端与减速电机12相连，转动轴11下端固定有三个分隔片36，且分隔片36将配液桶8内腔分隔成三个配液腔，分隔片36上还固定有搅拌电机37，搅拌电机37的输出轴端部固定有搅拌叶片38。

采用该结构，通过分隔片36将配液桶8内腔分隔成三个配液腔，即可实现同时输入原料、搅拌原料和输出成品料，减少了等待所需的时间，可实现即配即用。

本实用新型的工作原理如下：刻蚀槽4工作的过程中会形成酸性或碱性的雾气，控制驱动电机26的输出轴转动，驱动电机26的输出轴带动齿轮28转动，齿轮28逐渐与齿条27相啮合使滑块25沿着导轨24来回移动，滑块25带动刮板31来回移动，刮板31将盖板13上的酸性或碱性液体刮掉，并收集在集液盒18中，同时，开启抽气泵23，通过抽风管21将盖板13处的酸性或碱性气体抽走，可将盖板13各处的雾气去除；

当需要对校正槽2内的硅片进行喷淋时，通过喷淋管15将水喷在硅片的上表面，控制推杆电机33的推杆上下移动，推杆电机33的推杆带动导套35沿着导杆34上下移动，导套35带动调节辊14上下移动，将其调节到所需位置，通过调节辊14使硅片在行进过程中呈起伏状态，将水膜均匀的覆盖在硅片的上表面。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

Claims (6)

1.一种硅片的刻蚀设备，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有校正槽和刻蚀槽，校正槽内具有用于输送硅片的若干输送辊一，刻蚀槽内具有用于输送硅片的若干输送辊二，机架上铰接有能将刻蚀槽开口封闭住的盖板，盖板的截面呈倒V形，机架上设置有能将盖板处的雾气进行清除的清除机构，清除机构包括集液盒、刮板、导轨、滑块、抽风管和抽气泵，导轨水平固定在盖板中部，滑块设置在导轨上，滑块与一能带动其来回移动的移动结构相连，刮板通过连杆一和滑块相连，且刮板与盖板内壁相接触，集液盒通过连杆二固定在滑块上，且集液盒位于刮板正下方，抽风管一端通过连杆三固定在滑块上，抽风管另一端穿出盖板与抽气泵相连，抽风管上还设置有单向阀。

2.根据权利要求1所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述移动结构包括驱动电机、齿轮和齿条，齿条水平固定在导轨上，驱动电机固定在滑块上，驱动电机的输出轴水平设置，齿轮固定在驱动电机的输出轴端部，且齿轮与齿条相啮合。

3.根据权利要求1所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述集液盒下部还连接有排液管，排液管上设置有电磁阀。

4.根据权利要求1所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述机架上设置有能对校正槽内的硅片进行喷淋的喷淋机构，喷淋机构包括喷淋管和调节辊，喷淋管通过支架固定在机架上，且喷淋管位于校正槽的正上方，喷淋管侧部开设有若干喷水孔，调节辊设置在校正槽内，且调节辊与输送辊一相互平行，调节辊与一能带动其上下升降的升降结构相连。

5.根据权利要求4所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述升降结构包括安装架、推杆电机、导杆和导套，安装架固定在机架上，导杆竖直固定在安装架上，导套设置在导杆上，调节辊连接在导套上，推杆电机固定在安装架上，推杆电机的推杆竖直向下，推杆电机的推杆端部和导套相连。

6.根据权利要求5所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述机架上还设置有能对刻蚀槽内进行补液的补液机构，补液机构包括配液桶、进液管和补液管，配液桶固定在机架上，配液桶上部和进液管一端相连通，进液管另一端能与外界相连通，进液管上还设置有输送泵一，配液桶下部和补液管一端相连通，补液管另一端和刻蚀槽相连通，补液管上还设置有输送泵二，配液桶上竖直设置有转动轴，转动轴上端与减速电机相连，转动轴下端固定有三个分隔片，且分隔片将配液桶内腔分隔成三个配液腔，分隔片上还固定有搅拌电机，搅拌电机的输出轴端部固定有搅拌叶片。